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11. 发明申请

WO2011039036A3 OPTICAL SYSTEM, IN PARTICULAR IN A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：光学系统，特别是微型投影曝光设备
公开(公告)号：WO2011039036A3
公开(公告)日：2011-05-26
申请号：PCT/EP2010063158
申请日：2010-09-08
申请人： ZEISS CARL SMT GMBH , HOF ALBRECHT , NEUGEBAUER DIETMAR , FREIMANN ROLF
发明人： HOF ALBRECHT , NEUGEBAUER DIETMAR , FREIMANN ROLF
IPC分类号： G01M11/00 , G01B9/02 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70833 , G01B9/02027 , G01B9/0209 , G01B11/2441 , G01B2290/15 , G03F7/70233 , G03F7/70258
摘要： The invention concerns an optical system, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus, comprising a first optical component (110, 210, 910), a second optical component (120, 220, 920), and a measurement arrangement for determining the relative position of the first optical component and the second optical component in six degrees of freedom, wherein the measurement arrangement is adapted to determine the relative position of the first optical component and the second optical component over six different length measurement sections (131-136; 231-236), wherein said length measurement sections (131 -136; 231 -236) extend directly between the first optical component (110, 210, 910) and the second optical component (120, 220, 920).
摘要翻译：本发明涉及一种光学系统，特别是在微光刻投影曝光装置中，其包括第一光学部件（110,210,910），第二光学部件（120,220,920）和用于确定相对位置其中所述测量装置适于确定所述第一光学部件和所述第二光学部件在六个不同长度测量部分（131-136; 231-n）上的相对位置，其中所述长度测量部分（131-136; 231-236）直接在第一光学部件（110,210,910）和第二光学部件（120,220,920）之间延伸。

12. 发明申请

WO2011039036A2 OPTICAL SYSTEM, IN PARTICULAR IN A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：光学系统，特别是微波投影曝光装置
公开(公告)号：WO2011039036A2
公开(公告)日：2011-04-07
申请号：PCT/EP2010/063158
申请日：2010-09-08
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HOF, Albrecht , NEUGEBAUER, Dietmar , FREIMANN, Rolf
发明人： HOF, Albrecht , NEUGEBAUER, Dietmar , FREIMANN, Rolf
IPC分类号： G01M11/00
CPC分类号： G03F7/70833 , G01B9/02027 , G01B9/0209 , G01B11/2441 , G01B2290/15 , G03F7/70233 , G03F7/70258
摘要： The invention concerns an optical system, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus, comprising a first optical component (110, 210, 910), a second optical component (120, 220, 920), and a measurement arrangement for determining the relative position of the first optical component and the second optical component in six degrees of freedom, wherein the measurement arrangement is adapted to determine the relative position of the first optical component and the second optical component over six different length measurement sections (131-136; 231-236), wherein said length measurement sections (131 -136; 231 -236) extend directly between the first optical component (110, 210, 910) and the second optical component (120, 220, 920).
摘要翻译：本发明涉及一种光学系统，特别是在微光刻投影曝光装置中，包括第一光学部件（110,210,910），第二光学部件（120,220,920）以及用于确定相对位置的测量装置的第一光学部件和第二光学部件，其中所述测量装置适于确定所述第一光学部件和所述第二光学部件在六个不同长度的测量部分（131-136; 231- 236），其中所述长度测量部分（131-136; 231-236）直接在所述第一光学部件（110,210,910）和所述第二光学部件（120,220,920）之间延伸。

