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1. 发明专利

TW201334333A 根據電性引入使用多預照放射放電之氣體放電雷射裝置中之預照放射設備审中-公开
简体标题：根据电性引入使用多预照放射放电之气体放电激光设备中之预照放射设备
公开(公告)号：TW201334333A
公开(公告)日：2013-08-16
申请号：TW101148631
申请日：2012-12-20
申请人： IPG微系統有限公司 , IPG MICROSYSTEMS LLC
发明人：賽席爾傑佛瑞P , SERCEL, JEFFREY P. , 賽席爾丹娜K , SERCEL, DANA K. , 達都思仁麥克馮 , DADELSZEN, MICHAEL VON , 馬思丹尼爾B , MASSE, DANIEL B. , 爭克特布魯斯R , JENKET, BRUCE R.
IPC分类号： H01S3/0971 , H01S3/0977
CPC分类号： H01S3/038 , H01S3/0384 , H01S3/09713 , H01S3/225
摘要：一種預照放射系統及方法可用於一氣體放電雷射裝置中，以對連接至該雷射裝置之一氣體放電室中之每一電性饋通件提供複數次紫外線(ultraviolet；UV)預照放射放電。一或多個高電壓電性饋通件電性連接至一或多個高電壓電極，該一或多個高電壓電極提供多個放電路徑至一電流回流電極，以因應經由饋通件所施加之高電壓脈波而容許每一饋通件之多次預照放射放電。該等放電路徑可包含穿過一絕緣子之火花隙放電路徑及/或漏電流(tracking)放電路徑。在某些實施例中，多個放電路徑形成於位於一高電壓電極及/或一電流回流電極上之相應漏電流定位器(tracking locator)之間。在其他實施例中，多個放電路徑形成於位於一絕緣子所圍繞之一高電壓電極上之相應放電位置之間，該等放電位置對一電流回流電極進行火花放電或漏電流放電。
简体摘要：一种预照放射系统及方法可用于一气体放电激光设备中，以对连接至该激光设备之一气体放电室中之每一电性馈通件提供复数次紫外线(ultraviolet；UV)预照放射放电。一或多个高电压电性馈通件电性连接至一或多个高电压电极，该一或多个高电压电极提供多个放电路径至一电流回流电极，以因应经由馈通件所施加之高电压脉波而容许每一馈通件之多次预照放射放电。该等放电路径可包含穿过一绝缘子之火花隙放电路径及/或漏电流(tracking)放电路径。在某些实施例中，多个放电路径形成于位于一高电压电极及/或一电流回流电极上之相应漏电流定位器(tracking locator)之间。在其他实施例中，多个放电路径形成于位于一绝缘子所围绕之一高电压电极上之相应放电位置之间，该等放电位置对一电流回流电极进行火花放电或漏电流放电。

2. 发明专利

TWI222250B 具葉片型介電電極之氣體放電雷射 GAS DISCHARGE LASER WITH BLADE-DIELECTRIC ELECTRODE 有权
简体标题：具叶片型介电电极之气体放电激光 GAS DISCHARGE LASER WITH BLADE-DIELECTRIC ELECTRODE
公开(公告)号：TWI222250B
公开(公告)日：2004-10-11
申请号：TW090113992
申请日：2001-06-08
申请人：希瑪股份有限公司 CYMER, INC.
发明人：理查 C. 伍賈多斯基 RICHARD C. UJAZDOWSKI , 麥克 C. 凱斯 MICHAEL C. CATES , 理查 G. 摩頓 RICHARD G. MORTON , 珍-馬克.休柏 JEAN-MARC HUEBER , 蘿絲 H. 威尼克 ROSS H. WINNICK
IPC分类号： H01S
CPC分类号： G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70575 , G03F7/70933 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0381 , H01S3/0385 , H01S3/0387 , H01S3/041 , H01S3/0979 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225
摘要：一種氣體放電雷射具有一雷射室有二長形之可腐蝕的電極元件，該等氣體放電雷射至少之一具有大致鈍葉片型部位，包含具有高電力傳導性之材料，有流線形介電減阻裝置被定位於該鈍葉片型部位之兩側。一脈衝電力系統以至少1KHz之速率提供電氣脈衝。一個吹風機以至少10m/s之速度帶動電極間雷射氣體的循環及一熱交換器被提供以去除被吹風機與放電所產生之熱。
简体摘要：一种气体放电激光具有一激光室有二长形之可腐蚀的电极组件，该等气体放电激光至少之一具有大致钝叶片型部位，包含具有高电力传导性之材料，有流线形介电减阻设备被定位于该钝叶片型部位之两侧。一脉冲电力系统以至少1KHz之速率提供电气脉冲。一个吹风机以至少10m/s之速度带动电极间激光气体的循环及一热交换器被提供以去除被吹风机与放电所产生之热。

