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1. 发明申请

WO2009112239A1 VERFAHREN UND ANORDNUNG ZUR VERSCHIEBUNG 审中-公开
标题翻译：方法和系统延期
公开(公告)号：WO2009112239A1
公开(公告)日：2009-09-17
申请号：PCT/EP2009/001705
申请日：2009-03-10
申请人： HEIDELBERG INSTRUMENTS MIKROTECHNIK GMBH , FANGERAU, Michael , MANGOLD, Alexander , KAPLAN, Roland
发明人： FANGERAU, Michael , MANGOLD, Alexander , KAPLAN, Roland
IPC分类号： G01B11/26 , G01D5/26 , G01D5/30 , G02B26/08 , G02B27/64 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70258 , G02B26/0875
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Verschiebung eines durch elektromagnetische Strahlung (14) übertragenen Bildes (8) senkrecht zur Strahlungsrichtung mittels eines im Abbildungsstrahlverlauf befindlichen, drehbar angeordneten strahlungsbrechenden Körpers (2), welcher insbesondere als ein planparalleles Medium oder Glasplatte ausgebildet ist, mit einem Brechungsindex unterschiedlich zum umgebenden Medium bezüglich der verwendeten Strahlung. Ferner bezieht sich die Erfindung auf eine Anordnung zur Durchführung des Verfahrens. Das Verfahren und die Anordnung sollen dahingehend weitergebildet werden, dass eine optimierte präzise Bildverschiebung erreicht wird. Hierzu wird vorgeschlagen, dass die die Verschiebung verursachende Drehung des strahlungsbrechenden Körpers (2) dadurch gemessen wird, dass die durch die Winkeländerung in einem weiteren zur Messung genutzten elektromagnetischen Strahl (18) hervorgerufene Änderung der optischen Weglänge durch Auswertung der Überlagerung der von einer ebenen reflektierenden Fläche (24) zurückgeworfenen Strahlung mit der einfallenden elektromagnetischen Strahlung bestimmt wird, und dass ein Teil (42) des elektromagnetischen Messstrahls (18), der an der Oberfläche (44) des strahlungsbrechenden Körpers (2) reflektiert wird, auf eine Messeinrichtung (46) fällt, welche ein elektrisches Signal (48) in Abhängigkeit der Einfallsposition der elektromagnetischen Strahlung (18) liefert.
摘要翻译：本发明涉及一种方法，用于通过电磁辐射移位（14），将转印的图像（8）通过的成像光束路径的装置定位成垂直于所述辐射方向，可旋转地安装辐射折射体（2），其被设计特别是作为平面平行的介质或玻璃板，与的折射率与周围的相对于所用的辐射介质不同。此外，本发明涉及一种用于执行该方法的装置。该方法和装置将被发展到优化的精确的图像移位实现的效果。为了这个目的，它建议在辐射折射体（2）的位移引起旋转由在另一用于测量电磁波束（18）测量由所述角度变化引起通过评估的平坦反射的叠加在光路长度改变表面（24）反射的入射电磁辐射辐射被确定，并且该电磁测量光束（18）的一部分（42）反射的辐射折射体的表面（44）（2），测量装置（46）下降，这提供了在电磁辐射（18）的入射位置的依存性的电信号（48）。

