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1. 发明专利

TW201827148A 脈衝寬度控制器审中-公开
简体标题：脉冲宽度控制器
公开(公告)号：TW201827148A
公开(公告)日：2018-08-01
申请号：TW107101767
申请日：2013-09-23
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：馬菲特舍朵瑞P , MOFFITT,THEODORE P.
IPC分类号： B23K26/0622 , H01S3/139
摘要：茲揭示一種熱處理系統之脈衝寬度控制器。脈衝電磁輻射經導引通過轉動式波片至偏振分光鏡，該偏振分光鏡之反射及透射係依據該波片之相位角度。由該偏振分光鏡透射之輻射被導引至光電路，該光電路經傳遞時間後使該輻射返回該偏振分光鏡。第二轉動式波片擺設於該光電路中。該偏振分光鏡依據該第二轉動式波片之相位角度反射及透射該返回輻射。第二脈衝寬度控制器可巢套於該光電路中，且該光電路可巢套任何數量之脈衝寬度控制器。
简体摘要：兹揭示一种热处理系统之脉冲宽度控制器。脉冲电磁辐射经导引通过转动式波片至偏振分光镜，该偏振分光镜之反射及透射系依据该波片之相位角度。由该偏振分光镜透射之辐射被导引至光电路，该光电路经传递时间后使该辐射返回该偏振分光镜。第二转动式波片摆设于该光电路中。该偏振分光镜依据该第二转动式波片之相位角度反射及透射该返回辐射。第二脉冲宽度控制器可巢套于该光电路中，且该光电路可巢套任何数量之脉冲宽度控制器。

2. 发明专利

TWI558045B 用於種源雷射模式穩定化之系統及方法有权
简体标题：用于种源激光模式稳定化之系统及方法
公开(公告)号：TWI558045B
公开(公告)日：2016-11-11
申请号：TW102129122
申请日：2013-08-14
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：桑德斯特倫理查L , SANDSTROM, RICHARD L.
IPC分类号： H01S3/11 , H01S3/139 , H05G2/00
CPC分类号： H01S3/13 , H01S3/0085 , H01S3/11 , H01S3/1305 , H01S3/136 , H01S3/1398 , H01S3/2366 , H01S3/2383 , H05G2/005 , H05G2/008

3. 发明专利

TW201415738A 用於種源雷射模式穩定化之系統及方法审中-公开
简体标题：用于种源激光模式稳定化之系统及方法
公开(公告)号：TW201415738A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：TW102129122
申请日：2013-08-14
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：桑德斯特倫理查L , SANDSTROM, RICHARD L.
IPC分类号： H01S3/11 , H01S3/139 , H05G2/00
CPC分类号： H01S3/13 , H01S3/0085 , H01S3/11 , H01S3/1305 , H01S3/136 , H01S3/1398 , H01S3/2366 , H01S3/2383 , H05G2/005 , H05G2/008
摘要：本案揭示一種用以在一雷射產生電漿(LPP)極紫外線(EUV)光系統中穩定化種源雷射之方法及裝置。在一個實施例中，可藉由一可移動反射鏡來調整雷射之空腔長度，該可移動反射鏡形成空腔之一個末端。在不同的反射鏡位置處量測自一輸出脈衝之釋放至下一次達到雷射發光臨界值之時間延遲，且選擇導致空腔模式與雷射之增益峰值對準之一反射鏡位置，因此產生自雷射之一輸出脈衝至下一個雷射發光臨界值之最小時間延遲。雷射中之一Q開關允許預雷射發光且因此允許輸出脈衝之無抖動定時。回饋迴路將雷射輸出保持在最大增益及最大效率，且將衰減及定時保持在所需的操作點處。
简体摘要：本案揭示一种用以在一激光产生等离子(LPP)极紫外线(EUV)光系统中稳定化种源激光之方法及设备。在一个实施例中，可借由一可移动反射镜来调整激光之空腔长度，该可移动反射镜形成空腔之一个末端。在不同的反射镜位置处量测自一输出脉冲之释放至下一次达到激光发光临界值之时间延迟，且选择导致空腔模式与激光之增益峰值对准之一反射镜位置，因此产生自激光之一输出脉冲至下一个激光发光临界值之最小时间延迟。激光中之一Q开关允许预激光发光且因此允许输出脉冲之无抖动定时。回馈回路将激光输出保持在最大增益及最大效率，且将衰减及定时保持在所需的操作点处。

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