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51. 发明申请

WO2011016255A1 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法和装置制造方法
公开(公告)号：WO2011016255A1
公开(公告)日：2011-02-10
申请号：PCT/JP2010/004972
申请日：2010-08-06
申请人：株式会社ニコン , 柴崎祐一
发明人：柴崎　祐一
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70866 , G03F7/7015 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70825 , G03F7/70841 , G03F7/70875 , G03F7/70933 , G03F7/70975
摘要：　照明ユニット（ＩＯＰ）に上端が接続され、下端部にレチクルステージ（ＲＳＴ）及びレチクル（Ｒ）の上面に所定のクリアランスを介して対向する一対のプレート部（８２３，８２４）を有するパージカバー（８０）を備えている。このため、レチクルステージ（ＲＳＴ）とプレート部（８２３，８２４）との間のクリアランスを介してガスの流通をほぼ阻止することができる。これにより、パージカバーと、レチクルステージ及び／又はレチクルとで囲まれるほぼ気密状態の空間を照明ユニットから投影光学系に至る照明光（ＩＬ）の光路上に形成することができる。また、上記のほぼ気密状態の空間が、ＣＤＡなどでパージされるパージ空間とされている。
摘要翻译：曝光装置包括清洗盖（80），其具有连接到照明单元（IOP）的上端，并且在其下端设置有面向一个的上表面的一对板部分（823,824）标线片（R）和标线片台（RST）之间具有预定的间隙。结果，可以基本上防止气体通过标线片载物台（RST）和板部分（823,824）之间的间隙的流动。该构造使得能够在由照明单元导向投影光学系统的照明光（IL）的光路中形成由净化盖和标线片台和/或标线片包围的基本上气密的空间。此外，基本上气密的空间适于作为由CDA等清洗的净化空间。

52. 发明申请

WO2010082475A1 ステージ装置、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：舞台设备，曝光装置，曝光方法和装置制造方法
公开(公告)号：WO2010082475A1
公开(公告)日：2010-07-22
申请号：PCT/JP2010/000130
申请日：2010-01-13
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之 , 白田陽介
发明人：長坂博之 , 白田陽介
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/68
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , H01L21/67248 , H01L21/68785
摘要：　ステージ装置は、可動部材と、可動部材の表面に配置された少なくとも一つの開口から可動部材の内部に形成された流路に流体が流入するように、開口を介して開口の周囲の流体を吸引して、可動部材の少なくとも一部の温度調整を実行する温度調整装置とを備えている。
摘要翻译：公开了一种舞台设备，包括：具有形成在其表面中的至少一个孔的可动构件; 以及温度调节装置，其通过所述孔的所述孔周边的流体的抽吸来调节所述可动构件的至少一部分的温度，使得所述流体从所述至少一个流体流入形成在所述可动构件内的流路可动构件的孔。

53. 发明申请

WO2009078422A1 ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：阶段装置，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：WO2009078422A1
公开(公告)日：2009-06-25
申请号：PCT/JP2008/072941
申请日：2008-12-17
申请人：株式会社ニコン , 柴崎祐一
发明人：柴崎祐一
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/68
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/707
摘要：　ステージ装置は、露光光が照射されるマスクを保持して所定面に沿って移動する移動体（２８）と、前記移動体の移動に実質的に伴って移動する流れ制御部であって、それによって前記マスクの近傍における気体の流れが制御される前記流れ制御部（５０）と、を備える。
摘要翻译：舞台装置设置有可移动体（28），该移动体保持要被曝光的照射并沿着规定的表面移动的面罩;以及流动控制部分（50），其基本上随着可动体的移动而移动，控制面罩附近的气流。

54. 发明申请

WO2008123332A1 HOLDING APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
标题翻译：控制装置，曝光装置，曝光方法和装置制造方法
公开(公告)号：WO2008123332A1
公开(公告)日：2008-10-16
申请号：PCT/JP2008/055810
申请日：2008-03-19
申请人： NIKON CORPORATION , YAMAMOTO, Hajime
发明人： YAMAMOTO, Hajime
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70733 , G03F7/707 , G03F7/70708 , G03F7/70783 , G03F7/70875
摘要： A holding apparatus (2) is provided with a holding member (20) that has a holding surface (19) that holds a substrate (P) on which a pattern is to be formed, a plurality of first electrode members (3) that are provided on the holding member and that generate electrostatic force in accordance with supplied voltage in order to attract the substrate to the holding surface, and a power supply device (22) that is able to supply voltage to the first electrode members. The first electrode members are positioned in accordance with pattern information.
摘要翻译：保持装置（2）设置有保持构件（20），该保持构件具有保持形成有图案的基板（P）的保持面（19），多个第一电极构件（3）设置在所述保持构件上，并且根据所提供的电压产生静电力，以便将所述衬底吸引到所述保持表面;以及电源装置（22），其能够向所述第一电极构件提供电压。第一电极构件根据图案信息定位。

