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1. 发明申请

WO2007077875A1 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法和装置生产方法
公开(公告)号：WO2007077875A1
公开(公告)日：2007-07-12
申请号：PCT/JP2006/326063
申请日：2006-12-27
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之
发明人：長坂博之
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70283 , G03F1/70 , G03F7/70208 , G03F7/70275
摘要：露光装置ＥＸは、露光光ＥＬを射出する光源装置１と、光源装置１から射出された露光光ＥＬを第１露光光ＥＬ１と第２露光光ＥＬ２とに分離する分離光学系１３を有し、第１露光光ＥＬ１で第１パターンＰＡ１を照明するとともに第２露光光ＥＬ２で第２パターンＰＡ２を照明する照明系ＩＬとを備え、第１パターンＰＡ１からの第１露光光ＥＬ１と第２パターンＰＡ２からの第２露光光ＥＬ２とを基板Ｐ上の所定領域に照射することによって、基板Ｐ上の所定領域を多重露光する。
摘要翻译：曝光装置（EX）具有用于发射曝光光的光源装置（1），用于将曝光光（EL）分离为第一曝光光（EL1）和第二曝光光（EL2）的分离光学系统（13））和第一曝光光（EL1）照亮第一图案（PA1）并且第二曝光光（EL2）照亮第二图案（PA2）的照明系统（IL）。来自第一图案（PA1）的第一照明光（EL1）和来自第二图案（PA2）的第二照明光（EL2）被施加到基板（P）上的预定区域以乘以暴露预定区域。

2. 发明申请

WO2007034838A1 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法和装置制造方法
公开(公告)号：WO2007034838A1
公开(公告)日：2007-03-29
申请号：PCT/JP2006/318645
申请日：2006-09-20
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之
发明人：長坂博之
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341
摘要：　露光装置（ＥＸ）は、露光光（ＥＬ）が射出される凹面を有する光学素子（ＬＳ１）と、前記露光光（ＥＬ）の光路を囲むように設けられた面（２０）とを備える。液浸領域（ＬＲ）の液体（ＬＱ）の界面（ＬＧ）が、前記露光光（ＥＬ）が照射可能な位置に配置された物体（Ｐ）と前記面（２０）との間に保持される。
摘要翻译：曝光装置（EX）包括具有发射曝光（EL）的凹面的光学元件（LS1）和围绕曝光光（EL）的光路设置的平面（20）。浸液区域（LR）的液体（LQ）的界面（LG）被保持在布置在可以施加曝光光（EL）的位置处的物体（P）和平面（20）之间。

3. 发明申请

WO2006106832A1 露光条件の決定方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：用于确定接触条件的方法，曝光方法，曝光装置和用于生产装置的装置
公开(公告)号：WO2006106832A1
公开(公告)日：2006-10-12
申请号：PCT/JP2006/306675
申请日：2006-03-30
申请人：株式会社ニコン , 木田佳己 , 長坂博之
发明人：木田佳己 , 長坂博之
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7055 , G03F7/70341 , G03F7/7085
摘要：　基板（Ｐ）の表面に形成される液浸領域（ＬＲ）の状態を、基板（Ｐ）の移動条件及び液浸領域（ＬＲ）を形成するときの液浸条件の少なくとも一方を変えつつ検出し、その検出結果に基づいて露光条件を決定する。
摘要翻译：在形成液浸区域（LR）时，基板（P）的移动条件或液浸条件的至少任一种，检测在基板（P）的表面上形成的液浸区域（LR）的状态。根据检测结果确定曝光条件。

4. 发明申请

WO2005124833A1 露光装置及びその部材の洗浄方法、露光装置のメンテナンス方法、メンテナンス機器、並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光装置部件清洁方法，曝光装置维护方法，维护装置和装置制造方法
公开(公告)号：WO2005124833A1
公开(公告)日：2005-12-29
申请号：PCT/JP2005/011305
申请日：2005-06-21
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之 , 白石健一 , 大和壮一 , 蛭川茂
发明人：長坂博之 , 白石健一 , 大和壮一 , 蛭川茂
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70916 , G03F7/70341 , G03F7/7085 , G03F7/70925
摘要：　露光装置ＥＸＳは、投影光学系ＰＬの像面側に液体ＬＱの液浸領域ＡＲ２を形成し、投影光学系ＰＬと液浸領域ＡＲ２の液体ＬＱとを介して基板Ｐを露光する。露光装置ＥＸＳが有する光洗浄装置８０は、液浸領域ＡＲ２を形成するための液体ＬＱに接触する基板ステージＰＳＴの上面３１などに光洗浄効果を有する所定の照射光Ｌｕを照射する。液浸領域の液体に接触する部材の汚染に起因する露光精度及び計測精度の劣化を防止できる。
摘要翻译：曝光装置EXS在投影光学系统PL的像面侧形成液体LQ的浸渍区域AR2，经由投影光学系统PL和浸渍区域AR2的液体LQ进行基板P的曝光。曝光装置EXS具有光学清洁装置（80），该光学清洁装置（80）将用于衬底载台PST的上表面（31）的具有光学清洁效果的预定照射光Lu施加到用于形成浸没区域AR2的液体LQ。因此，可以防止由于与浸没区域中的液体接触的部件的污染而引起的曝光精度和测量精度的劣化。

