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1. 发明申请

WO2017089391A1 A MEASUREMENT SUBSTRATE AND A MEASUREMENT METHOD 审中-公开
标题翻译：测量基板和测量方法
公开(公告)号：WO2017089391A1
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：PCT/EP2016/078545
申请日：2016-11-23
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： NEEFS, Patricius, Jacobus , NIHTIANOV, Stoyan , BLOKS, Ruud, Hendrikus, Martinus, Johannes , VERMEULEN, Johannes, Petrus, Martinus, Bernardus , DE LA ROSETTE, Johannes, Paul, Marie , LAURENT, Thibault, Simon, Mathieu , MAKINWA, Kofi, Afolabi, Anthony
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/67 , H01L21/66
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70866 , G03F7/70875 , H01L21/67248 , H01L22/34
摘要： A measurement substrate for measuring a condition pertaining in an apparatus for processing production substrates during operation thereof, the measurement substrate comprising: a body having dimensions compatible with the apparatus; a plurality of sensor modules embedded in the body, each sensor module comprising: a sensor configured generate an analog measurement signal; an analog to digital converter to generate digital measurement information from the analog measurement signal; and a module controller configured to output the digital measurement information; and a central control module configured to receive the digital measurement information from each of the module controllers and to communicate the digital measurement information to an external device.
摘要翻译：测量衬底，用于测量在其操作期间用于处理生产衬底的设备中的状态，所述测量衬底包括：具有与所述设备兼容的尺寸的主体; 多个嵌入在所述主体中的传感器模块，每个传感器模块包括：配置成生成模拟测量信号的传感器; 模数转换器，用于从模拟测量信号生成数字测量信息; 以及模块控制器，被配置为输出数字测量信息; 以及中央控制模块，被配置为从每个模块控制器接收数字测量信息并将数字测量信息传送到外部设备。

2. 发明申请

WO2016107718A1 LITHOGRAPHIC APPARATUS WITH A PATTERNING DEVICE ENVIRONMENT 审中-公开
标题翻译：具有绘图设备环境的平面设备
公开(公告)号：WO2016107718A1
公开(公告)日：2016-07-07
申请号：PCT/EP2015/078849
申请日：2015-12-07
申请人： ASML HOLDING N.V.
发明人： KOCHERSPERGER, Peter , RAMIREZ, David
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70066 , G03F7/702 , G03F7/70866
摘要： A lithographic apparatus injects gas between a patterning device (MA) and a patterning device masking blade (REB-Χ,Υ) to help protect the patterning device from contamination. The gas may be injected into the space defined between the patterning device and the patterning device blade by one or more gas supply nozzles (200) that are arranged on at least one side of the patterning device. The one or more gas supply nozzles are coupled to a frame which a patterning device support structure (MT) moves relative to. Each nozzle may be constructed and arranged to supply gas over at least the patterning region of the reflective patterning device.
摘要翻译：光刻设备在图案形成装置（MA）和图案形成装置掩蔽刮板（REB-X，Y）之间注入气体，以帮助保护图案形成装置免受污染。可以通过布置在图案形成装置的至少一侧的一个或多个气体供给喷嘴（200）将气体注入限定在图案形成装置和图案形成装置刀片之间的空间中。一个或多个气体供应喷嘴联接到图案形成装置支撑结构（MT）相对于其移动的框架。每个喷嘴可以构造和布置成在反射图案形成装置的至少图形化区域上提供气体。

3. 发明申请

WO2013135494A2 LITHOGRAPHIC APPARATUS 审中-公开
标题翻译： LITHOGRAPHIC设备
公开(公告)号：WO2013135494A2
公开(公告)日：2013-09-19
申请号：PCT/EP2013/054095
申请日：2013-02-28
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： BAL, Kursat , LUTTIKHUIS, Bernardus , OCKWELL, David , VAN PUTTEN, Arnold , NIENHUYS, Han-Kwang , LEENDERS, Maikel
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70691 , G03F7/20 , G03F7/70066 , G03F7/70866 , G03F7/70933
摘要： A lithographic apparatus injects gas between a reticle and reticle blades to protect the reticle from contamination. The gas may be injected either into the space defined between the reticle and the closest pair of reticle blades, or into the space defined between the two pairs of reticle blades.
摘要翻译：光刻设备在标线片和标线片之间注入气体以保护掩模版免受污染。气体可以注入到分划板和最接近的一对标线片之间的空间中，或者注入在两对标线片之间限定的空间中。