13. 发明申请

WO2010037575A1 PROJECTION SYSTEM AND LITHOGRAPHIC APPARATUS 审中-公开
标题翻译：投影系统和平面设备
公开(公告)号：WO2010037575A1
公开(公告)日：2010-04-08
申请号：PCT/EP2009/059222
申请日：2009-07-17
申请人： ASML Netherlands B.V. , LOOPSTRA, Erik , DE BOEIJ, Wilhelmus , BUTLER, Hans , DE JONGH, Robertus , VAN SCHOOT, Jan , SENGERS, Timotheus , WIJCKMANS, Maurice , JANSSEN, Franciscus
发明人： LOOPSTRA, Erik , DE BOEIJ, Wilhelmus , BUTLER, Hans , DE JONGH, Robertus , VAN SCHOOT, Jan , SENGERS, Timotheus , WIJCKMANS, Maurice , JANSSEN, Franciscus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70891 , G03F7/70258 , G03F7/70825
摘要： A projection system (PS) is provided which includes, in an embodiment, two frames. The optical elements of the projection system are mounted on a first frame (200). The position of the optical elements is measured relative to a second frame (300) using a first measurement system (910). A second measurement system (920) is used to measure a parameter associated with a deformation of the second frame. The measurement made by the second measurement system can be used to compensate for any errors in the position of the optical elements as measured by the first measurement system resulting from deformations of the second frame. Typically, deformations of the frames are due to resonant oscillation and thermal expansion. Having two frames enables the optical elements of the projection system to be positioned with a high degree of accuracy. Optionally, a temperature control system (780, 790) may be provided to drive the temperature of at least one of the frames back to a desired value after the lithographic apparatus has been taken off line.
摘要翻译：提供了一种投影系统（PS），在一个实施例中包括两个帧。投影系统的光学元件安装在第一框架（200）上。使用第一测量系统（910）相对于第二框架（300）测量光学元件的位置。第二测量系统（920）用于测量与第二帧的变形相关联的参数。由第二测量系统进行的测量可用于补偿由第二框架的变形引起的由第一测量系统测量的光学元件位置的任何误差。通常，框架的变形是由于共振振荡和热膨胀。具有两个框架使得投影系统的光学元件能够以高精确度定位。可选地，可以提供温度控制系统（780,790），以在光刻设备已经离线之后将至少一个框架的温度恢复到期望值。

14. 发明申请

WO2010009807A1 AKTUATOR UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：执行器和投射曝光系统，
公开(公告)号：WO2010009807A1
公开(公告)日：2010-01-28
申请号：PCT/EP2009/004892
申请日：2009-07-07
申请人： CARL ZEISS SMT AG , WEBER, Ulrich , HEMBACHER, Stefan , SCHÖPPACH, Armin
发明人： WEBER, Ulrich , HEMBACHER, Stefan , SCHÖPPACH, Armin
IPC分类号： G03F7/20 , H01L41/09
CPC分类号： G03F7/70141 , F16H21/44 , G03F7/70258 , G03F7/70825 , H02N1/002 , H02N2/023 , Y10T74/18992
摘要： Der erfindungsgemäße Aktuator (1) weist ein Gehäuse (2) und einen gegenüber dem Gehäuse (2) in Wirkrichtung des Aktuators bewegbaren Läufer (3) auf, wobei der Aktuator (1) eine Vorschubeinheit aufweist, die mindestens zeitweise mit dem Läufer (3) in Verbindung steht. Die Vorschubeinheit zeigt mindestens eine Deformationseinheit (6) sowie mindestens einen Deformator (5) zur Verformung der Deformationseinheit (6); der mindestens eine Deformator (5) ist geeignet, die Deformationseinheit (6) senkrecht zur Wirkrichtung des Aktuators (1) derart zu verformen, dass sich die Gesamtlänge der Deformationseinheit (6) in Wirkrichtung als Ergebnis der Verformung ändert. Daneben betrifft die Erfindung eine Projektionsbelichtungsanlage (310) für die Halbleiterlithographie mit einem erfindungsgemäßen Aktuator (1) sowie ein Verfahren zum Betrieb eines erfindungsgemäßen Aktuators (1).
摘要翻译：根据本发明（1）的致动器具有一个壳体（2）和在所述致动器可动流道（3）的有效方向的相对于所述壳体（2），其中，所述致动器（1）包括进给单元，其至少暂时与该转子（3）通信。进给单元具有至少一个变形部（6）和至少一个变形器（5），用于所述变形部的变形（6）; 所述至少一个变形器（5）适于在垂直于（1），使得所述变形单元（6）的在有效方向的总长度变化作为变形的结果，致动器的动作方向变形变形单元（6）。此外，本发明涉及一种投影曝光装置（310），用于半导体光刻的具有本发明的致动器（1）和根据本发明（1）操作的致动器的方法。