2. 发明申请

WO2007025748A1 VORRICHTUNG ZUR OPTISCHEN AUFSPALTUNG UND MODULATION VON ELEKTROMAGNETISCHER STRAHLUNG 审中-公开
标题翻译：装置光学和SPLIT调制无线电波
公开(公告)号：WO2007025748A1
公开(公告)日：2007-03-08
申请号：PCT/EP2006/008508
申请日：2006-08-31
申请人： HEIDELBERG INSTRUMENTS MIKROTECHNIK GMBH , SCHWEITZER, Michael , JEHLE, Joachim
发明人： SCHWEITZER, Michael , JEHLE, Joachim
IPC分类号： G06K15/12 , G02F1/11 , G02F1/33
CPC分类号： G02F1/11 , G02F1/113 , G02F1/33 , G02F1/332
摘要： Eine Vorrichtung zur optischen Aufspaltung und Modulation von monochromatischer kohärenter elektromagnetischer Strahlung, insbesondere Lichtstrahlen und/oder Laserstrahlen, enthält eine Strahlenquelle (2), ein dieser nachgeordnetes akustisch-optisches Element (8) zur Aufspaltung des mittels der Strahlenquelle erzeugten Strahls (4) in eine Anzahl von Teilstrahlen (Ll, L2, L3, L4), einen Modulator (22) sowie einen Signalgenerator (14) zur Beaufschlagung des akustisch-optischen Elements (8) mit einem elektrischen Signal (12) zur Aufspaltung des Strahls (4) . Die Vorrichtung soll dahingehend weitergebildet werden, dass bei einfachem und funktionssicherem Aufbau und unabhängig von der Anzahl der von der Strahlenquelle (2) emittierten Strahlen die Intensität der einzelnen aufgespalteten Teilstrahlen (Ll, L2, L3, L4) konstant gehalten werden kann. Hierzu wird vorgeschlagen, dass der Modulator als ein akustisch-optischer Modulator (22) ausgebildet ist, welcher dem akustisch-optischen Element (8) nachgeordnet ist, und dass dem akustisch-optischen Modulator (22) die aufgespalteten Teilstrahlen (Ll, L2, L3, L4) zur Modulation zugeführt werden, wobei der akustisch-optische Modulator (22) mit zusätzlichen hochfrequenten elektrischen Signalen (Mf 1) ansteuerbar ist.
摘要翻译：用于光学拆分和调制单色相干的电磁辐射，尤其是光线和/或激光束的装置，含有一个辐射源（2），该下游声光元件（8），用于分离由辐射源产生的光束（4）在一个分光束（LL，L2，L3，L4）的数目，用于分离光束的调制器（22）和用于与电气信号（12）在所述声光元件（8）起作用的信号发生器（14）（4）。该装置是要开发，大意是用一个简单的且功能可靠的设计和不管从所述辐射源（2）的光线的数量，每个分割的子束的强度（LL，L2，L3，L4）可以保持恒定的发射。为了这个目的，它建议，所述调制器被构造为被布置在下游的声光元件（8）的声光调制器（22），并且所述声光调制器（22）分离的子光束（LL，L2，L3 ，L4）被提供给调制，其中，所述声光调制器（22）可以与附加的高频电信号（MF 1）被驱动。

3. 发明申请

WO2003085456A3 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM ABBILDEN EINER MASKE AUF EINEM SUBSTRAT 审中-公开
公开(公告)号：WO2003085456A3
公开(公告)日：2003-10-16
申请号：PCT/EP2003/003775
申请日：2003-04-11
申请人： HEIDELBERG INSTRUMENTS MIKROTECHNIK GMBH , KAPLAN, Roland , SOLLNER, Jürgen
发明人： KAPLAN, Roland , SOLLNER, Jürgen
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Abbilden einer Maske (1) auf einem Substrat (2), wobei mittels einer Beleuchtungseinheit (8) und einer optischen Einheit (9) die Maske (1) auf dem Substrat (2) abgebildet wird. Ferner bezieht sich die Erfindung auf eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens. Das Verfahren und die Vorrichtung sollen dahingehend ausgebildet werden, dass eine präzise Abbildung der Maske (1) und deren kleinen Strukturen auf dem Substrat (2) mit hoher Funktionssicherheit erreicht wird, wobei Verzerrungen des Substrats (2) korrigiert werden sollen. Es wird vorgeschlagen, dass die Beleuchtungseinheit (8) und die optische Einheit (9) relativ zur Maske (1) und dem Substrat (2) bewegt werden, dass Verzerrungen des Substrats (2) erfasst werden, und dass in Abhängigkeit der erfassten Verzerrungen mittels der optischen Einheit (9) die Abbildung der Maske (1) verzerrt und den Verzerrungen des Substrats (2) angepasst wird.