3. 发明专利

TW337049B 雷射振盪器失效
简体标题：激光振荡器
公开(公告)号：TW337049B
公开(公告)日：1998-07-21
申请号：TW086100849
申请日：1997-01-24
申请人：澁谷工業股份有限公司
发明人：村山勝樹 , 小關良治
IPC分类号： H01S
CPC分类号： H01S3/038 , H01S3/036 , H01S3/073
摘要：本發明係有關一種雷射管內至少具備一對主電極之雷射振盪器。
第１發明中，雷射管內所設之主電極中，位於雷射氣體之流通方向之下游側之主電極，實質上係形成為Ｌ字形，且其前端部被支持成與雷射管之軸方向成交叉者。依此等構成，可較以往更提高雷射光之振盪效率。
第２發明中，於上述主電極之上游側，配設一對環狀之預備電離用電極，又，設置一預備電離用電源，對上述預備電離用電極施加以高壓之脈波或交流之高電壓。藉由設置預備電離用電極，可實行一樣之預備電離，故可實行主電極之安定主放電。
简体摘要：本发明系有关一种激光管内至少具备一对主电极之激光振荡器。第１发明中，激光管内所设之主电极中，位于激光气体之流通方向之下游侧之主电极，实质上系形成为Ｌ字形，且其前端部被支持成与激光管之轴方向成交叉者。依此等构成，可较以往更提高激光光之振荡效率。第２发明中，于上述主电极之上游侧，配设一对环状之预备电离用电极，又，设置一预备电离用电源，对上述预备电离用电极施加以高压之脉波或交流之高电压。借由设置预备电离用电极，可实行一样之预备电离，故可实行主电极之安定主放电。

4. 发明专利

TW201505301A 氣體雷射裝置审中-公开
简体标题：气体激光设备
公开(公告)号：TW201505301A
公开(公告)日：2015-02-01
申请号：TW103102905
申请日：2014-01-27
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：谷野陽一 , TANINO, YOICHI , 西前順一 , NISHIMAE, JUNICHI , 山本達也 , YAMAMOTO, TATSUYA
IPC分类号： H01S3/08 , H01S3/03
CPC分类号： H01S3/038 , H01S3/034 , H01S3/076 , H01S3/0805 , H01S3/0971 , H01S3/10007 , H01S3/2232 , H01S3/2325 , H01S3/2366 , H01S2301/02
摘要：本發明提供一種氣體雷射裝置，係藉由雷射光通過經放電激發之雷射氣體而進行光放大之氣體雷射裝置，該氣體雷射裝置具備有：第一放電電極對11、12及第二放電電極對13、14，係沿著雷射光之光軸而呈縱列配置；至少兩組反射鏡43、44、45、46，以包夾藉由第一放電電極對11、12所界定之第一放電區域21及藉由第二放電電極對13、14所界定之第二放電區域22之方式呈相對向配置，用以反射藉由雷射氣體而被放大之雷射光；以及遮蔽構件51，設置於第一放電電極對11、12與第二放電電極對13、14之間，且自放電電極之電極面朝向雷射光之光軸而突出。藉由如前述之構成，即能夠以簡單之構成有效地抑制寄生振盪。
简体摘要：本发明提供一种气体激光设备，系借由激光光通过经放电激发之激光气体而进行光放大之气体激光设备，该气体激光设备具备有：第一放电电极对11、12及第二放电电极对13、14，系沿着激光光之光轴而呈纵列配置；至少两组反射镜43、44、45、46，以包夹借由第一放电电极对11、12所界定之第一放电区域21及借由第二放电电极对13、14所界定之第二放电区域22之方式呈相对向配置，用以反射借由激光气体而被放大之激光光；以及屏蔽构件51，设置于第一放电电极对11、12与第二放电电极对13、14之间，且自放电电极之电极面朝向激光光之光轴而突出。借由如前述之构成，即能够以简单之构成有效地抑制寄生振荡。

