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1. 发明专利

TW200541185A 極高重複率狹帶氣體放電雷射系統 VERY HIGH REPETITION RATE NARROW BAND GAS DISCHARGE LASER SYSTEM 失效
简体标题：极高重复率狭带气体放电激光系统 VERY HIGH REPETITION RATE NARROW BAND GAS DISCHARGE LASER SYSTEM
公开(公告)号：TW200541185A
公开(公告)日：2005-12-16
申请号：TW094107693
申请日：2005-03-14
申请人：希瑪股份有限公司 CYMER, INC.
发明人：史提格湯瑪斯D. STEIGER, THOMAS D. , 荷塔威愛德華P. HOLTAWAY, EDWARD P. , 摩斯曼布來恩G. MOOSMAN, BRYAN G. , 拉歐拉傑塞克哈M. RAO, RAJASEKHAR M.
IPC分类号： H01S
CPC分类号： H01S3/038 , H01S3/0057 , H01S3/07 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/104 , H01S3/1305 , H01S3/2333
摘要：本發明揭示一種以MOPA方式組態而產生極高重複率氣體放電雷射系統之方法和設備，其可包含一主震盪器氣體放電層系統，其以極高脈波重複率而產生震盪器雷射輸出光脈波之光束；至少二個功率放大氣體放電雷射系統，其自該主震盪器氣體放電雷射系統接收雷射輸出光脈波並且該等至少二個功率放大氣體放電雷射系統之各個以一脈波重複率，該脈波重複率是等於一除以該等至少二個功率放大氣體放電雷射系統數目之極高脈波重複率的分量，而放大一些該等被接收之雷射輸出光脈波且以該極高脈波重複率而形成一放大之輸出雷射光脈波光束，其可以相對於該震盪器雷射輸出光脈波光束而串列地被置放。該設備和方法可進一步地包含一被連接到功率放大雷射系統之雷射光輸出的光束傳送單元。該設備和方法可是以MOPO方式組態之極高重複率氣體放電雷射系統。該設備和方法可包含一壓縮頭，其包含每秒被充電x次之一壓縮頭電荷儲存裝置；一氣體放電容室，其包含至少二組成對之氣體放電電極；至少二組磁式可飽和開關，其分別地被連接在該壓縮頭電荷儲存裝置和該等至少二組成對電極之一電極之間，且包含具有供用於第一偏壓線圈之第一偏壓電流和供用於第二偏壓線圈之第二偏壓電流的第一和第二相對偏壓線圈，並且包含一切換電路以將該偏壓電流自第一偏壓電流切換至第二偏壓電流，以至於僅該等至少二個開關之一開關以等於x除以該等至少二組成對電極數目之重複率而接收第一偏壓電流，而該等至少二組磁式可飽和開關之其他者則接收該第二偏壓電流。該設備和方法可被利用作為平版印刷工具或供用於產生雷射產生電漿EUV光。
简体摘要：本发明揭示一种以MOPA方式组态而产生极高重复率气体放电激光系统之方法和设备，其可包含一主震荡器气体放电层系统，其以极高脉波重复率而产生震荡器激光输出光脉波之光束；至少二个功率放大气体放电激光系统，其自该主震荡器气体放电激光系统接收激光输出光脉波并且该等至少二个功率放大气体放电激光系统之各个以一脉波重复率，该脉波重复率是等于一除以该等至少二个功率放大气体放电激光系统数目之极高脉波重复率的分量，而放大一些该等被接收之激光输出光脉波且以该极高脉波重复率而形成一放大之输出激光光脉波光束，其可以相对于该震荡器激光输出光脉波光束而串行地被置放。该设备和方法可进一步地包含一被连接到功率放大激光系统之激光光输出的光束发送单元。该设备和方法可是以MOPO方式组态之极高重复率气体放电激光系统。该设备和方法可包含一压缩头，其包含每秒被充电x次之一压缩头电荷存储设备；一气体放电容室，其包含至少二组成对之气体放电电极；至少二组磁式可饱和开关，其分别地被连接在该压缩头电荷存储设备和该等至少二组成对电极之一电极之间，且包含具有供用于第一偏压线圈之第一偏压电流和供用于第二偏压线圈之第二偏压电流的第一和第二相对偏压线圈，并且包含一切换电路以将该偏压电流自第一偏压电流切换至第二偏压电流，以至于仅该等至少二个开关之一开关以等于x除以该等至少二组成对电极数目之重复率而接收第一偏压电流，而该等至少二组磁式可饱和开关之其他者则接收该第二偏压电流。该设备和方法可被利用作为平版印刷工具或供用于产生激光产生等离子EUV光。