4. 发明申请

WO2012167206A1 FLOW THROUGH MEMS PACKAGE 审中-公开
标题翻译：通过MEMS封装流动
公开(公告)号：WO2012167206A1
公开(公告)日：2012-12-06
申请号：PCT/US2012/040619
申请日：2012-06-02
申请人： SILICON LIGHT MACHINES CORPORATION , SANO, Kenichi , ENG, Lars , PAYNE, Alexander , HUNTER, James
发明人： SANO, Kenichi , ENG, Lars , PAYNE, Alexander , HUNTER, James
IPC分类号： G02B26/00
CPC分类号： G03F7/2051 , B81B7/0041 , B81B7/0061 , G02B26/0808 , G02B26/0841 , G03F7/70291 , G03F7/70866 , G03F7/70916 , G03F7/70933
摘要： A flow through Micro-Electromechanical Systems (MEMS) package and methods of operating a MEMS packaged using the same are provided. Generally, the package includes a cavity in which the MEMS is enclosed, an inlet through which a fluid is introduced to the cavity during operation of the MEMS and an outlet through which the fluid is removed during operation of the MEMS. In certain embodiments, the fluid includes an gas, such as nitrogen, and the inlet and outlet are adapted to provide a flow of gas of from 0.01 Standard Cubic Centimeters per Minute (sccm) to 10000 sccm during operation of the MEMS. The package and method are particularly useful in packaging spatial light modulators including a reflective surface and adapted to reflect and modulate a light beam incident thereon. Other embodiments are also provided.
摘要翻译：提供了通过微机电系统（MEMS）封装的流程以及操作使用其的MEMS封装的方法。通常，封装包括MEMS封装的空腔，在MEMS运行期间将流体引入空腔的入口以及在MEMS运行期间流体被除去的出口。在某些实施例中，流体包括气体，例如氮气，并且入口和出口适于在MEMS运行期间提供从0.01标准立方厘米每分钟（sccm）至10000sccm的气体流。包装和方法在包装空间光调制器包括反射表面并适于反射和调制入射在其上的光束时特别有用。还提供了其他实施例。

5. 发明申请

WO2007149513A3 SYSTEM FOR PURGING RETICLE STORAGE 审中-公开
标题翻译：清洗储存的系统
公开(公告)号：WO2007149513A3
公开(公告)日：2008-11-13
申请号：PCT/US2007014428
申请日：2007-06-19
申请人： ENTEGRIS INC , KISHKOVICH OLEG P , GABARRE XAVIER , GOODWIN WILLIAM M , LO JAMES , SCOGGINS TROY
发明人： KISHKOVICH OLEG P , GABARRE XAVIER , GOODWIN WILLIAM M , LO JAMES , SCOGGINS TROY
IPC分类号： B67C3/02
CPC分类号： H01L21/67769 , G03F1/66 , G03F7/70741 , G03F7/70866 , G03F7/70916 , G03F7/70925 , G03F7/70933 , H01L21/67017 , H01L21/67253 , H01L21/67353 , H01L21/67359 , H01L21/67386 , H01L21/67389 , H01L21/67393 , Y10S414/135 , Y10S414/137 , Y10S414/139 , Y10S414/14
摘要： The present invention provides a method, system, and components for protecting reticles and specifically for minimizing haze formation on reticles during storage and use. By substantially continually maintaining a purge in a storage housing having a reduced humidity level on reticles or by temporarily storing the reticle in a container in proximity to a desiccant or getter when not being purged, haze formation can be eliminated, minimized, or sufficiently controlled. Moreover, a filter media in the container may be positioned to be "recharged" during the substantially continual purging of the reticle, a reduced desireable humidity level can be readily maintained in the reticle container when the container is not currently being purged. Additionally, the system of the invention can comprise an ionizer associated with the purge system. For example, the ionizer can be associated with at least one of the plurality of purge lines of the purge system. The system of the invention can also include a purge gas source connected to the purge system that comprises a source of CDA or extra CDA. The storage housing can comprise a plurality of shelves that each include a plurality of reticle storage receptacles.
摘要翻译：本发明提供了用于保护光罩的方法，系统和部件，并且特别用于使存储和使用期间光罩上的雾霾形成最小化。通过基本上连续地维持在光罩上具有降低的湿度水平的存储壳体中的吹扫，或者通过在未被吹扫时将标线临时存储在干燥剂或吸气剂附近的容器中，可以消除，最小化或充分控制雾霾形成。此外，容器中的过滤介质可定位成在基本连续吹扫光罩期间“再充电”，当容器当前未被吹扫时，可在光罩容器中容易地保持降低的期望湿度水平。另外，本发明的系统可以包括与清洗系统相关联的离子发生器。例如，离子发生器可以与吹扫系统的多个吹扫管线中的至少一个相关联。本发明的系统还可以包括连接到吹扫系统的吹扫气体源，吹扫系统包括CDA源或额外的CDA源。存储壳体可以包括多个搁架，每个搁架包括多个标线存储容器。