5. 发明专利

TW201218562A 氣體雷射裝置及雷射加工裝置 GAS LASER DEVICE AND LASER PROCESSING DEVICE 审中-公开
简体标题：气体激光设备及激光加工设备 GAS LASER DEVICE AND LASER PROCESSING DEVICE
公开(公告)号：TW201218562A
公开(公告)日：2012-05-01
申请号：TW100132960
申请日：2011-09-14
申请人：三菱電機股份有限公司
发明人：山本達也 , 宮本直樹 , 西前順一 , 藤川周一
IPC分类号： H01S
CPC分类号： H01S3/038 , H01S3/036 , H01S3/2232 , H01S2301/203
摘要：本發明提供一種氣體雷射裝置,係將光共振器的光軸、將雷射氣體供應至光共振器內的方向、以及激發雷射氣體之放電的方向排成相互正交之三軸正交型之氣體雷射裝置,包含有:第1激發單元U1,係包含有沿著一X方向對光共振器之光軸供應雷射氣體的風扇8a、及從該光軸起靠近上游側設置的放電電極對1a;以及第2激發單元U2,係包含有沿著+X方向對光共振器之光軸供應雷射氣體的風扇8b、及從該光軸起靠近上游側設置的放電電極對1b;放電電極對1a及放電電極對1b之各電極對之上下對的電極於氣體流方向具有相同寬度,且產生M2値為1.8至3或强度分布之波峰呈環形管狀的波束模式。依據如此的構造,即使氣體流速、氣壓、電極寬度、電極配置等參數改變也能穩定地實現均勻的增益分布。
简体摘要：本发明提供一种气体激光设备,系将光共振器的光轴、将激光气体供应至光共振器内的方向、以及激发激光气体之放电的方向排成相互正交之三轴正交型之气体激光设备,包含有:第1激发单元U1,系包含有沿着一X方向对光共振器之光轴供应激光气体的风扇8a、及从该光轴起靠近上游侧设置的放电电极对1a;以及第2激发单元U2,系包含有沿着+X方向对光共振器之光轴供应激光气体的风扇8b、及从该光轴起靠近上游侧设置的放电电极对1b;放电电极对1a及放电电极对1b之各电极对之上下对的电极于气体流方向具有相同宽度,且产生M2値为1.8至3或强度分布之波峰呈环形管状的波束模式。依据如此的构造,即使气体流速、气压、电极宽度、电极配置等参数改变也能稳定地实现均匀的增益分布。

6. 发明专利

TW200845521A 用於氣體放電雷射之可延伸電極 EXTENDABLE ELECTRODE FOR GAS DISCHARGE LASER 审中-公开
简体标题：用于气体放电激光之可延伸电极 EXTENDABLE ELECTRODE FOR GAS DISCHARGE LASER
公开(公告)号：TW200845521A
公开(公告)日：2008-11-16
申请号：TW097109841
申请日：2008-03-20
申请人：希瑪股份有限公司 CYMER, INC.
发明人：山德史東理查L SANDSTROM, RICHARD L. , 鍾泰(馬克)H CHUNG, TAE (MARK) H. , 游賈斯朶斯基理查C UJAZDOWSKI, RICHARD C.
IPC分类号： H01S
CPC分类号： H01S3/038 , H01S3/0381 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/225 , H01S3/2366
摘要：本發明揭露用以將一其中使一或兩電極由於侵蝕而受到維度變化之橫向放電氣體雷射室中的放電電極一者或兩者予以延伸之系統及方法。可進行電極延伸以增加室的壽命、在室壽命中增加雷射效能、或以上兩者。操作上,可調整間電極間隔以維持電極之間的一特定目標間隙或最佳化雷射輸出束的一特定參數諸如帶寬、脈衝至脈衝的能量穩定度、束尺寸等。
简体摘要：本发明揭露用以将一其中使一或两电极由于侵蚀而受到维度变化之横向放电气体激光室中的放电电极一者或两者予以延伸之系统及方法。可进行电极延伸以增加室的寿命、在室寿命中增加激光性能、或以上两者。操作上,可调整间电极间隔以维持电极之间的一特定目标间隙或最优化激光输出束的一特定参数诸如带宽、脉冲至脉冲的能量稳定度、束尺寸等。

