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1. 发明专利

TW201734237A 用於VHF-RF物理氣相沉積腔室內之預塗佈屏障审中-公开
简体标题：用于VHF-RF物理气相沉积腔室内之预涂布屏障
公开(公告)号：TW201734237A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105136565
申请日：2016-11-10
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：劉振東 , LIU, ZHENDONG , 侯文婷 , HOU, WENTING , 雷建新 , LEI, JIANXIN , 翁建業 , YOUNG, DONNY , 呂明諭 , LU, WILLIAM M.
IPC分类号： C23C14/34 , C23C14/56 , H01J37/32
CPC分类号： C23C4/134 , C23C14/34 , C23C14/564 , C23C16/4404 , C23C16/45525 , C23C16/50 , C23C18/1646 , C23C18/1689 , C23C18/31 , C23C18/48 , C25D3/02 , C25D5/48 , C25D7/00 , C25D17/00 , H01J37/32477 , H01J37/32504 , H01J37/3408 , H01J37/3441 , H01J37/3476
摘要：本揭示的實施方案是關於用於處理腔室內的改良屏障。在一個實施方案中，該屏障包括具有圓柱形形狀的中空主體及被形成在該主體的內表面上的塗層，該圓柱形形狀大致上相對於該主體的中心軸對稱。該塗層是由與該處理腔室中使用的濺射靶材相同的材料形成。該屏障藉由減少該屏障與該濺射靶材之間的電弧而有利地減少使用RF-PVD沉積的薄膜中的顆粒污染物。電弧因該屏障的內表面上存在塗層而減少。
简体摘要：本揭示的实施方案是关于用于处理腔室内的改良屏障。在一个实施方案中，该屏障包括具有圆柱形形状的中空主体及被形成在该主体的内表面上的涂层，该圆柱形形状大致上相对于该主体的中心轴对称。该涂层是由与该处理腔室中使用的溅射靶材相同的材料形成。该屏障借由减少该屏障与该溅射靶材之间的电弧而有利地减少使用RF-PVD沉积的薄膜中的颗粒污染物。电弧因该屏障的内表面上存在涂层而减少。

2. 发明专利

TW201724397A 用於減少基板附近的電場影響之單件式處理套組屏蔽审中-公开
简体标题：用于减少基板附近的电场影响之单件式处理套组屏蔽
公开(公告)号：TW201724397A
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW105129459
申请日：2016-09-10
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：喬韓森威廉 , JOHANSON, WILLIAM , 沙芬戴亞基倫古莫 , SAVANDAIAH, KIRANKUMAR
IPC分类号： H01L23/34 , H01L21/203
CPC分类号： H01J37/3441 , C23C14/34 , C23C14/564 , H01J37/32513 , H01J37/32642 , H01J37/32651 , H01J37/3405
摘要：本發明提供處理套組屏蔽及整合該處理套組屏蔽的處理腔室之實施例。在一些實施例中，經配置於處理腔室中使用的單件式處理套組屏蔽用於處理具有一給定直徑的基板，該單件式處理套組屏蔽包括：具有上部分和下部分的圓柱體；設置在該上部分內的環形傳熱通道；及蓋環部，該蓋環部自該下部分徑向向內延伸且具有自該蓋環部的底表面延伸的環形腿部，其中該環形腿部經配置而與沉積環透過介面連接以在該底表面及該沉積環之間形成一迂曲路徑。
简体摘要：本发明提供处理套组屏蔽及集成该处理套组屏蔽的处理腔室之实施例。在一些实施例中，经配置于处理腔室中使用的单件式处理套组屏蔽用于处理具有一给定直径的基板，该单件式处理套组屏蔽包括：具有上部分和下部分的圆柱体；设置在该上部分内的环形传热信道；及盖环部，该盖环部自该下部分径向向内延伸且具有自该盖环部的底表面延伸的环形腿部，其中该环形腿部经配置而与沉积环透过界面连接以在该底表面及该沉积环之间形成一迂曲路径。

3. 发明专利

TWI516626B 濺鍍裝置有权
简体标题：溅镀设备
公开(公告)号：TWI516626B
公开(公告)日：2016-01-11
申请号：TW103113003
申请日：2014-04-09
申请人：佳能安內華股份有限公司 , CANON ANELVA CORPORATION
发明人：石原繁紀 , ISHIHARA, SHIGENORI
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： H01J37/3441 , C23C14/34 , C23C14/3464 , C23C14/352 , C23C14/564 , H01J37/3417 , H01J37/3435 , H01J37/3447