6. 发明申请

WO2007149513A9 SYSTEM FOR PURGING RETICLE STORAGE 审中-公开
标题翻译：用于储存存货的系统
公开(公告)号：WO2007149513A9
公开(公告)日：2008-02-14
申请号：PCT/US2007014428
申请日：2007-06-19
申请人： ENTEGRIS INC , KISHKOVICH OLEG P , GABARRE XAVIER , GOODWIN WILLIAM M , LO JAMES , SCOGGINS TROY
发明人： KISHKOVICH OLEG P , GABARRE XAVIER , GOODWIN WILLIAM M , LO JAMES , SCOGGINS TROY
IPC分类号： A61N1/00
CPC分类号： H01L21/67769 , G03F1/66 , G03F7/70741 , G03F7/70866 , G03F7/70916 , G03F7/70925 , G03F7/70933 , H01L21/67017 , H01L21/67253 , H01L21/67353 , H01L21/67359 , H01L21/67386 , H01L21/67389 , H01L21/67393 , Y10S414/135 , Y10S414/137 , Y10S414/139 , Y10S414/14
摘要： The present invention provides a method, system, and components for protecting reticles and specifically for minimizing haze formation on reticles during storage and use. By substantially continually maintaining a purge in a storage housing having a reduced humidity level on reticles or by temporarily storing the reticle in a container in proximity to a desiccant or getter when not being purged, haze formation can be eliminated, minimized, or sufficiently controlled. Moreover, a filter media in the container may be positioned to be "recharged" during the substantially continual purging of the reticle, a reduced desireable humidity level can be readily maintained in the reticle container when the container is not currently being purged. Additionally, the system of the invention can comprise an ionizer associated with the purge system. For example, the ionizer can be associated with at least one of the plurality of purge lines of the purge system. The system of the invention can also include a purge gas source connected to the purge system that comprises a source of CDA or extra CDA. The storage housing can comprise a plurality of shelves that each include a plurality of reticle storage receptacles.
摘要翻译：本发明提供一种用于保护标线的方法，系统和部件，并且特别地用于最小化在保存和使用期间掩模版上的雾化形成。通过基本上连续地保持在具有降低的刻度上的湿度水平的存储壳体中的清洗，或者当不被清除时将掩模版临时存储在接近干燥剂或吸气剂的容器中时，可以消除，最小化或充分控制雾度形成。此外，容器中的过滤介质可以被定位成在基本连续清洗标线板期间被“再充电”，当容器当前没有被清除时，可以容易地保持在掩模版容器中减少的所需湿度水平。另外，本发明的系统可以包括与吹扫系统相关联的离子发生器。例如，离子发生器可以与净化系统的多条清除管线中的至少一条相关联。本发明的系统还可以包括连接到吹扫系统的吹扫气体源，其包括CDA源或额外的CDA。存储壳体可以包括多个搁架，每个搁架都包括多个标线保管容器。

7. 发明申请

WO2006067730A2 DEVICE AND METHOD FOR HOLDING OR TRANSPORTING A SUBSTRATE 审中-公开
标题翻译：用于保持或运输基板的装置和方法
公开(公告)号：WO2006067730A2
公开(公告)日：2006-06-29
申请号：PCT/IB2005/054315
申请日：2005-12-19
申请人： KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V. , KNOTTER, Dirk, M. , RASTEGAR, Abbas
发明人： KNOTTER, Dirk, M. , RASTEGAR, Abbas
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F1/66 , G03F7/70741 , G03F7/70866 , G03F7/70916
摘要： Device (1) for holding a substrate, comprising a box (2) and a substrate holder (4). The box (2) is arranged for holding the substrate holder (4), and the substrate holder (4) is arranged for holding the substrate (3). The box (2) comprises a gettering device (5) for gettering an impurity possibly being present within the box (2).
摘要翻译：用于保持基板的装置（1），包括盒（2）和基板保持件（4）。盒子（2）被布置用于保持衬底保持器（4），并且衬底保持器（4）被布置用于保持衬底（3）。盒（2）包括用于吸收可能存在于盒（2）内的杂质的吸气装置（5）。