7. 发明专利

TWI256184B 極高重複率狹帶氣體放電雷射系統 VERY HIGH REPETITION RATE NARROW BAND GAS DISCHARGE LASER SYSTEM 失效
简体标题：极高重复率狭带气体放电激光系统 VERY HIGH REPETITION RATE NARROW BAND GAS DISCHARGE LASER SYSTEM
公开(公告)号：TWI256184B
公开(公告)日：2006-06-01
申请号：TW094107693
申请日：2005-03-14
申请人：希瑪股份有限公司 CYMER, INC.
发明人：史提格湯瑪斯D. STEIGER, THOMAS D. , 荷塔威愛德華P. HOLTAWAY, EDWARD P. , 摩斯曼布來恩G. MOOSMAN, BRYAN G. , 拉歐拉傑塞克哈M. RAO, RAJASEKHAR M.
IPC分类号： H01S
CPC分类号： H01S3/038 , H01S3/0057 , H01S3/07 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/104 , H01S3/1305 , H01S3/2333
摘要：本發明揭示一種以MOPA方式組態而產生極高重複率氣體放電雷射系統之方法和設備，其可包含一主震盪器氣體放電層系統，其以極高脈波重複率而產生震盪器雷射輸出光脈波之光束；至少二個功率放大氣體放電雷射系統，其自該主震盪器氣體放電雷射系統接收雷射輸出光脈波並且該等至少二個功率放大氣體放電雷射系統之各個以一脈波重複率，該脈波重複率是等於一除以該等至少二個功率放大氣體放電雷射系統數目之極高脈波重複率的分量，而放大一些該等被接收之雷射輸出光脈波且以該極高脈波重複率而形成一放大之輸出雷射光脈波光束，其可以相對於該震盪器雷射輸出光脈波光束而串列地被置放。該設備和方法可進一步地包含一被連接到功率放大雷射系統之雷射光輸出的光束傳送單元。該設備和方法可是以MOPO方式組態之極高重複率氣體放電雷射系統。該設備和方法可包含一壓縮頭，其包含每秒被充電x次之一壓縮頭電荷儲存裝置；一氣體放電容室，其包含至少二組成對之氣體放電電極；至少二組磁式可飽和開關，其分別地被連接在該壓縮頭電荷儲存裝置和該等至少二組成對電極之一電極之間，且包含具有供用於第一偏壓線圈之第一偏壓電流和供用於第二偏壓線圈之第二偏壓電流的第一和第二相對偏壓線圈，並且包含一切換電路以將該偏壓電流自第一偏壓電流切換至第二偏壓電流，以至於僅該等至少二個開關之一開關以等於x除以該等至少二組成對電極數目之重複率而接收第一偏壓電流，而該等至少二組磁式可飽和開關之其他者則接收該第二偏壓電流。該設備和方法可被利用作為平版印刷工具或供用於產生雷射產生電漿EUV光。
简体摘要：本发明揭示一种以MOPA方式组态而产生极高重复率气体放电激光系统之方法和设备，其可包含一主震荡器气体放电层系统，其以极高脉波重复率而产生震荡器激光输出光脉波之光束；至少二个功率放大气体放电激光系统，其自该主震荡器气体放电激光系统接收激光输出光脉波并且该等至少二个功率放大气体放电激光系统之各个以一脉波重复率，该脉波重复率是等于一除以该等至少二个功率放大气体放电激光系统数目之极高脉波重复率的分量，而放大一些该等被接收之激光输出光脉波且以该极高脉波重复率而形成一放大之输出激光光脉波光束，其可以相对于该震荡器激光输出光脉波光束而串行地被置放。该设备和方法可进一步地包含一被连接到功率放大激光系统之激光光输出的光束发送单元。该设备和方法可是以MOPO方式组态之极高重复率气体放电激光系统。该设备和方法可包含一压缩头，其包含每秒被充电x次之一压缩头电荷存储设备；一气体放电容室，其包含至少二组成对之气体放电电极；至少二组磁式可饱和开关，其分别地被连接在该压缩头电荷存储设备和该等至少二组成对电极之一电极之间，且包含具有供用于第一偏压线圈之第一偏压电流和供用于第二偏压线圈之第二偏压电流的第一和第二相对偏压线圈，并且包含一切换电路以将该偏压电流自第一偏压电流切换至第二偏压电流，以至于仅该等至少二个开关之一开关以等于x除以该等至少二组成对电极数目之重复率而接收第一偏压电流，而该等至少二组磁式可饱和开关之其他者则接收该第二偏压电流。该设备和方法可被利用作为平版印刷工具或供用于产生激光产生等离子EUV光。

