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1. 发明申请

WO2013039389A3 TARGET POSITIONING DEVICE 审中-公开
标题翻译：目标定位装置
公开(公告)号：WO2013039389A3
公开(公告)日：2013-07-11
申请号：PCT/NL2012050637
申请日：2012-09-12
申请人： MAPPER LITHOGRAPHY IP BV , PEIJSTER JERRY JOHANNES MARTINUS
发明人： PEIJSTER JERRY JOHANNES MARTINUS
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03B27/58 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70758 , G03F7/70841 , H01J37/20 , H01J37/3177 , H01J2237/0266 , H01J2237/16 , H01J2237/2006 , H01J2237/20221 , H01J2237/20285 , H02K41/02
摘要： A target positioning device, in particular for a lithography system, comprising a carrier (300) for carrying a target, and a stage for carry¬ ing and moving the carrier a long a first direction (X). The stage com¬ prising two X-stage bases (401, 402), both arranged on top of a com¬ mon base plate (403), each X-stage base carries an X-stage carriage (404, 405), and a Y-beam (406) comprising a Y-stage (407) for carry¬ ing said carrier and moving the carrier in a second direction (Y). The Y-beam bridges the space between the X-stage carriages and is con¬ nected to the X-stage carriages via a flexible coupling (408, 409). The device further comprises two motors (Ml, M2) each for driving a cor¬ responding X-stage carriage along its corresponding X-stage base. The two motors are arranged at least substantially below the stage. Each motor of said two motors is coupled to an eccentric cam or crank (410, 411) which is connected to the corresponding X-stage carriage via a crank shaft (412, 413).
摘要翻译：特别是用于光刻系统的目标定位装置，包括用于承载目标的载体（300）和用于沿第一方向（X）移动载体的载物台。两个X级基座（401,402）均布置在一个基板（403）顶部，每个X级基座都装有一个X级托架（404,405），并且 Y形梁（406）包括用于承载所述载体并沿着第二方向（Y）移动所述载体的Y级（407）。 Y型梁桥接X级滑架之间的空间，并通过柔性联轴器连接到X级滑架（408,409）。该装置还包括两个电动机（M1，M2），每个电动机用于沿其相应的X级基座驱动对应的X档架。这两个电动机至少在平台的下方布置。所述两个电动机的每个电动机联接到偏心凸轮或曲柄（410,411），所述偏心凸轮或曲柄经由曲轴（412,413）连接到对应的X档架。

2. 发明申请

WO2009069815A1 ILLUMINATION OPTICAL APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD FOR PRODUCING DEVICE 审中-公开
标题翻译：照明光学装置，曝光装置及其制造方法
公开(公告)号：WO2009069815A1
公开(公告)日：2009-06-04
申请号：PCT/JP2008/071988
申请日：2008-11-27
申请人： NIKON CORPORATION , NISHIKAWA, Jin
发明人： NISHIKAWA, Jin
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70916 , G03F7/70075 , G03F7/702 , G03F7/70841 , G03F7/70908
摘要： An illumination optical apparatus which illuminates an illumination objective surface with an exposure light EL includes: an illumination optical system ILS having a curved mirror 24 and a concave mirror 25 and defining a position substantially conjugate with the illumination objective surface between the mirrors 24 and 25; and a second aperture plate 5 separating a space B in which the curved mirror 24 is arranged and a space C in which the concave mirror 25 is arranged into mutually different vacuum environments or pressure-reduced environments, and having an aperture 5a through which the exposure light EL passes, the aperture 5a being arranged at a position at which a cross-sectional area of the exposure light EL is smallest, or in the vicinity of the position. It is possible to decrease the amount of passage of minute particles such as debris in relation to any downstream-side optical system.
摘要翻译：用曝光用光EL照明照明物镜面的照明光学装置具备：照明光学系统ILS，其具有弯曲镜24和凹面镜25，并且限定与镜子24和25之间的照明物镜表面基本共轭的位置; 以及分离其中布置有曲面镜24的空间B的第二孔板5和其中凹面镜25布置在相互不同的真空环境或减压环境中的空间C，并且具有孔5a，曝光光EL通过，孔5a布置在曝光光EL的横截面积最小的位置或位置附近。相对于任何下游侧光学系统，可以减少诸如碎屑的微小颗粒的通过量。

