专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2005076324A1 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法和装置的制造方法
公开(公告)号：WO2005076324A1
公开(公告)日：2005-08-18
申请号：PCT/JP2005/001990
申请日：2005-02-03
申请人：株式会社ニコン , 小林直行 , 大和壮一 , 蛭川茂 , 大村泰弘
发明人：小林直行 , 大和壮一 , 蛭川茂 , 大村泰弘
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/2041 , G03F7/70341 , G03F7/7075 , G03F7/70891
摘要：　露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して基板Ｐ上に露光光ＥＬを照射して基板Ｐを露光する。露光装置ＥＸは、基板Ｐを保持する基板ホルダＰＨを有し、この基板ホルダＰＨに基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージＰＳＴと、基板ホルダＰＨの温度調整を行う温調システム６０とを備えている。基板Ｐの温度を、液体ＬＱとの温度差が生じないように制御して、液体ＬＱの温度変化による露光精度の低下を防止する。
摘要翻译：曝光装置（EX）通过液体（LQ）在基板（P）上照射曝光光（EL））来曝光基板（P）。曝光装置（EX）具有用于保持基板（P）的基板支架（PH），能够移动由基板支架（PH）保持的基板（P）的基板载台（PST）和温度调节系统 60），用于调节衬底保持器（PH）的温度。基板（P）的温度被控制为与液体（LQ）不具有温度差，从而防止由液体（LQ）的温度变化引起的曝光精度的降低。

2. 发明申请

WO2004053954A1 露光装置及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置和制造装置的方法
公开(公告)号：WO2004053954A1
公开(公告)日：2004-06-24
申请号：PCT/JP2003/015667
申请日：2003-12-08
申请人：株式会社ニコン , 根井正洋 , 小林直行 , 千葉洋 , 蛭川茂
发明人：根井正洋 , 小林直行 , 千葉洋 , 蛭川茂
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F9/7026 , G03F7/70341 , G03F9/7003 , G03F9/7034
摘要：　露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間を液体５０で満たし、投影光学系ＰＬにより液体５０を介して基板Ｐ上にパターンの像を投影することによって基板Ｐを露光する。基板Ｐを保持する基板ステージＰＳＴと、投影光学系ＰＬの像面側に液体５０を供給する液体供給装置１と、基板Ｐ表面の面情報を液体５０を介さずに検出するフォーカス・レベリング検出系１４とを備えている。露光装置ＥＸは、フォーカス・レベリング検出系１４で検出された面情報に基づいて基板Ｐ表面と投影光学系ＰＬ及び液体５０を介して形成される像面との位置関係を調整しつつ基板Ｐの液浸露光を行う。良好なパターン転写精度で液浸露光ができる。
摘要翻译：曝光装置（EX）通过用液体（50）填充投影光学系统（PL）和基板（P）之间的空间并将图案的图像投影到基板上来进行基板（P）的曝光（P）通过液体（50）使用投影光学系统（PL）。曝光装置（EX）包括用于支撑衬底（P）的衬底台（PST），用于将液体（50）供应到投影光学系统（PL）的像面侧的液体供应单元（1），以及用于在液体（50）的介质上感测基板（P）的表面上的信息的聚焦/调平感测系统（14）。曝光装置（EX）在调整基板（P）的表面与通过投影光学系统（PL）形成的像面与液体（50）之间的位置关系的同时，进行基板（P）的浸没曝光，根据由聚焦/调平感测系统（14）感测的表面信息。因此，浸渍曝光可以以良好的图案转印精度进行。

3. 发明申请

WO2004053951A1 露光方法及び露光装置並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光方法，曝光装置和制造装置的方法
公开(公告)号：WO2004053951A1
公开(公告)日：2004-06-24
申请号：PCT/JP2003/015408
申请日：2003-12-02
申请人：株式会社ニコン , 馬込伸貴 , 根井正洋 , 蛭川茂 , 小林直行 , 大和壮一
发明人：馬込伸貴 , 根井正洋 , 蛭川茂 , 小林直行 , 大和壮一
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70466 , G03F7/70991
摘要：　投影光学系を介して基板Ｐを露光する際、投影光学系と基板Ｐとの間に液体５０を供給し、基板Ｐ上のパターン形成領域ＡＲ１を投影光学系ＰＬと液体とを介して露光し、基板Ｐ上のエッジ領域ＡＲ２を、液体を介さず、投影光学系ＰＬ２を介して露光する。基板の外側への液体の流出を抑えつつ、焦点深度の広い露光を実現することができる。
摘要翻译：当基板（P）通过投影光学系统曝光时，在投影光学系统和基板（P）之间提供液体（50）。因此，基板（P）的图案形成区域（AR1）通过投影光学系统（PL）和液体曝光，并且基板（P）的边缘区域（AR2）通过投影光学系统（PL2），但不能通过液体。可以在防止液体从基板流出的同时实现大的聚焦深度的曝光。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式