8. 发明专利

TW569508B 極窄頻帶雙腔室高重複率氣體放電雷射系統有权
简体标题：极窄频带双腔室高重复率气体放电激光系统
公开(公告)号：TW569508B
公开(公告)日：2004-01-01
申请号：TW091119519
申请日：2002-08-28
申请人：希瑪股份有限公司 CYMER, INC.
发明人：大衛S 諾斯 DAVID S. KNOWLES , 丹尼爾J W 布朗 DANIEL J. W. BROWN , 賀夫A 貝薩塞樂 HERVE A. BESAUCELE , 大衛W 麥亞 DAVID W. MYERS , 亞歷山大I 伊爾修夫 ALEXANDER I. ERSHOV , 威廉N 派特洛 WILLIAM N. PARTLO , 理查L 珊德斯壯 RICHARD L. SANDSTROM , 帕拉希P 達斯 PALASH P. DAS , 斯圖亞特L 安德生 STUART L. ANDERSON , 尹格爾V 弗門可夫 IGOR V. FOMENKOV , 理查C 烏賈多斯奇 RICHARD C. UJAZDOWSKI , 艾克哈德D 安可斯 ECKEHARD D. ONKELS , 理查M 奈斯 RICHARD M. NESS , 史考特 T 史密斯 SCOTT T. SMITH , 威廉G 休柏德 WILLIAM G. HULBURD , 傑佛瑞歐可斯 JEFFREY OICLES
IPC分类号： H01S
CPC分类号： G01J1/4257 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70333 , G03F7/70483 , G03F7/70575 , G03F7/70933 , H01S3/005 , H01S3/0057 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/0387 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/08036 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/1055 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/137 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2333 , H01S3/2366
摘要：一種可產生一在大約4,000Hz或以上之脈波率下及在大約5mJ或以上之脈波能量下的高品質脈波式雷射光波之注入種源模組化氣體放電雷射系統。所提供係兩個獨立之放電室，其一為一部份可產生一極窄頻帶種源光束之主控振盪器，此種源光束會在其第二放電室內被放大。此雙腔室可分別加以控制，以容許最佳化其主控振盪器內之波長參數，以及最佳化其放大室內之脈波能量參數。其一較佳實施例，係一被配置成一MOPA之ArF激態分子雷射系統，以及係特別設計來用做一有關積體電路平版印刷術之光源。在此較佳之MOPA實施例中，其每一室係包括一可提供充分氣流之單一切向風扇，藉以在脈波間少於大約0.25毫秒之時間內，淨化出自其放電區域之碎屑，而容許運作於4000Hz或以上之脈波率下。其主控振盪器係配備有一線窄化組件，其係具有一極快速之調制面鏡，可在一脈波對脈波之基礎上，在4000Hz或以上之重複率下，控制其中心線波長，而達一小於0.2pm之精密度。
简体摘要：一种可产生一在大约4,000Hz或以上之脉波率下及在大约5mJ或以上之脉波能量下的高品质脉波式激光光波之注入种源模块化气体放电激光系统。所提供系两个独立之放电室，其一为一部份可产生一极窄频带种源光束之主控振荡器，此种源光束会在其第二放电室内被放大。此双腔室可分别加以控制，以容许最优化其主控振荡器内之波长参数，以及最优化其放大室内之脉波能量参数。其一较佳实施例，系一被配置成一MOPA之ArF激态分子激光系统，以及系特别设计来用做一有关集成电路平版印刷术之光源。在此较佳之MOPA实施例中，其每一室系包括一可提供充分气流之单一切向风扇，借以在脉波间少于大约0.25毫秒之时间内，净化出自其放电区域之碎屑，而容许运作于4000Hz或以上之脉波率下。其主控振荡器系配备有一线窄化组件，其系具有一极快速之调制面镜，可在一脉波对脉波之基础上，在4000Hz或以上之重复率下，控制其中心线波长，而达一小于0.2pm之精密度。