3. 发明申请

WO2005124464A2 VACUUM SYSTEM FOR IMMERSION PHOTOLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：真空曝光系统
公开(公告)号：WO2005124464A2
公开(公告)日：2005-12-29
申请号：PCT/GB2005/002205
申请日：2005-06-06
申请人： THE BOC GROUP PLC , HARPHAM, Andrew, John , SHECHTER, Paul, John , STOCKMAN, Paul, Alan
发明人： HARPHAM, Andrew, John , SHECHTER, Paul, John , STOCKMAN, Paul, Alan
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70858 , G03F7/70341 , G03F7/70841
摘要： A vacuum system for extracting a stream of a multi-phase fluid from a photolithography tool comprises a pumping arrangement for drawing the fluid from the tool, and an extraction tank (32) located upstream from the pumping arrangement for separating the fluid drawn from the tool into gas and liquid phases. The pumping arrangement comprises a first pump (36) for extracting gas from the tank, and a second pump (38) for extracting liquid from the tank (32). In order to minimise any pressure fluctuations transmitted from the vacuum system back to the fluid (32) within the tool, a pressure control system maintains a substantially constant pressure in the tank (32) by regulating the amounts of liquid and gas within the tank (32).
摘要翻译：用于从光刻工具提取多相流体流的真空系统包括用于从工具抽取流体的泵送装置和位于泵送装置上游的抽出罐（32），用于分离从工具抽取的流体进入气相和液相。泵送装置包括用于从罐中提取气体的第一泵（36）和用于从罐（32）中提取液体的第二泵（38）。为了最小化从真空系统传回到工具内的流体（32）的任何压力波动，压力控制系统通过调节罐内液体和气体的量来保持罐（32）中基本恒定的压力 32）。

4. 发明申请

WO2002069379A1 Ｘ線反射マスク、その保護方法、Ｘ線露光装置及び半導体デバイスの製造方法审中-公开
标题翻译： X射线反射掩模，保护反射掩模的方法，X射线曝光装置及制造半导体器件的方法
公开(公告)号：WO2002069379A1
公开(公告)日：2002-09-06
申请号：PCT/JP2002/001715
申请日：2002-02-26
申请人：株式会社ニコン , 杉崎克己
发明人：杉崎克己
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/24 , G03F1/62 , G03F7/70283 , G03F7/70841 , G03F7/70866 , G03F7/70983
摘要： An X-ray reflective mask (23) surely protectable against dirt, comprising a reflective film (47) formed on a substrate (41) and a detachable cover (43) disposed so as to cover the reflective film (47) to protect the reflective film (47) against contamination, wherein a part (51) between the cover (43) and the reflective film (47) is held by an O-ring (45) in the state of vacuum or in the filled state with clean substitution gas.
摘要翻译：一种可靠地防止灰尘的X射线反射掩模（23），包括形成在基板（41）上的反射膜（47）和设置成覆盖反射膜（47）的可拆卸盖（43），以保护反射薄膜（47），其中，所述盖（43）与所述反射膜（47）之间的部分（51）由真空状态或填充状态用O形环（45）保持，并具有清洁的取代气体。