2. 发明专利

TWI256184B 極高重複率狹帶氣體放電雷射系統 VERY HIGH REPETITION RATE NARROW BAND GAS DISCHARGE LASER SYSTEM 失效
简体标题：极高重复率狭带气体放电激光系统 VERY HIGH REPETITION RATE NARROW BAND GAS DISCHARGE LASER SYSTEM
公开(公告)号：TWI256184B
公开(公告)日：2006-06-01
申请号：TW094107693
申请日：2005-03-14
申请人：希瑪股份有限公司 CYMER, INC.
发明人：史提格湯瑪斯D. STEIGER, THOMAS D. , 荷塔威愛德華P. HOLTAWAY, EDWARD P. , 摩斯曼布來恩G. MOOSMAN, BRYAN G. , 拉歐拉傑塞克哈M. RAO, RAJASEKHAR M.
IPC分类号： H01S
CPC分类号： H01S3/038 , H01S3/0057 , H01S3/07 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/104 , H01S3/1305 , H01S3/2333
摘要：本發明揭示一種以MOPA方式組態而產生極高重複率氣體放電雷射系統之方法和設備，其可包含一主震盪器氣體放電層系統，其以極高脈波重複率而產生震盪器雷射輸出光脈波之光束；至少二個功率放大氣體放電雷射系統，其自該主震盪器氣體放電雷射系統接收雷射輸出光脈波並且該等至少二個功率放大氣體放電雷射系統之各個以一脈波重複率，該脈波重複率是等於一除以該等至少二個功率放大氣體放電雷射系統數目之極高脈波重複率的分量，而放大一些該等被接收之雷射輸出光脈波且以該極高脈波重複率而形成一放大之輸出雷射光脈波光束，其可以相對於該震盪器雷射輸出光脈波光束而串列地被置放。該設備和方法可進一步地包含一被連接到功率放大雷射系統之雷射光輸出的光束傳送單元。該設備和方法可是以MOPO方式組態之極高重複率氣體放電雷射系統。該設備和方法可包含一壓縮頭，其包含每秒被充電x次之一壓縮頭電荷儲存裝置；一氣體放電容室，其包含至少二組成對之氣體放電電極；至少二組磁式可飽和開關，其分別地被連接在該壓縮頭電荷儲存裝置和該等至少二組成對電極之一電極之間，且包含具有供用於第一偏壓線圈之第一偏壓電流和供用於第二偏壓線圈之第二偏壓電流的第一和第二相對偏壓線圈，並且包含一切換電路以將該偏壓電流自第一偏壓電流切換至第二偏壓電流，以至於僅該等至少二個開關之一開關以等於x除以該等至少二組成對電極數目之重複率而接收第一偏壓電流，而該等至少二組磁式可飽和開關之其他者則接收該第二偏壓電流。該設備和方法可被利用作為平版印刷工具或供用於產生雷射產生電漿EUV光。
简体摘要：本发明揭示一种以MOPA方式组态而产生极高重复率气体放电激光系统之方法和设备，其可包含一主震荡器气体放电层系统，其以极高脉波重复率而产生震荡器激光输出光脉波之光束；至少二个功率放大气体放电激光系统，其自该主震荡器气体放电激光系统接收激光输出光脉波并且该等至少二个功率放大气体放电激光系统之各个以一脉波重复率，该脉波重复率是等于一除以该等至少二个功率放大气体放电激光系统数目之极高脉波重复率的分量，而放大一些该等被接收之激光输出光脉波且以该极高脉波重复率而形成一放大之输出激光光脉波光束，其可以相对于该震荡器激光输出光脉波光束而串行地被置放。该设备和方法可进一步地包含一被连接到功率放大激光系统之激光光输出的光束发送单元。该设备和方法可是以MOPO方式组态之极高重复率气体放电激光系统。该设备和方法可包含一压缩头，其包含每秒被充电x次之一压缩头电荷存储设备；一气体放电容室，其包含至少二组成对之气体放电电极；至少二组磁式可饱和开关，其分别地被连接在该压缩头电荷存储设备和该等至少二组成对电极之一电极之间，且包含具有供用于第一偏压线圈之第一偏压电流和供用于第二偏压线圈之第二偏压电流的第一和第二相对偏压线圈，并且包含一切换电路以将该偏压电流自第一偏压电流切换至第二偏压电流，以至于仅该等至少二个开关之一开关以等于x除以该等至少二组成对电极数目之重复率而接收第一偏压电流，而该等至少二组磁式可饱和开关之其他者则接收该第二偏压电流。该设备和方法可被利用作为平版印刷工具或供用于产生激光产生等离子EUV光。

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