9. 发明专利

TW496024B 具有經完全整合之電極饋通主絕緣體的雷射室有权
简体标题：具有经完全集成之电极馈通主绝缘体的激光室
公开(公告)号：TW496024B
公开(公告)日：2002-07-21
申请号：TW089117639
申请日：2000-08-30
申请人：希瑪股份有限公司
发明人： R 凱爾偉柏 , 威廉 N 派特洛
IPC分类号： H01S
CPC分类号： G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70483 , G03F7/70558 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0971 , H01S3/225
摘要：一氣體排放雷射室之饋通結構通過一密封之氣體圍封體之壁傳導電功率至圍封體內面之一單件電極。此饋通結構包括一單件整合之主絕緣體較此電極更大者。此主絕體體係被壓縮於電極和此圍封體之壁之間。形成電極和單件絕緣體之間之介面之表面係此絕緣體，以及此壁均係非常平滑以容許零組件於室溫變化時來膨脹和縮小。此饋通結構亦提供機械性支撐和校準供電極用，並包括密封以防止氣體環繞此餚通結構之洩漏。
數個中空，大體上為圓筒形之饋通絕緣體，與經整合
(續下頁)(承上頁)之主絕體整合，自經整合之主絕緣體之上部表面伸展，典型地呈一均衡間隔之列。每一整合饋通絕緣體含一大體上為同心之孔，它伸展通過至經整合之主絕緣體之下部表面並容納一饋通電導體。在一較佳具體例中，每一大體上為圓筒形之饋通絕緣體包括一同心槽溝圍繞其外徑。在某些具體例中，經整合之主絕緣體係陶瓷材料製成，典型地為99.5%純度之氧化鋁。
此經整合之主絕緣體係被夾持於一下部電極和此密封之圍壁之上部內壁之間，因此，此整合之饋通絕緣體伸展
(續下頁)(承上頁)通過圍壁中之直線對準淨空孔。夾持係典型地藉穿著餚通電導體之下部終端進入電極內而提供，並抵靠密封圍封體之上部外壁之一絕緣之"翼形樁"結構而拉緊上部終端。比較正常不變之夾緊力係利用比利佛(Bellevile)墊圈兩提供。要限制較熱之膨脹於此圍封體和單件主絕緣體之間，此絕緣體係僅在其中央位置處被明確地制止以容許相關之膨脹和收縮來自其中央。
简体摘要：一气体排放激光室之馈通结构通过一密封之气体围封体之壁传导电功率至围封体内面之一单件电极。此馈通结构包括一单件集成之主绝缘体较此电极更大者。此主绝体体系被压缩于电极和此围封体之壁之间。形成电极和单件绝缘体之间之界面之表面系此绝缘体，以及此壁均系非常平滑以容许零组件于室温变化时来膨胀和缩小。此馈通结构亦提供机械性支撑和校准供电极用，并包括密封以防止气体环绕此肴通结构之泄漏。数个中空，大体上为圆筒形之馈通绝缘体，与经集成 (续下页)(承上页)之主绝体集成，自经集成之主绝缘体之上部表面伸展，典型地呈一均衡间隔之列。每一集成馈通绝缘体含一大体上为同心之孔，它伸展通过至经集成之主绝缘体之下部表面并容纳一馈通电导体。在一较佳具体例中，每一大体上为圆筒形之馈通绝缘体包括一同心槽沟围绕其外径。在某些具体例中，经集成之主绝缘体系陶瓷材料制成，典型地为99.5%纯度之氧化铝。此经集成之主绝缘体系被夹持于一下部电极和此密封之围壁之上部内壁之间，因此，此集成之馈通绝缘体伸展 (续下页)(承上页)通过围壁中之直线对准净空孔。夹持系典型地藉穿着肴通电导体之下部终端进入电极内而提供，并抵靠密封围封体之上部外壁之一绝缘之"翼形桩"结构而拉紧上部终端。比较正常不变之夹紧力系利用比利佛(Bellevile)垫圈两提供。要限制较热之膨胀于此围封体和单件主绝缘体之间，此绝缘体系仅在其中央位置处被明确地制止以容许相关之膨胀和收缩来自其中央。

10. 发明专利

TWI395385B 用於氣體放電雷射之可延伸電極有权
简体标题：用于气体放电激光之可延伸电极
公开(公告)号：TWI395385B
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：TW097109841
申请日：2008-03-20
申请人：希瑪股份有限公司 , CYMER, INC.
发明人：山德史東理查L. , SANDSTROM, RICHARD L. , 鍾泰(馬克)H. , CHUNG, TAE (MARK) H. , 游賈斯朵斯基理查C. , UJAZDOWSKI, RICHARD C.
IPC分类号： H01S3/097 , H01S3/038
CPC分类号： H01S3/038 , H01S3/0381 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/225 , H01S3/2366

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