5. 发明申请

WO2019155053A1 BILDSENSOR, POSITIONSSENSORVORRICHTUNG, LITHOGRAPHIEANLAGE UND VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINES BILDSENSORS 审中-公开
公开(公告)号：WO2019155053A1
公开(公告)日：2019-08-15
申请号：PCT/EP2019/053298
申请日：2019-02-11
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： HORN, Jan , BIHR, Ulrich , ZOTT, Andy , DEGUENTHER, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70258 , G01B11/00 , G03F7/70775 , G03F7/70841 , G03F7/7085
摘要： Bildsensor (200) für eine Positionssensorvorrichtung (140) zum Ermitteln einer Position zumindest eines Spiegels (M1 –M6) einer Lithographieanlage (100, 100A), mit: einer Mehrzahl N1 von integrierten Lichtwellenleitern(220), einer Mehrzahl N2 von Einstrahlflächen (210), mit N2 ≥N1, wobei eine jeweilige der N2 Einstrahlflächen (210) einem der N1 integrierten Lichtwellenleiter (220) zugeordnet und dazu eingerichtet ist, einfallendes Licht in den zugeordneten integrierten Lichtwellenleiter (220) derart einzukoppeln, dass ein Lichtsignal in dem zugeordneten integrierten Lichtwellenleiter (220) erzeugt wird, einer mit den N1 integrierten Lichtwellenleitern (220) gekoppelten Multiplexer-Vorrichtung (230) zum Multiplexen der in den N1 integrierten Lichtwellenleitern (220) erzeugten Lichtsignale auf eine Anzahl von N3 sekundärer Lichtwellenleiter(240), mit N1≥N3, und einer mit den N3 sekundären Lichtwellenleitern (240) gekoppelten Bild-Rekonstruktions-Vorrichtung (250) zum Rekonstruieren eines Bildes in Abhängigkeit der Lichtsignale der N3 sekundären Lichtwellenleiter (240).

6. 发明申请

WO2017042024A1 ELEKTROMAGNETISCHER ANTRIEB MIT EINEM STATOR UND EINEM STATORHALTER 审中-公开
标题翻译：有定子和定子电磁驱动
公开(公告)号：WO2017042024A1
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：PCT/EP2016/069857
申请日：2016-08-23
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： WESSELINGH, Jasper , LORENZ, Axel
IPC分类号： H02K41/035 , H01F7/17 , H01F7/16
CPC分类号： H02K41/0356 , G03F7/70008 , G03F7/70383 , G03F7/70825 , G03F7/70841 , H01F7/126 , H01F7/1607 , H02K3/42
摘要： Die Erfindung betrifft einen elektromagnetischen Antrieb mit einem Stator (5), einem Statorhalter (6) und einem durch eine elektromagnetische Wechselwirkung mit dem Stator (5) beweglichen Betätigungselement (7). Der Statorhalter (6) weist wenigstens zwei getrennt nebeneinander verlaufende, elektrisch leitfähige Pfade (9, 10) auf. Jeweils zwei getrennt nebeneinander verlaufende Pfade (9, 10) bilden ein Pfadpaar (11) aus, wobei die Pfade (9, 10) des Pfadpaares (11) an ihren jeweiligen Enden (9a, 10a) bzw. (9b, 10b) elektrisch leitfähig miteinander verbunden sind. Die Pfade (9, 10) des Pfadpaars (11) sind derart angeordnet, dass der Stator und/oder das Betätigungselement (5) entgegengerichtet wirkende Wirbelströme in die Pfade (9, 10) induziert.
摘要翻译：本发明涉及一种具有定子的电磁致动器（5），定子（6）和可动通过电磁相互作用与定子（5）致动元件（7）。所述定子（6）包括并排的至少两个分别延伸的侧，导电路径（9，10）。在每种情况下彼此相邻两个可单独运行的路径（9，10）的路径对（11）的形式，所述路径（9,10）在它们各自的端部（9A，10A）或（图9b，10b）的导电性的路径对（11）的被连接在一起。路径对（11）的路径（9,10）被布置成使得在定子和/或所述致动元件（5），其作用方向相反的涡电流在（9,10）被诱导的路径。