55. 发明申请

WO2008072031A2 APPARATUS FOR COOLING 审中-公开
标题翻译：冷却装置
公开(公告)号：WO2008072031A2
公开(公告)日：2008-06-19
申请号：PCT/IB2006/004286
申请日：2006-11-16
申请人： ASML NETHERLANDS B.V. , HOL, Sven Antoin Johan , DE KLERK, Angelo Cesar Peter , LOOPSTRA, Erik, Roelof , JACOBS, Fransicus Mathijs , SCHOLTEN, Mark
发明人： HOL, Sven Antoin Johan , DE KLERK, Angelo Cesar Peter , LOOPSTRA, Erik, Roelof , JACOBS, Fransicus Mathijs , SCHOLTEN, Mark
CPC分类号： G03F7/70875 , F28D11/02 , G03F7/70758 , H02K9/22 , H02N13/00
摘要： A cooling apparatus is disclosed that has a first cooling structure, in thermal contact with a heat source having a temperature greater than a cool structure, comprising a channel through which a cooling fluid is passed, an isolator between the heat source and the cool structure, the isolator in thermal contact with the first cooling structure and comprising a material of low thermal conductivity, and a second cooling structure between the isolator and the cool structure, the second cooling structure comprising a channel through which cooling fluid is passed.
摘要翻译：公开了一种冷却装置，其具有与具有大于冷结构的温度的热源热接触的第一冷却结构，包括冷却流体通过的通道，在热源和冷结构之间的隔离器，所述隔离器与所述第一冷却结构热接触并且包括低导热性的材料，以及在所述隔离器和所述冷结构之间的第二冷却结构，所述第二冷却结构包括冷却流体通过的通道。

56. 发明申请

WO2008004646A1 EXPOSURE APPARATUS THAT INCLUDES A PHASE CHANGE CIRCULATION SYSTEM FOR MOVERS 审中-公开
标题翻译：包括用于移动器的相变循环系统的曝光装置
公开(公告)号：WO2008004646A1
公开(公告)日：2008-01-10
申请号：PCT/JP2007/063532
申请日：2007-06-29
申请人： NIKON CORPORATION , NOVAK, Thomas, W. , BINNARD, Michale, B. , POON, Alex Ka Tim , TOTSU, Masahiro , KHO, Leonard Wai Fung , KESWANI, Gaurav
发明人： NOVAK, Thomas, W. , BINNARD, Michale, B. , POON, Alex Ka Tim , TOTSU, Masahiro , KHO, Leonard Wai Fung , KESWANI, Gaurav
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/70758 , H01L21/67248 , H01L21/68 , H02K9/20 , H02K41/02
摘要： A mover combination (226) for moving and positioning a device (34) includes a mover (328) that defines a fluid passageway (370) and a circulation system (330) having a passageway inlet (374) and a passageway outlet (376). The circulation system (330) directs a circulation fluid (378) into the fluid passageway (370). The circulation system (330) can include a liquid/gas separator (384) that is in fluid communication with the fluid passageway (370). With this design, the plumbing for the liquid (378A) and the gas (378B) can each be optimized. Additionally, the circulation system (330) can include a pressure control device (388) that controls the pressure of the circulation fluid (378) in at least a portion of the fluid passageway (370). With this design, the pressure control device (388) controls the pressure of the circulation fluid (378) near the fluid passageway (370) so that the temperature of the circulation fluid (378) at the passageway outlet (376) is approximately equal to the temperature of the circulation fluid (378) at the passageway inlet (374). Moreover, the circulation system (930) can include a pump assembly (980) that directs the circulation fluid (978) into the passageway inlet (974), and a pressure control device (996) that precisely controls a state of the circulation fluid (978) near the passageway inlet (974). With this design, the phase of the circulation fluid (978) at the passageway inlet (974) can be precisely controlled without restricting the flow of the circulation fluid (978).
摘要翻译：用于移动和定位装置（34）的移动器组合（226）包括限定流体通道（370）的移动器（328）和具有通道入口（374）和通道出口（376）的循环系统（330）。循环系统（330）将循环流体（378）引导到流体通道（370）中。循环系统（330）可以包括与流体通道（370）流体连通的液体/气体分离器（384）。通过这种设计，可以优化液体（378A）和气体（378B）的管道。另外，循环系统（330）可以包括控制流体通道（370）的至少一部分中的循环流体（378）的压力的压力控制装置（388）。通过该设计，压力控制装置（388）控制流体通道（370）附近的循环流体（378）的压力，使得通道出口（376）处的循环流体（378）的温度近似等于在通道入口（374）处的循环流体（378）的温度。此外，循环系统（930）可以包括引导循环流体（978）进入通道入口（974）的泵组件（980）和精确地控制循环流体状态的压力控制装置（996） 978）在通道入口附近（974）。通过这种设计，可以精确地控制在通道入口（974）处的循环流体（978）的相位，而不限制循环流体（978）的流动。

