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1. 发明专利

TWI683490B 用於兩腔室氣體放電雷射系統中之自動氣體最佳化之系統及方法有权
简体标题：用于两腔室气体放电激光系统中之自动气体最优化之系统及方法
公开(公告)号：TWI683490B
公开(公告)日：2020-01-21
申请号：TW104124758
申请日：2015-07-30
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：歐布萊恩凱文 , O'BRIEN, KEVIN , 索恩斯約書亞 , THORNES, JOSHUA , 伯瑞洛麥可 , BORRELLO, MICHAEL
IPC分类号： H01S3/097 , H01S3/134

2. 发明专利

TWI542099B 雙腔室氣體放電雷射光源、在一雙腔室氣體放電雷射光源中補充氣體的方法、及非暫態電腦可讀取媒體有权
简体标题：双腔室气体放电激光光源、在一双腔室气体放电激光光源中补充气体的方法、及非暂态电脑可读取媒体
公开(公告)号：TWI542099B
公开(公告)日：2016-07-11
申请号：TW101146072
申请日：2012-12-07
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：萊格斯丹尼爾J , RIGGS, DANIEL J.
IPC分类号： H01S3/036 , H01S3/134
CPC分类号： H01S3/036 , H01S3/104 , H01S3/225 , H01S3/2308

3. 发明专利

TW201611450A 用於兩腔室氣體放電雷射系統中之自動氣體最佳化之系統及方法审中-公开
简体标题：用于两腔室气体放电激光系统中之自动气体最优化之系统及方法
公开(公告)号：TW201611450A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW104124758
申请日：2015-07-30
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：歐布萊恩凱文 , O'BRIEN, KEVIN , 索恩斯約書亞 , THORNES, JOSHUA , 伯瑞洛麥可 , BORRELLO, MICHAEL
IPC分类号： H01S3/097 , H01S3/134
CPC分类号： H01S3/036 , H01S3/0014 , H01S3/104 , H01S3/13 , H01S3/134 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2308
摘要：本案揭示用於在兩腔室氣體放電雷射之腔室中的再填充之後自動地進行氣體最佳化之系統及方法。在低功率下發射該雷射，且必要時放出該放大器雷射腔室中之該氣體，直至該放電電壓符合或超過最小值，而不使該壓力下降至一最小值以下。增加該功率輸出以達近似該雷射之預期操作的叢發型式，且必要時再次放出該放大器腔室氣體直至該電壓及輸出能量符合或超過最小值，或直至該壓力小於最小值。隨後必要時放出該主控振盪器腔室中之該氣體，直至該主控振盪器之該輸出能量符合或降至最大值以下，而又不使該腔室中之該壓力下降至該最小值以下。雖然該壓力獲調整，但亦量測且調整帶寬以保留在所欲範圍內。一旦提供該等目標值，該過程即快速允許而無需手動交互。
简体摘要：本案揭示用于在两腔室气体放电激光之腔室中的再填充之后自动地进行气体最优化之系统及方法。在低功率下发射该激光，且必要时放出该放大器激光腔室中之该气体，直至该放电电压符合或超过最小值，而不使该压力下降至一最小值以下。增加该功率输出以达近似该激光之预期操作的丛发型式，且必要时再次放出该放大器腔室气体直至该电压及输出能量符合或超过最小值，或直至该压力小于最小值。随后必要时放出该主控振荡器腔室中之该气体，直至该主控振荡器之该输出能量符合或降至最大值以下，而又不使该腔室中之该压力下降至该最小值以下。虽然该压力获调整，但亦量测且调整带宽以保留在所欲范围内。一旦提供该等目标值，该过程即快速允许而无需手动交互。