15. 发明申请

WO2009112239A1 VERFAHREN UND ANORDNUNG ZUR VERSCHIEBUNG 审中-公开
标题翻译：方法和系统延期
公开(公告)号：WO2009112239A1
公开(公告)日：2009-09-17
申请号：PCT/EP2009/001705
申请日：2009-03-10
申请人： HEIDELBERG INSTRUMENTS MIKROTECHNIK GMBH , FANGERAU, Michael , MANGOLD, Alexander , KAPLAN, Roland
发明人： FANGERAU, Michael , MANGOLD, Alexander , KAPLAN, Roland
IPC分类号： G01B11/26 , G01D5/26 , G01D5/30 , G02B26/08 , G02B27/64 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70258 , G02B26/0875
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Verschiebung eines durch elektromagnetische Strahlung (14) übertragenen Bildes (8) senkrecht zur Strahlungsrichtung mittels eines im Abbildungsstrahlverlauf befindlichen, drehbar angeordneten strahlungsbrechenden Körpers (2), welcher insbesondere als ein planparalleles Medium oder Glasplatte ausgebildet ist, mit einem Brechungsindex unterschiedlich zum umgebenden Medium bezüglich der verwendeten Strahlung. Ferner bezieht sich die Erfindung auf eine Anordnung zur Durchführung des Verfahrens. Das Verfahren und die Anordnung sollen dahingehend weitergebildet werden, dass eine optimierte präzise Bildverschiebung erreicht wird. Hierzu wird vorgeschlagen, dass die die Verschiebung verursachende Drehung des strahlungsbrechenden Körpers (2) dadurch gemessen wird, dass die durch die Winkeländerung in einem weiteren zur Messung genutzten elektromagnetischen Strahl (18) hervorgerufene Änderung der optischen Weglänge durch Auswertung der Überlagerung der von einer ebenen reflektierenden Fläche (24) zurückgeworfenen Strahlung mit der einfallenden elektromagnetischen Strahlung bestimmt wird, und dass ein Teil (42) des elektromagnetischen Messstrahls (18), der an der Oberfläche (44) des strahlungsbrechenden Körpers (2) reflektiert wird, auf eine Messeinrichtung (46) fällt, welche ein elektrisches Signal (48) in Abhängigkeit der Einfallsposition der elektromagnetischen Strahlung (18) liefert.
摘要翻译：本发明涉及一种方法，用于通过电磁辐射移位（14），将转印的图像（8）通过的成像光束路径的装置定位成垂直于所述辐射方向，可旋转地安装辐射折射体（2），其被设计特别是作为平面平行的介质或玻璃板，与的折射率与周围的相对于所用的辐射介质不同。此外，本发明涉及一种用于执行该方法的装置。该方法和装置将被发展到优化的精确的图像移位实现的效果。为了这个目的，它建议在辐射折射体（2）的位移引起旋转由在另一用于测量电磁波束（18）测量由所述角度变化引起通过评估的平坦反射的叠加在光路长度改变表面（24）反射的入射电磁辐射辐射被确定，并且该电磁测量光束（18）的一部分（42）反射的辐射折射体的表面（44）（2），测量装置（46）下降，这提供了在电磁辐射（18）的入射位置的依存性的电信号（48）。

16. 发明申请

WO2008122626A2 OPTICAL ELEMENT MODULE WITH IMAGING ERROR AND POSITION CORRECTION 审中-公开
标题翻译：具有成像误差和位置校正的光学元件模块
公开(公告)号：WO2008122626A2
公开(公告)日：2008-10-16
申请号：PCT/EP2008/054154
申请日：2008-04-07
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GELLRICH, Bernhard , KUGLER, Jens , LIMBACH, Guido
发明人： GELLRICH, Bernhard , KUGLER, Jens , LIMBACH, Guido
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/02
CPC分类号： G03F7/70825 , G02B7/023 , G02B27/0068 , G03F7/70258
摘要： There is provided an optical element module comprising an optical element and a support structure supporting the optical element, the support structure comprising a first holding structure, an intermediate structure and a second holding structure. The first holding structure contacts the optical element and is adapted to adjustably introduce defined deformations into the optical element. The intermediate structure supports the first holding structure while the second holding structure supports the intermediate structure and is adapted to adjust the position of the intermediate structure.
摘要翻译：提供了一种光学元件模块，包括光学元件和支撑光学元件的支撑结构，该支撑结构包括第一保持结构，中间结构和第二保持结构。第一保持结构接触光学元件并且适于将限定的变形引入到光学元件中。中间结构支撑第一保持结构，而第二保持结构支撑中间结构并且适于调整中间结构的位置。

