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    • 14. 发明申请
    • VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINER MEHRZAHL VON OPTOELEKTRONISCHEN HALBLEITERCHIPS
    • 方法制造光电子半导体芯片的多个
    • WO2012171817A2
    • 2012-12-20
    • PCT/EP2012/060393
    • 2012-06-01
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBHREUFER, MartinMAUTE, MarkusALBRECHT, Tony
    • REUFER, MartinMAUTE, MarkusALBRECHT, Tony
    • H01L33/00
    • H01L33/24H01L33/0062H01L33/007H01L33/0095H01L33/22H01L33/32H01L33/44
    • Es wird ein Verfahren zum Herstellen einer Mehrzahl von optoelektronischen Halbleiterchips angegeben, das zumindest die folgenden Verfahrensschritte umfasst: - Bereitstellen zumindest eines Halbleiterkörpers (1); - Einbringen von zumindest einem Graben (2) mittels zumindest eines Strukturierungsprozesses (3) in den Halbleiterkörper (1), wobei - der Graben (2) in einer vertikalen Richtung (V) die aktive Zone (12) durchbricht; - Anwendung zumindest eines Reinigungsprozesses (4) zumindest auf freiliegende Stellen des Halbleiterkörpers (1) im Bereich des Grabens (2), wobei - der Reinigungsprozess (4) zumindest einen Plasmareinigungsprozess (33) umfasst, und - der Plasmareinigungsprozess (44) eine Anzahl und/oder eine räumliche Ausdehnung von Strukturierungsrückständen (333) an freiliegenden Stellen des Halbleiterkörpers (1) zumindest im Bereich des Grabens (2) zumindest verringert; - Aufbringen zumindest einer Passivierungsschicht (5) zumindest auf freiliegende Stellen des Halbleiterkörpers (1) im Bereich des Grabens (2).
    • 一种用于制造多个给定光电半导体芯片的方法,包括至少以下步骤: - 提供至少一个半导体本体(1); - (2)通过在半导体本体的至少一个图案化工艺(3)的装置将至少一个沟槽(1),其中 - 所述槽(2)在垂直方向(V)突破了有源区(12); - 至少在至少一个清洁过程(4)的应用在半导体本体的暴露的部分(1)在所述沟槽的区域(2),其中 - 所述清洁工艺(4)包括至少一个等离子清洁工艺(33),以及 - 所述等离子清洁工艺(44)包括一个数字和 /或在半导体本体(1)至少在所述沟槽的区域(2)被至少减少外露部分结构化残留物(333)的空间范围; - 在所述沟槽的区域上的半导体主体(1)的外露部分施加至少至少一个钝化层(5)(2)。
    • 19. 发明申请
    • RINGLICHTMODUL UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES RINGLICHTMODULS
    • 环形模块和制造环形模块的方法
    • WO2014048798A2
    • 2014-04-03
    • PCT/EP2013/069274
    • 2013-09-17
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
    • ALBRECHT, TonySCHLERETH, ThomasSCHULZ, RolandGÄRTNER, ChristianBESTELE, MichaelMARFELD, JanKIRSCH, MarkusKAISER, Stephan
    • F21V7/00
    • F21V7/0008F21K9/62F21K9/64F21V7/048F21V13/04F21Y2103/33F21Y2113/13F21Y2115/10
    • In mindestens einer Ausführungsform umfasst das Ringlichtmodul (1) mehrere erste und mehrere zweite Licht emittierende optoelektronische Halbleiterbauteile (2) mit je einer Hauptemissionsrichtung (20), wobei die ersten Halbleiterbauteile eine von den zweiten Halbleiterbauteilen verschiedene spektrale Emission aufweisen. Das Ringlichtmodul (1) beinhaltet einen Reflektor (3), der eine gekrümmte Reflexionsfläche aufweist (30). Es sind die Halbleiterbauteile (2) an einem Träger (4) angebracht. Die Halbleiterbauteile(2) sind, in Draufsicht auf die Reflexionsfläche (30) gesehen, entlang einer Anordnungslinie (42) ringförmig um die Reflexionsfläche (42) herum angeordnet. In einem Zentrum (44) weist der Reflektor (3) eine maximale Höhe auf, bezogen auf eine Bodenseite (40) des Ringlichtmoduls (1). Das Zentrum (44) befindet sich in einer geometrischen Mitte einer von der Anordnungslinie (42) umschlossenen Innenfläche. In Draufsicht auf die Reflexionsfläche (30) gesehen, weisen die Hauptemissionsrichtungen (20), mit einer Toleranz von höchstens 15°, je zu dem Zentrum (44) hin.
    • 在至少一个示例性导航用途货币形成环形光模块(1)包括多个第一和多个第二发光光电半导体部件(2)的每一个都具有一个主发光方向(20),其中,从所述第二半导体器件的第一半导体组件不同 有光谱发射。 环形灯模块(1)包括具有弯曲反射表面(30)的反射器(3)。 半导体器件(2)安装在载体(4)上。 半导体部件(2)是,在看到车(30)的Reflexionsfl BEAR的平面图,沿着装配线(42)环状地Ö RMIG所述Reflexionsfl BEAR表面(42)布置成围绕。 在一个中心(44),反射器(3)具有最大Hö到他基于所述环形发光模块(1)的底侧(40)。 中心(44)位于由排列线(42)包围的内表面的几何中心。 在看到车(30)的Reflexionsfl BEAR的平面图具有主发射方向(20),具有的H&ouml一个公差; chstens 15°;,根据中心(44)朝着