5. 发明申请

WO2005122221A1 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法和装置制造方法
公开(公告)号：WO2005122221A1
公开(公告)日：2005-12-22
申请号：PCT/JP2005/010576
申请日：2005-06-09
申请人：株式会社ニコン , 株式会社ニコンエンジニアリング , 長坂博之 , 奥山猛
发明人：長坂博之 , 奥山猛
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70883 , G03F7/70341 , G03F7/70833 , G03F7/7085
摘要：　露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して基板Ｐ上に露光光ＥＬを照射して、基板Ｐを露光する。露光装置ＥＸは液体ＬＱを供給するとともに液体ＬＱを回収する液浸機構１を備える。液浸機構１は、基板Ｐの表面と対向し且つ基板Ｐの表面に傾斜する斜面２を有し、液浸機構１の液体回収口２２が、斜面２に形成されている。また、基板Ｐと投影光学系ＰＬとの間に平坦部７５を有する。液浸領域を小さく維持することができる。
摘要翻译：曝光设备（EX）通过投影光学系统（PL）和液体（LQ）用曝光灯（EL）照射板（P）来暴露板（P）。曝光设备（EX）设置有用于供应液体（LQ）并回收液体（LQ）的浸液机构（1）。浸液机构（1）具有面向板（P）的前面并相对于基板（P）的前面倾斜的倾斜面（2），并且液体回收口在倾斜平面（2）上形成浸液机构（1）。平板部（75）设置在基板（P）和投影光学系统（PL）之间。液浸区域可以保持较小。

6. 发明申请

WO2005104195A1 露光装置及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置和装置的制造方法
公开(公告)号：WO2005104195A1
公开(公告)日：2005-11-03
申请号：PCT/JP2005/007261
申请日：2005-04-14
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之 , 河野博高 , 西井康文
发明人：長坂博之 , 河野博高 , 西井康文
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/2041
摘要：　液浸領域を形成するための液体供給動作及び液体回収動作を良好に行い、液浸領域を所望状態に形成して、高い露光精度及び計測精度を得ることができる露光装置を提供する。露光装置ＥＸは、液体（ＬＱ）を介して露光光（ＥＬ）を基板（Ｐ）上に照射することによって、基板（Ｐ）を露光するものであって、基板（Ｐ）表面と略平行に液体（ＬＱ）を供給可能な供給口（１３）を有する液体供給機構（１０）を備えている。
摘要翻译：优选进行用于形成液浸区域的液体供给操作和液体回收操作以在期望条件下形成液浸区域的曝光装置，从而能够实现高曝光精度和测量精度。曝光装置（EX）是通过液体（LQ）将衬底（P）上的曝光光（EL）曝光于衬底（P）的装置。曝光装置具有液体供给机构（10），该液体供给机构（10）具有能够在与基板（P）的表面大致平行的方向上供给液体（LQ）的供给口（13）。

7. 发明申请

WO2005069355A1 露光装置及びデバイスの製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置和装置的制造方法
公开(公告)号：WO2005069355A1
公开(公告)日：2005-07-28
申请号：PCT/JP2005/000228
申请日：2005-01-12
申请人：株式会社ニコン , 辻寿彦 , 白石健一 , 長坂博之 , 中野勝志
发明人：辻寿彦 , 白石健一 , 長坂博之 , 中野勝志
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/70775
摘要：　投影光学系と基板との距離が近接している場合であっても、容易に投影光学系と基板或いは基板ステージとの衝突を回避することができる露光装置を提供する。マスク（Ｒ）に形成されたパターン（ＰＡ）を基板（Ｗ）上に投影して転写する投影光学系（３０）と、投影光学系（３０）の下方に配置され、基板（Ｗ）を支持しつつ投影光学系（３０）の光軸（ＡＸ）方向に略直交する方向に移動する基板ステージ（４２）とを有する露光装置ＥＸにおいて、投影光学系（３０）の外周に配置され、基板ステージ（４２）或いは基板Ｗの光軸（ＡＸ）方向に沿った位置を検出する検出部（８１）と、検出部（８１）の検出結果に基づいて基板ステージ（４２）の移動を停止或いは反転させる制御装置（７０）とを備える。
摘要翻译：即使投影光学系统和基板距离彼此靠近，也能够容易地避免投影光学系统与基板或基板台之间的碰撞的曝光装置。曝光装置（EX）具有用于将形成在掩模（R）上的图案（PA）投影并传送到基板（W）的投影光学系统（30），并且具有放置在投影光学系统下方的基板台（30）并且在基本上垂直于投影光学系统（30）的光轴（AX）的方向的方向上支撑基板（W）的同时移动。曝光装置（EX）还具有设置在投影光学系统（30）的外周的检测部（81），并且检测基板台（42）沿着光轴（AX）的方向的位置，或基板（W），并且具有用于基于检测部（81）的检测结果停止或反转基板台（42）的移动的控制装置（70）。