7. 发明申请

WO2015043833A1 OPTISCHE ANORDNUNG, INSBESONDERE PLASMA-LICHTQUELLE ODER EUV-LITHOGRAPHIEANLAGE 审中-公开
标题翻译：光学装置，尤其是等离子体光源或EUV光刻系统
公开(公告)号：WO2015043833A1
公开(公告)日：2015-04-02
申请号：PCT/EP2014/067540
申请日：2014-08-18
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： BECKER, Moritz , MÜLLER, Ulrich , ARP, Oliver
IPC分类号： G03F7/20 , B08B7/00 , B24C1/00 , B24C7/00 , B24C11/00 , C01B31/22 , G01N21/88 , G21K1/06 , H01J65/04 , H05G2/00 , G02B27/00 , G01N21/94
CPC分类号： B08B7/0092 , B08B5/04 , B24C1/003 , B24C7/0053 , C01B32/55 , G01N21/8806 , G01N21/94 , G02B27/0006 , G03F7/70841 , G03F7/7085 , G03F7/70916 , G03F7/70925 , G03F7/70975 , H01J65/048 , H05G2/001
摘要： Die Erfindung betrifft eine Optische Anordnung, insbesondere eine Plasma- Lichtquelle (1 ') oder eine EUV-Lithographieanlage, mit einem Gehäuse (2), das einen Gehäuseinnenraum (3) umschließt, einer Vakuumerzeugungseinheit zur Erzeugung eines Vakuums in dem Gehäuse (2), mindestens einer Oberfläche (13), die in dem Gehäuseinnenraum (3) angeordnet ist, einer Reinigungseinrichtung (15) zum Entfernen von an der Oberfläche (13) abgelagerten kontaminierenden Stoffen (14), sowie einer Beobachtungseinrichtung (25) zum Beobachten der Oberfläche (13), wobei die Beobachtungseinrichtung (25) eine auf die Oberfläche (13) ausrichtbare Beobachtungsoptik (26) aufweist. Die Reinigungseinrichtung (15) ist ausgebildet, die abgelagerten kontaminierenden Stoffe (14) durch den Ausstoß von CO 2 in Form von CO 2 -Pellets (17) zu entfernen.
摘要翻译：本发明涉及一种光学装置，特别是等离子体光源（1“）或EUV光刻设备，包括：壳体（2）包围的壳体（3）内部，用于在壳体中产生真空的真空产生单元（2），至少一个表面被布置在所述壳体的内部空间（3），清洁装置（15），用于移除所述表面（13）上沉积的污染物（14）（13），以及用于观察表面观察装置（25）（13 ），其中，所述观察装置（25）包括（在表面13）对准观测光学器件（26）。清洁装置（15）被设计以除去沉积的污染物（14）通过CO 2的排放二氧化碳丸粒形式（17）。

8. 发明申请

WO2011074775A2 CYLINDRICAL MAGNETIC LEVITATION STAGE AND LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：圆柱磁悬浮阶段和光刻
公开(公告)号：WO2011074775A2
公开(公告)日：2011-06-23
申请号：PCT/KR2010/007464
申请日：2010-10-28
申请人： KOREA ELECTRO TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE , JEON, Jeong Woo , OH, Hyun Seok , CARAIANI, Mitica , CHUNG, Sung Il , KIM, Hyeon Taeg , LEE, Chang Rin , KIM, Jong Moon
发明人： JEON, Jeong Woo , OH, Hyun Seok , CARAIANI, Mitica , CHUNG, Sung Il , KIM, Hyeon Taeg , LEE, Chang Rin , KIM, Jong Moon
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70716 , G03F7/24 , G03F7/703 , G03F7/70725 , G03F7/70758 , G03F7/70791 , G03F7/70816 , G03F7/70825 , G03F7/70841 , H01L21/68
摘要： The present invention provides a cylindrical magnetic levitation stage and an exposure apparatus, which can form a nanoscale pattern of a large area directly on the surface of a large cylinder. The present invention provides an exposure apparatus including a new type of cylindrical magnetic levitation stage, which can levitate, rotate, and move a cylinder in the axial direction by the principle of magnetic levitation in a non-contact manner and form a nanoscale pattern on the surface of the cylinder, and a light source for irradiating light on the surface of the cylinder, thereby reducing the position error of the cylindrical magnetic levitation stage to a nanoscale size and correcting the error caused by mechanical processing in real time. Moreover, the present invention provides an exposure apparatus, which includes a differential vacuum means combined with the cylindrical magnetic levitation stage to create a partial vacuum environment between the light source and the surface of the cylinder, and thus it is possible to employ light sources such as X-rays, electron beams, extreme ultraviolet (EUV) rays, etc.
摘要翻译：本发明提供一种圆柱形磁悬浮载物台和曝光装置，其能够在大圆柱的表面上直接形成大面积的纳米级图案。本发明提供一种曝光装置，该曝光装置具备能够利用磁悬浮的原理以非接触的方式使圆柱体在轴向上浮起，旋转并移动的新型的圆筒状的磁悬浮载台，并在其上形成纳米级图案以及用于将光照射到圆筒表面上的光源，由此将圆柱形磁悬浮台的位置误差减小到纳米级尺寸并且实时校正由机械加工引起的误差。此外，本发明提供了一种曝光装置，其包括与圆柱形磁悬浮台相结合的差速真空装置，以在光源和圆柱体表面之间形成部分真空环境，因此可以采用光源如X射线，电子束，极紫外线（EUV）射线等。