4. 发明申请

WO2003085456A2 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM ABBILDEN EINER MASKE AUF EINEM SUBSTRAT 审中-公开
标题翻译：方法和装置用于成像的MASK在基底上
公开(公告)号：WO2003085456A2
公开(公告)日：2003-10-16
申请号：PCT/EP2003/003775
申请日：2003-04-11
申请人： HEIDELBERG INSTRUMENTS MIKROTECHNIK GMBH , KAPLAN, Roland , SOLLNER, Jürgen
发明人： KAPLAN, Roland , SOLLNER, Jürgen
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70275 , G03F7/70258 , G03F7/70358 , G03F7/70791 , G03F7/70991
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Abbilden einer Maske (1) auf einem Substrat (2), wobei mittels einer Beleuchtungseinheit (8) und einer optischen Einheit (9) die Maske (1) auf dem Substrat (2) abgebildet wird. Ferner bezieht sich die Erfindung auf eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens. Das Verfahren und die Vorrichtung sollen dahingehend ausgebildet werden, dass eine präzise Abbildung der Maske (1) und deren kleinen Strukturen auf dem Substrat (2) mit hoher Funktionssicherheit erreicht wird, wobei Verzerrungen des Substrats (2) korrigiert werden sollen. Es wird vorgeschlagen, dass die Beleuchtungseinheit (8) und die optische Einheit (9) relativ zur Maske (1) und dem Substrat (2) bewegt werden, dass Verzerrungen des Substrats (2) erfasst werden, und dass in Abhängigkeit der erfassten Verzerrungen mittels der optischen Einheit (9) die Abbildung der Maske (1) verzerrt und den Verzerrungen des Substrats (2) angepasst wird.
摘要翻译：本发明涉及一种用于在衬底（2），其特征在于，由照明单元（8）和光学单元的装置（9）准备基板（2）上的掩模（1）上成像的掩模（1）。此外，本发明涉及一种装置，用于执行该方法。该方法和装置应当设计成使得掩模（1）与基板（2）上的小结构的精确的图像被以高可靠性，由此在基板（2）的畸变被校正实现的效果。它建议，所述照明单元（8）及光学单元（9）相对于掩模（1）与基板（2）的移动，使得所述基板（2）的扭曲被记录，并且，在所检测到的失真装置的依赖光学单元（9）扭曲掩模（1）与基板（2）的畸变的被调节的图像。

5. 发明申请

WO2008122419A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM ABBILDEN EINER PROGRAMMIERBAREN MASKE AUF EINEM SUBSTRAT 审中-公开
标题翻译：方法和装置用于成像的可编程MASK在基底上
公开(公告)号：WO2008122419A1
公开(公告)日：2008-10-16
申请号：PCT/EP2008/002710
申请日：2008-04-04
申请人： HEIDELBERG INSTRUMENTS MIKROTECHNIK GMBH , MANGOLD, Alexander , BECKER, Udo , DIEZ, Steffen , KAPLAN, Roland
发明人： MANGOLD, Alexander , BECKER, Udo , DIEZ, Steffen , KAPLAN, Roland
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70791 , G03F7/70291 , G03F7/70358
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Abbilden eines mittels einer programmierbaren Maske (1) erzeugten Musters auf einem Substrat (2), welches eine photoempfindliche Schicht aufweist, wobei mittels der Beleuchtungseinheit auf der Maske (1) Beleuchtungsflecken (3) erzeugt werden und über eine optische Einheit (6) dem Muster entsprechende Einzelabbildungen (4) auf dem Substrat (2) erzeugt werden. Ferner bezieht sich die Erfindung auf eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens und die Verwendung einer solchen Vorrichtung. Das Verfahren, die Vorrichtung und deren Verwendung sollen dahingehend ausgestaltet werden, dass eine verbesserte Auflösung und ein hoher Durchsatz erreicht werden, wobei vor allem die Positionierung von auf dem Substrat abzubildenden Strukturkanten optimiert werden sollen. Hierzu wird vorgeschlagen, dass wenigstens zwei Belichtungsvorgänge der photoempfindlichen Schicht durchgeführt werden, deren Beleuchtungsflecke (3) oder Belichtungspunkte gegeneinander versetzt vorgegeben werden, und dass das Belichtungsraster bei gleicher Anzahl von Beleuchtungsflecken oder Belichtungspunkten (3) gestreckt wird und ferner im gleichen Verhältnis die Anzahl der Belichtungsvorgänge erhöht wird.
摘要翻译：本发明涉及一种用于成像可编程掩模的装置（1）在基板上形成图案（2），其具有的感光层，其特征在于，通过掩模上的照明单元的装置（1）照明（3）中产生斑点和的光学单元（6）产生对应各个图像的模式（4）的基板（2）上。此外，本发明涉及一种用于执行该方法和使用这样的装置涉及的装置。的方法，所述设备和它的使用应到该改进的分辨率和高的吞吐量可以达到的效果，其中，特别的成像在衬底结构边缘的定位是被优化制成。为了这个目的，它提出了在感光层中的至少两个曝光操作被进行时，光点（3）设定或彼此偏移曝光点，并且所述曝光网格是在相同数目的照射斑点或暴露点的拉伸（3），并且以相同的比例进一步的数目曝光工艺增加。