17. 发明申请

WO2008066375A3 PROCESS, APPARATUS AND DEVICE 审中-公开
标题翻译：过程，设备和设备
公开(公告)号：WO2008066375A3
公开(公告)日：2008-08-28
申请号：PCT/NL2007000298
申请日：2007-12-03
申请人： ASML NETHERLANDS BV , MOS EVERHARDUS CORNELIS , VAN DER SCHAAR MAURITS , SIMONS HUBERTUS JOHANNES GERTR
发明人： MOS EVERHARDUS CORNELIS , VAN DER SCHAAR MAURITS , SIMONS HUBERTUS JOHANNES GERTR
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/70258 , G03F7/70358 , G03F7/70458 , G03F7/70525 , G03F7/70633 , G03F7/70783
摘要： A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam, a support for a patterning device, a substrate table for a substrate, a projection system, and a control system. The patterning device is capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam. The projection system is configured to project the patterned radiation beam as an image onto a target portion of the substrate along a scan path. The scan path is defined by a trajectory in a scanning direction of an exposure field of the lithographic apparatus. The control system is coupled to the support, the substrate table and the projection system for controlling an action of the support, the substrate table and the projection system, respectively. The control system is configured to correct a local distortion of the image in a region along the scan path by a temporal adjustment of the image in that region, hereby reducing the intra-field overlay errors.
摘要翻译：光刻设备包括配置成调节辐射束的照明系统，图案形成装置的支撑件，用于衬底的衬底台，投影系统和控制系统。图案形成装置能够在其横截面中赋予辐射束图案以形成图案化的辐射束。投影系统被配置为沿着扫描路径将图案化的辐射束作为图像投影到基板的目标部分上。扫描路径由光刻设备的曝光场的扫描方向上的轨迹限定。控制系统耦合到支撑件，基板台和投影系统，用于分别控制支撑件，基板台和投影系统的作用。控制系统被配置为通过在该区域中的图像的时间调整来校正沿着扫描路径的区域中的图像的局部失真，从而减少了场内重叠误差。

18. 发明申请

WO2008064859A3 OPTICAL SYSTEM WITH AN EXCHANGEABLE, MANIPULABLE CORRECTION ARRANGEMENT FOR REDUCING IMAGE ABERRATIONS 审中-公开
标题翻译：具有可更换，可调节的校正装置的光学系统，用于减少图像错误
公开(公告)号：WO2008064859A3
公开(公告)日：2008-08-21
申请号：PCT/EP2007010286
申请日：2007-11-27
申请人： ZEISS CARL SMT AG , XALTER STEFAN , MEYER PETER , LIMBACH GUIDO , SORG FRANZ , SCHOEPPACH ARMIN , WEBER ULRICH , LOERING ULRICH , HELLWEG DIRK , KUGLER JENS , GELLRICH BERNHARD , HEMBACHER STEFAN , GEUPPERT BERNHARD , GOEHNERMEIER AKSEL
发明人： XALTER STEFAN , MEYER PETER , LIMBACH GUIDO , SORG FRANZ , SCHOEPPACH ARMIN , WEBER ULRICH , LOERING ULRICH , HELLWEG DIRK , KUGLER JENS , GELLRICH BERNHARD , HEMBACHER STEFAN , GEUPPERT BERNHARD , GOEHNERMEIER AKSEL
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/14
CPC分类号： G02B7/004 , G02B27/0068 , G03F7/70191 , G03F7/70258 , G03F7/70308 , G03F7/70825
摘要： The invention relates to a projection exposure apparatus for semiconductor lithography, comprising at least one manipulator (14) for reducing image aberrations, wherein the manipulator (14) contains at least one optical element (8) which can be manipulated by means of at least one actuator (13), and wherein the manipulator (14) is formed in changeable fashion together with an actuator (13).
摘要翻译：本发明涉及一种用于半导体光刻的投影曝光设备，包括至少一个用于减少像差的操纵器（14），其中操纵器（14）包含至少一个光学元件（8），该光学元件可以通过至少一个致动器（13），并且其中所述操纵器（14）与致动器（13）一起以可变方式形成。