8. 发明申请

WO2005055296A1 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法、並びに光学部品审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法，装置制造方法和光学部件
公开(公告)号：WO2005055296A1
公开(公告)日：2005-06-16
申请号：PCT/JP2004/018435
申请日：2004-12-03
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之 , 高岩宏明 , 蛭川茂 , 星加隆一 , 石沢均
发明人：長坂博之 , 高岩宏明 , 蛭川茂 , 星加隆一 , 石沢均
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7075
摘要：　露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬと液体１とを介して基板Ｐ上に露光光ＥＬを照射して、基板Ｐを露光するものであって、基板Ｐを保持するための基板テーブルＰＴを備え、基板テーブルＰＴに、撥液性の平坦面３０Ａを有するプレート部材３０を交換可能に設けて、液体が残留することを防止し、良好な露光精度を維持できる。
摘要翻译：曝光装置（EX）是通过投影光学系统（PL）和液体（1）将曝光光（EL）照射到基板（P）上而使基板（P）曝光的装置。曝光装置（EX）具有用于保持基板（P）的基板台（PT）。具有疏液平面（30A）的板构件（30）可更换地安装在基板台（PT）上，防止液体残留，保持良好的曝光精度。

9. 发明申请

WO2004112108A1 露光方法、基板ステージ、露光装置、及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光方法，基板阶段，曝光装置和制造装置的方法
公开(公告)号：WO2004112108A1
公开(公告)日：2004-12-23
申请号：PCT/JP2004/008578
申请日：2004-06-11
申请人：株式会社ニコン , 大和壮一 , 馬込伸貴 , 蛭川茂 , 工藤芳彦 , 井上次郎 , 河野博高 , 根井正洋 , 今井基勝 , 長坂博之 , 白石健一 , 西井康文 , 高岩宏明
发明人：大和壮一 , 馬込伸貴 , 蛭川茂 , 工藤芳彦 , 井上次郎 , 河野博高 , 根井正洋 , 今井基勝 , 長坂博之 , 白石健一 , 西井康文 , 高岩宏明
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/58 , G03F7/2041 , G03F7/707 , G03F7/70716
摘要：投影光学系PLと液体1とを介してパターンの像を基板P上に投影することによって基板Pを露光する際、基板Pの側面PB、裏面PCを撥液処理する。このような構成により基板のエッジ領域を液浸露光する場合に良好に液浸領域を形成し、液体の基板ステージ外部への流出を抑えた状態で露光できる露光方法を提供する。
摘要翻译：公开了一种曝光方法，其中当基板（P）的曝光通过将图案图像投影到基板（P）上进行曝光时，基板（P）的侧表面（PB）和背面（PC）基板（P）通过投影光学系统（PL）和液体（1）。因此，在基板的边缘部进行浸渍曝光的情况下，能够充分地形成浸渍区域并进行曝光，同时防止液体从基板台流出。

10. 发明申请

WO2004053956A1 露光装置及び露光方法、デバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法和制造装置的方法
公开(公告)号：WO2004053956A1
公开(公告)日：2004-06-24
申请号：PCT/JP2003/015735
申请日：2003-12-09
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之 , 馬込伸貴
发明人：長坂博之 , 馬込伸貴
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/2041 , G03F7/709
摘要：　露光装置は、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間の少なくとも一部を液体５０で満たすとともに、投影光学系ＰＬを介してパターンの像を基板Ｐ上に投影して、基板Ｐを露光する。基板Ｐを移動するときに液体５０と接触する部分である光学素子６０及び鏡筒ＰＫには、液体５０との親和性を調整する表面処理が施されている。投影光学系と基板の間の液体に気泡が生ずることが防止され、また、投影光学系と基板の間に液体が常に維持されるので、良好な液浸状態が形成される。
摘要翻译：在曝光装置中，通过用液体（50）填充投影光学系统（PL）和基板（P）之间的至少一部分空间来进行基板（P）的曝光，并投影图像通过投影光学系统（PL）到衬底（P）上的图案。在移动基板（P）时与液体（50）接触的光学元件（60）和透镜镜筒（PK）进行表面处理以调节与液体（50）的亲和性，。因此，抑制投影光学系统和基板之间的液体中的气泡的形成，并且液体始终保持在投影光学系统和基板之间，从而形成良好的浸没状态。

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