6. 发明申请

WO2010057740A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR BEBILDERUNG EINES STRAHLUNGSEMPFINDLICHEN SUBSTRATS 审中-公开
标题翻译：方法和装置辐射敏感成像的衬底
公开(公告)号：WO2010057740A1
公开(公告)日：2010-05-27
申请号：PCT/EP2009/063959
申请日：2009-10-23
申请人： HEIDELBERG INSTRUMENTS MIKROTECHNIK GMBH , WYNAENDTS VAN RESANDT, Roelof , KAPLAN, Roland
发明人： WYNAENDTS VAN RESANDT, Roelof , KAPLAN, Roland
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70291 , G03F7/70283 , G03F7/70308 , G03F7/70358 , G03F7/70466
摘要： Es wird ein Verfahren zur Bebilderung eines strahlungsempfindlichen Substrats (17) offenbart, in welchem eine programmierbare Vorlage (6) auf das strahlungsempfindliche Substrat (17) unter Verwendung kohärenter Strahlung (2) mit einer Wellenlänge, bei der das Substrat (17) strahlungsempfindlich ist, projiziert wird. Ein gesamtes Bild der programmierbaren Vorlage (6) mit einem Bildraster (30) wird simultan durch eine akustisch-optische oder elektro-optische Ablenkeinheit (11) derart verschoben, dass mehrfache Projektionen an verschiedenen Positionen auf dem Substrat (17) auftreffen, so dass ein feines Teilraster (31) im Bildraster (30) auf dem Substrat (17) erzeugt wird Ferner wird eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens beschrieben.
摘要翻译：公开了一种用于成像的辐射敏感衬底（17）的方法，其中，使用（2），具有一个波长在所述基板（17）是对辐射敏感的相干辐射的辐射敏感衬底（17）上的可编程模板（6），预计。可编程模板（6）具有的图像帧（30）的整个图像是由一个声光或电光偏转器同时移位（11），使得在不同位置处的基板（17）上的多个突出部入射，从而使网格的精细部分（31）在基板（17）此外，用于执行该方法的装置进行说明上的图像的光栅（30）产生的。

7. 发明申请

WO2003081332A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR LICHTMODULATION 审中-公开
标题翻译：方法和装置用于光调制的
公开(公告)号：WO2003081332A1
公开(公告)日：2003-10-02
申请号：PCT/EP2003/003073
申请日：2003-03-25
申请人： HEIDELBERG INSTRUMENTS MIKROTECHNIK GMBH , PREUSS, Sven
发明人： PREUSS, Sven
IPC分类号： G02F1/17
CPC分类号： G02F1/167 , G02F1/17 , G02F2203/12
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Lichtmodulation, wobei die Intensität Lichtes mittels elektrisch ladbarer oder geladener Teilchen (5) veränderbar ist. Es liegt die Aufgabe zugrundu, eine schnelle und zuverlässig reproduzierbare Lichtmodulation mit gerigem Aufwand zu erreichen. Hierzu wird vorgeschlagen, dass ein Gas oder Vakuum vorgesehen wird, in welchem die Teilchen (5) bewegbar sind, dass mit dem Gas oder Vakuum zwischen wenigstens zwei Elektroden (1, 2) ein granulares Gas (6) derart erzeugt wird, dass aufgrund einer an den Elektroden anliegenden zeitlich variierenden Spannung die im elektrischen Feld zwischen den Elektroden (1, 2) vorhandenen elektrisch geladenen Teilchen (5) hin- und her bewegt werden und dass das Licht zur Modulation durch das granulare Gas (6) zwischen den Elektroden (1, 2) geleitet wird.
摘要翻译：本发明涉及一种方法和用于光调制的装置，worin光的强度可以通过进行电电荷或带电荷的颗粒（5）的被改变。本发明的目的是获得在经济，快速和可靠地再现的方式调制的光。。根据本发明，气体或真空提供worin（5）能够被移动的颗粒; 粒状气体（6）是利用至少两个电极之间的所述气体或真空（1，2）在寻求一种方式生产没有带电粒子（5）在电极之间的电场（1，2）可向后移动来回并且光的所有要被调制的是通过在电极之间的气体粒状（6）被引导（1，2）。

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