19. 发明申请

WO2008066375A2 PROCESS, APPARATUS AND DEVICE 审中-公开
标题翻译：过程，设备和设备
公开(公告)号：WO2008066375A2
公开(公告)日：2008-06-05
申请号：PCT/NL2007/000298
申请日：2007-12-03
申请人： ASML NETHERLANDS B.V. , MOS, Everhardus, Cornelis , VAN DER SCHAAR, Maurits , SIMONS, Hubertus, Johannes, Gertrudus
发明人： MOS, Everhardus, Cornelis , VAN DER SCHAAR, Maurits , SIMONS, Hubertus, Johannes, Gertrudus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/70258 , G03F7/70358 , G03F7/70458 , G03F7/70525 , G03F7/70633 , G03F7/70783
摘要： A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam, a support for a patterning device, a substrate table for a substrate, a projection system, and a control system. The patterning device is capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam. The projection system is configured to project the patterned radiation beam as an image onto a target portion of the substrate along a scan path. The scan path is defined by a trajectory in a scanning direction of an exposure field of the lithographic apparatus. The control system is coupled to the support, the substrate table and the projection system for controlling an action of the support, the substrate table and the projection system, respectively. The control system is configured to correct a local distortion of the image in a region along the scan path by a temporal adjustment of the image in that region.
摘要翻译：光刻设备包括配置成调节辐射束的照明系统，图案形成装置的支撑件，用于衬底的衬底台，投影系统和控制系统。图案形成装置能够在其横截面中赋予辐射束图案以形成图案化的辐射束。投影系统被配置为沿着扫描路径将图案化的辐射束作为图像投影到基板的目标部分上。扫描路径由光刻设备的曝光场的扫描方向上的轨迹限定。控制系统耦合到支撑件，基板台和投影系统，用于分别控制支撑件，基板台和投影系统的作用。控制系统被配置为通过在该区域中的图像的时间调整来校正沿着扫描路径的区域中的图像的局部失真。

20. 发明申请

WO2008064859A2 OPTICAL SYSTEM WITH AN EXCHANGEABLE, MANIPULABLE CORRECTION ARRANGEMENT FOR REDUCING IMAGE ABERRATIONS 审中-公开
标题翻译：光学系统具有可交换的可操作的校正装置，用于减少图像抖动
公开(公告)号：WO2008064859A2
公开(公告)日：2008-06-05
申请号：PCT/EP2007/010286
申请日：2007-11-27
申请人： CARL ZEISS SMT AG , XALTER, Stefan , MEYER, Peter , LIMBACH, Guido , SORG, Franz , SCHOEPPACH, Armin , WEBER, Ulrich , LOERING, Ulrich , HELLWEG, Dirk , KUGLER, Jens , GELLRICH, Bernhard , HEMBACHER, Stefan , GEUPPERT, Bernhard , GÖHNERMEIER, Aksel
发明人： XALTER, Stefan , MEYER, Peter , LIMBACH, Guido , SORG, Franz , SCHOEPPACH, Armin , WEBER, Ulrich , LOERING, Ulrich , HELLWEG, Dirk , KUGLER, Jens , GELLRICH, Bernhard , HEMBACHER, Stefan , GEUPPERT, Bernhard , GÖHNERMEIER, Aksel
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B7/004 , G02B27/0068 , G03F7/70191 , G03F7/70258 , G03F7/70308 , G03F7/70825
摘要： The invention relates to a projection exposure apparatus for semiconductor lithography, comprising at least one manipulator (14) for reducing image aberrations, wherein the manipulator (14) contains at least one optical element (8) which can be manipulated by means of at least one actuator (13), and wherein the manipulator (14) is formed in changeable fashion together with an actuator (13).
摘要翻译：本发明涉及一种用于半导体光刻的投影曝光装置，包括至少一个用于减小图像像差的操纵器（14），其中所述操纵器（14）包含至少一个光学元件（8），所述至少一个光学元件可通过至少一个致动器（13），并且其中所述操纵器（14）与致动器（13）一起以可变方式形成。

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