9. 发明申请

WO2009069817A3 ILLUMINATION OPTICAL APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD FOR PRODUCING DEVICE 审中-公开
标题翻译：照明光学装置，曝光装置及其制造方法
公开(公告)号：WO2009069817A3
公开(公告)日：2009-08-06
申请号：PCT/JP2008071992
申请日：2008-11-27
申请人： NIPPON KOGAKU KK , NISHIKAWA JIN
发明人： NISHIKAWA JIN
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70916 , G03F7/702 , G03F7/70841 , G03F7/70883
摘要： A reflection type illumination optical apparatus, which guides an exposure light EL to a reticle surface Ra via a curved mirror 24, a concave mirror 25, etc. includes a vacuum chamber 1 which accommodates the curved mirror 24, the concave mirror 25, etc,; and a subchamber 4D which is arranged in the vacuum chamber 1 and which accommodates the curved mirror 24. The subchamber 4D has openings 4Da, 4Db through which the exposure light EL coming into the curved mirror 24 and the exposure light EL exiting from the curved mirror 24 pass, respectively. Each of the openings 4Da, 4Db is arranged in the vicinity of a position at which the cross-sectional area of the light flux is smallest. It is possible to decrease the amount of adhesion of minute particles such as debris to the reflecting optical element, without unnecessarily enhancing the ability of the vacuum gas discharge mechanism.
摘要翻译：通过曲面镜24，凹面镜25等将曝光用光EL引导到标线片表面Ra的反射型照明光学装置包括容纳曲面镜24，凹面镜25等的真空室1， ; 以及设置在真空室1中并容纳曲面镜24的子室4D。子室4D具有开口4Da，4Db，来自弯曲反射镜24的曝光光EL和从曲面镜出射的曝光光EL 24通，分别。每个开口4Da，4Db布置在光束的横截面积最小的位置附近。可以在不必要地增强真空气体排出机构的能力的情况下，将诸如碎屑的微小颗粒附着到反射光学元件上。

10. 发明申请

WO2005124464A3 VACUUM SYSTEM FOR IMMERSION PHOTOLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：真空曝光系统
公开(公告)号：WO2005124464A3
公开(公告)日：2006-06-08
申请号：PCT/GB2005002205
申请日：2005-06-06
申请人： BOC GROUP PLC , HARPHAM ANDREW JOHN , SHECHTER PAUL JOHN , STOCKMAN PAUL ALAN
发明人： HARPHAM ANDREW JOHN , SHECHTER PAUL JOHN , STOCKMAN PAUL ALAN
IPC分类号： G03F7/20 , B01D57/00
CPC分类号： G03F7/70858 , G03F7/70341 , G03F7/70841
摘要： A vacuum system (30) for extracting a stream of a multi-phase fluid from a photolithography tool comprises a pumping arrangement (36, 38) for drawing the fluid from the tool, and an extraction tank (32) located upstream from the pumping arrangement for separating the fluid drawn from the tool into gas and liquid phases. The pumping arrangement comprises a first pump (36) for extracting gas from the tank, and a second pump (38) for extracting liquid from the tank (32). In order to minimise any pressure fluctuations transmitted from the vacuum system back to the fluid within the tool, a pressure control system (54, 56) maintains a substantially constant pressure in the tank (32) by regulating the amounts of liquid and gas within the tank (32).
摘要翻译：用于从光刻工具提取多相流体流的真空系统（30）包括用于从工具中抽出流体的泵送装置（36,38）和位于泵送装置上游的提取罐（32）用于将从工具拉出的流体分离成气相和液相。泵送装置包括用于从罐中提取气体的第一泵（36）和用于从罐（32）中提取液体的第二泵（38）。为了最小化从真空系统传回到工具内的流体的任何压力波动，压力控制系统（54,56）通过调节罐内的液体和气体的量来保持罐（32）中基本上恒定的压力罐（32）。

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