57. 发明申请

WO2007123189A1 露光装置及び露光方法並びにデバイスの製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法和装置生产方法
公开(公告)号：WO2007123189A1
公开(公告)日：2007-11-01
申请号：PCT/JP2007/058581
申请日：2007-04-20
申请人：株式会社ニコン , 鈴木広介
发明人：鈴木広介
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/70225 , G03F7/70258 , G03F7/70783
摘要：　露光装置は、マスク（Ｒ）のパターンを所定の投影倍率で基板（Ｗ）上の所定の露光領域に投影する投影光学系（ＰＬ）を備える。投影光学系（ＰＬ）の光軸中心は、パターンが投影される投影領域（３３）の中心と異なる位置に設定されている。露光装置はさらに、投影光学系（ＰＬ）の投影倍率を変更する倍率変更装置（ＬＣ）と、投影倍率の変更に伴う投影領域の中心のずれ量を算出する算出装置（２３）と、投影領域の中心のずれ量に基づいて、露光領域の位置情報を補正する補正装置とを有する。
摘要翻译：曝光装置具有投影光学系统（PL），用于通过使用预定的投影放大率将掩模（R）的图案投影在基板（W）上的预定曝光区域上。投影光学系统（PL）的光轴的中心设定在与投影图案的投影区域（33）的中心不同的位置。曝光装置还具有用于改变投影光学系统（PL）的投影放大率的放大率改变装置（LC），用于计算由变化引起的投影区域的中心位移量的计算装置（23）以及用于基于投影区域的中心的位移量来校正关于曝光区域的位置的信息的校正装置。

58. 发明申请

WO2007066687A1 温度計測方法、露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：温度测量方法，曝光方法，曝光装置和制造装置的方法
公开(公告)号：WO2007066687A1
公开(公告)日：2007-06-14
申请号：PCT/JP2006/324361
申请日：2006-12-06
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之
发明人：長坂博之
IPC分类号： H01L21/027 , G01B11/00 , G03F7/20
CPC分类号： G01J5/0003 , G03F7/70875
摘要：　露光装置は、基板Ｐを保持する保持部材（１０）と、保持部材（１０）からの検出光（２１Ｌ）受光することによって、保持部材（１０）の温度情報を光学的に取得する検出装置（２０）とを備えている。
摘要翻译：公开了一种曝光装置，包括：用于保持基板（P）的保持构件（10）;以及感测单元（20），用于通过接收从所述保持构件（21）的感测光保持构件（10）。

59. 发明申请

WO2007005196A2 SCALABLE UNIFORM THERMAL PLATE 审中-公开
标题翻译：可伸缩的均匀热板
公开(公告)号：WO2007005196A2
公开(公告)日：2007-01-11
申请号：PCT/US2006/022449
申请日：2006-06-07
申请人： SUKUDO CO., LTD. , LUE, Brian, C.
发明人： LUE, Brian, C.
IPC分类号： H01L21/00
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/707 , H01L21/67109
摘要： Temperature of a processed workpiece may be regulated by flowing a thermal control fluid from a thermal source to a thermal drain, in a direction substantially normal to the plane occupied by the workpiece. This flow orientation ensures that any resulting temperature gradient in the thermal control fluid is also positioned substantially normal to the substrate, thereby avoiding processing variation in different areas of the workpiece attributable to an in-plane gradient. The thermal control fluid may be flowed from a common source to a plurality of pixel-like regions proximate to the workpiece, in order to ensure uniform temperature control. Use of such pixel-like regions promotes scalability of the temperature control apparatus.
摘要翻译：处理过的工件的温度可以通过使热控制流体从热源流动到热排放来调节，其方向基本上垂直于由工件占据的平面。该流动取向确保了热控制流体中的任何产生的温度梯度也基本垂直于衬底定位，从而避免了由于面内梯度引起的工件不同区域中的加工变化。为了确保均匀的温度控制，热控制流体可以从共同的源流到靠近工件的多个像素状区域。使用这样的像素区域促进了温度控制装置的可扩展性。

60. 发明申请

WO2005076324A1 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法和装置的制造方法
公开(公告)号：WO2005076324A1
公开(公告)日：2005-08-18
申请号：PCT/JP2005/001990
申请日：2005-02-03
申请人：株式会社ニコン , 小林直行 , 大和壮一 , 蛭川茂 , 大村泰弘
发明人：小林直行 , 大和壮一 , 蛭川茂 , 大村泰弘
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/2041 , G03F7/70341 , G03F7/7075 , G03F7/70891
摘要：　露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して基板Ｐ上に露光光ＥＬを照射して基板Ｐを露光する。露光装置ＥＸは、基板Ｐを保持する基板ホルダＰＨを有し、この基板ホルダＰＨに基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージＰＳＴと、基板ホルダＰＨの温度調整を行う温調システム６０とを備えている。基板Ｐの温度を、液体ＬＱとの温度差が生じないように制御して、液体ＬＱの温度変化による露光精度の低下を防止する。
摘要翻译：曝光装置（EX）通过液体（LQ）在基板（P）上照射曝光光（EL））来曝光基板（P）。曝光装置（EX）具有用于保持基板（P）的基板支架（PH），能够移动由基板支架（PH）保持的基板（P）的基板载台（PST）和温度调节系统 60），用于调节衬底保持器（PH）的温度。基板（P）的温度被控制为与液体（LQ）不具有温度差，从而防止由液体（LQ）的温度变化引起的曝光精度的降低。

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