4. 发明专利

TW201710802A 微影裝置审中-公开
简体标题：微影设备
公开(公告)号：TW201710802A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：TW105121273
申请日：2016-07-05
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：簡森法蘭西瑟斯喬漢那斯約瑟夫 , JANSSEN, FRANCISCUS JOHANNES JOSEPH , 戴拉羅斯特喬納斯保羅瑪利 , DE LA ROSETTE, JOHANNES PAUL MARIE , 卡迪可艾德恩寇妮絲 , KADIJK, EDWIN CORNELIS , 拉里曼特尼可拉斯亞班 , LALLEMANT, NICOLAS ALBAN , 里夫科簡 , LIEFOOGHE, JAN , 瑪蒂斯瑪庫斯羅夫沃能 , MATTHES, MARKUS ROLF WERNER , 慕捷斯馬歇爾喬翰思伊莉莎白賀伯特 , MUITJENS, MARCEL JOHANNUS ELISABETH HUBE , 史泰安斯休伯特麥修李察 , STEIJNS, HUBERT MATTHIEU RICHARD , 凡登韋德安德烈吉利斯 , 凡丹柏林克瑪瑞斯亞特 , VAN DEN BRINK, MARINUS AART
IPC分类号： G03F7/20 , B23K26/14 , H01S3/097 , H01S3/134 , H01S3/223 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/04 , H01S3/041
CPC分类号： G03F7/70891 , F28C1/08 , G03F7/70025 , G03F7/70033 , G03F7/708 , G03F7/70858 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0407 , H01S3/041 , H01S3/2232 , H01S3/2308 , H05G2/008
摘要：一種微影裝置，其包含：一照明系統，其經組態以調節一輻射光束；一支撐結構，其經建構以支撐一圖案化器件，該圖案化器件能夠在該輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予一圖案以形成一經圖案化輻射光束；一基板台，其經建構以固持一基板；及一投影系統，其經組態以將該經圖案化輻射光束投影至該基板上，該微影裝置具備一第一冷卻流體迴路，該第一冷卻流體迴路經組態以將組件冷卻至一第一溫度，且該微影裝置具備一第二冷卻流體迴路，該第二冷卻流體迴路經組態以將組件冷卻至低於該第一溫度的一第二溫度。
简体摘要：一种微影设备，其包含：一照明系统，其经组态以调节一辐射光束；一支撑结构，其经建构以支撑一图案化器件，该图案化器件能够在该辐射光束之横截面中向该辐射光束赋予一图案以形成一经图案化辐射光束；一基板台，其经建构以固持一基板；及一投影系统，其经组态以将该经图案化辐射光束投影至该基板上，该微影设备具备一第一冷却流体回路，该第一冷却流体回路经组态以将组件冷却至一第一温度，且该微影设备具备一第二冷却流体回路，该第二冷却流体回路经组态以将组件冷却至低于该第一温度的一第二温度。

5. 发明专利

TW201334332A 用以於兩腔室氣體放電雷射系統中延長氣體壽命之系統及方法审中-公开
简体标题：用以于两腔室气体放电激光系统中延长气体寿命之系统及方法
公开(公告)号：TW201334332A
公开(公告)日：2013-08-16
申请号：TW101146072
申请日：2012-12-07
申请人：希瑪股份有限公司 , CYMER, INC.
发明人：萊格斯丹尼爾J , RIGGS, DANIEL J.
IPC分类号： H01S3/036 , H01S3/134
CPC分类号： H01S3/036 , H01S3/104 , H01S3/225 , H01S3/2308
摘要：本發明描述一種用以實行將鹵素氣體注入諸如一MOPA受激準分子雷射之一雙腔室氣體放電雷射的腔室中，以便使該雷射能夠在可接受的參數範圍內運作，並且補償老化影響，而無需實行重填作業的方法與系統。量測一反映出該雷射之效率的參數，並且估算該參數對於雷射運作時間長度的變化，同時亦量測該參數對於其中一腔室中的壓力變化。在一特定時間點，估算出該參數之數值總變化，且由此計算出恢復該參數之數值變化所需的壓力變化量。接著改變該腔室中之壓力，以便校正雷射經過該段時間運作所產生的效率變化。
简体摘要：本发明描述一种用以实行将卤素气体注入诸如一MOPA受激准分子激光之一双腔室气体放电激光的腔室中，以便使该激光能够在可接受的参数范围内运作，并且补偿老化影响，而无需实行重填作业的方法与系统。量测一反映出该激光之效率的参数，并且估算该参数对于激光运作时间长度的变化，同时亦量测该参数对于其中一腔室中的压力变化。在一特定时间点，估算出该参数之数值总变化，且由此计算出恢复该参数之数值变化所需的压力变化量。接着改变该腔室中之压力，以便校正激光经过该段时间运作所产生的效率变化。

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