8. 发明申请

WO2005022615A1 液体回収装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：液体回收装置，曝光装置，曝光方法及装置生产方法
公开(公告)号：WO2005022615A1
公开(公告)日：2005-03-10
申请号：PCT/JP2004/012787
申请日：2004-08-27
申请人：株式会社ニコン , 荒井大 , 原英明 , 高岩宏明
发明人：荒井大 , 原英明 , 高岩宏明
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/2041 , G03F7/70533 , G03F7/70866 , G03F7/70933 , G03F7/70991
摘要：この露光装置は、投影光学系と基板との間を液体で満たし、投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影することによって基板を露光する。この露光装置は、商用電源から供給される電力によって駆動する駆動部を有する液体回収機構と、商用電源とは別の無停電電源とを備え、商用電源の停電時に、駆動部に対する電力の供給が無停電電源に切り替わる。
摘要翻译：曝光装置通过使用投影光学系统和填充投影光学系统和基板之间的间隙的液体将图案的图像投影在基板上来曝光基板。曝光装置具有液体回收机构，其具有由商用电源提供的电力驱动的驱动部分和与商用电源分离的不间断电源。当商用电源发生故障时，到驱动部的电源切换到不间断电源。

9. 发明申请

WO2004095549A1 パターン描画装置及びパターン描画方法审中-公开
标题翻译：图案绘图装置和图案绘图方法
公开(公告)号：WO2004095549A1
公开(公告)日：2004-11-04
申请号：PCT/JP2004/005134
申请日：2004-04-09
申请人：ボールセミコンダクターインク. , 大見忠弘 , 須川成利 , 柳田公雄 , 武久究
发明人：大見忠弘 , 須川成利 , 柳田公雄 , 武久究
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70425 , G03F7/70291 , G03F7/70358 , G03F7/70433 , G03F7/70441 , G03F7/70466 , G03F7/70866
摘要：二次元的に配列された微小ミラーを含むミラーデバイスから出力された投影パターンを使用して、基板上にパターンを描画するパターン描画方法において、各微小ミラーをオンオフ制御すると共に、ミラーデバイスからの投影パターンを少なくとも一次元方向に部分的にオーバーラップさせて露光を行うことにより、中間光量露光を正確に制御することができる。
摘要翻译：提供了一种通过使用从具有以二维方式布置的精细反射镜的反射镜装置输出的投影图案来将图案灌封在基板上的图案绘制方法。每个微反射镜被控制为接通和断开，并且来自反射镜装置的投影图案至少在一维方向上部分地重叠以进行曝光，从而精确地控制中间光强度的曝光。

10. 发明申请

WO2004092833A2 ENVIRONMENTAL SYSTEM INCLUDING A TRANSPORT REGION FOR AN IMMERSION LITHOGRAPHY APPARATUS 审中-公开
标题翻译：环境系统，其中包括一个静态地图设备的运输区域
公开(公告)号：WO2004092833A2
公开(公告)日：2004-10-28
申请号：PCT/US2004/009994
申请日：2004-04-01
申请人： NIKON CORPORATION , NOVAK, Thomas, W. , HAZELTON, Andrew, J. , WATSON, Douglas, C.
发明人： NOVAK, Thomas, W. , HAZELTON, Andrew, J. , WATSON, Douglas, C.
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70866 , G03F7/70341 , G03F7/7095
摘要： An environmental system (26) for controlling an environment in a gap (246) between an optical assembly (16) and a device (30) includes a fluid barrier (254), an immersion fluid system (252), and a transport region (256). The fluid barrier (254) is positioned near the device (30) and maintains the transport region (256) near the gap (246). The immersion fluid system (252) delivers an immersion fluid (248) that fills the gap (246). The transport region (256) transports at least a portion of the immersion fluid (248) that is near the fluid barrier (254) and the device (30) away from the device (30). The immersion fluid system (252) can include a fluid removal system (282) that is in fluid communication with the transport region (256). The transport region (256) can be made of a porous material.
摘要翻译：用于控制光学组件（16）和装置（30）之间的间隙（246）中的环境的环境系统（26）包括流体屏障（254），浸没流体系统（252）和输送区域 256）。流体屏障（254）位于装置（30）附近，并将输送区域（256）保持在间隙（246）附近。浸没流体系统（252）输送填充间隙（246）的浸没流体（248）。输送区域（256）将流体屏障（254）和装置（30）附近的浸没流体（248）的至少一部分输送离开装置（30）。浸没流体系统（252）可以包括与输送区域（256）流体连通的流体移除系统（282）。运输区域（256）可由多孔材料制成。

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