4. 发明专利

TW201437400A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201437400A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：TW102147525
申请日：2013-12-20
申请人：佳能安內華股份有限公司 , CANON ANELVA CORPORATION
发明人：島根由光 , SHIMANE, YOSHIMITSU , 內野聡 , UCHINO, SATOSHI , 秋山進 , AKIYAMA, SUSUMU , 松尾和昭 , MATSUO, KAZUAKI , 山口述夫 , YAMAGUCHI, NOBUO
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： H01J37/3441 , C23C14/34 , H01J37/32477 , H01J37/32715 , H01J37/32733 , H01J37/3405 , H01J37/347
摘要：基板處理裝置，係具備有處理容器、和用以在前述處理容器內而保持基板之基板支持器、和被設置在前述基板支持器之外周部處之第1遮罩、以及被設置在前述處理容器之內側處之第2遮罩。前述處理容器之內部空間，係至少藉由前述第1遮罩和前述第2遮罩以及前述基板支持器，而被區劃為用以對於前述基板進行處理之處理空間、和外部空間。前述基板支持器，係能夠沿著相對於保持前述基板之基板保持面而相垂直之驅動方向來驅動。藉由前述第1遮罩和前述第2遮罩所形成的間隙中之於與前述驅動方向相垂直之方向上的尺寸為最小之最小間隙部分，其之與前述驅動方向相平行之方向的長度，係就算是前述基板支持器被朝向前述驅動方向而驅動也不會改變。
简体摘要：基板处理设备，系具备有处理容器、和用以在前述处理容器内而保持基板之基板支持器、和被设置在前述基板支持器之外周部处之第1遮罩、以及被设置在前述处理容器之内侧处之第2遮罩。前述处理容器之内部空间，系至少借由前述第1遮罩和前述第2遮罩以及前述基板支持器，而被区划为用以对于前述基板进行处理之处理空间、和外部空间。前述基板支持器，系能够沿着相对于保持前述基板之基板保持面而相垂直之驱动方向来驱动。借由前述第1遮罩和前述第2遮罩所形成的间隙中之于与前述驱动方向相垂直之方向上的尺寸为最小之最小间隙部分，其之与前述驱动方向相平行之方向的长度，系就算是前述基板支持器被朝向前述驱动方向而驱动也不会改变。

5. 发明专利

TW201428822A 遮蔽元件、使用其之基板處理系統及取出或插入其之方法审中-公开
简体标题：屏蔽组件、使用其之基板处理系统及取出或插入其之方法
公开(公告)号：TW201428822A
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：TW102140973
申请日：2013-11-12
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：林登博克雷波 , LINDENBERG, RALPH , 克巴羅爾剛 , KOPARAL, ERKAN
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/677
CPC分类号： H01J37/3441 , C23C14/042 , C23C14/50 , C23C14/564 , C23C14/568 , C23C16/042 , C23C16/4401 , H01J2237/3323 , H01L21/67173 , H01L21/67751 , H01L21/6776
摘要：一種用於自一基板處理系統之一處理腔體取出一遮蔽元件或插入遮蔽元件至處理腔體中之方法係提供。基板處理系統包括處理腔體、一第一遮蔽元件、及一基板傳輸系統。第一遮蔽元件用於排除一材料應用於一基板之數個部分。基板傳輸系統用於傳輸數個基板或數個基板載體至處理腔體內或至處理腔體外。此方法包括藉由基板傳輸系統傳輸第一遮蔽元件。
简体摘要：一种用于自一基板处理系统之一处理腔体取出一屏蔽组件或插入屏蔽组件至处理腔体中之方法系提供。基板处理系统包括处理腔体、一第一屏蔽组件、及一基板传输系统。第一屏蔽组件用于排除一材料应用于一基板之数个部分。基板传输系统用于传输数个基板或数个基板载体至处理腔体内或至处理腔体外。此方法包括借由基板传输系统传输第一屏蔽组件。

6. 发明专利

TWI435941B 基材處理室用的套組和靶材有权
简体标题：基材处理室用的套组和靶材
公开(公告)号：TWI435941B
公开(公告)日：2014-05-01
申请号：TW095140305
申请日：2006-10-31
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：史奇寶凱薩琳 , SCHEIBLE, KATHLEEN , 法蘭干麥可艾倫 , FLANIGAN, MICHAEL ALLEN , 良土芽吾一 , YOSHIDOME, GOICHI , 艾倫阿道夫米勒 , ALLEN, ADOLPH MILLER , 帕夫洛夫克里斯多福 , PAVLOFF, CHRISTOPHER
IPC分类号： C23C14/00
CPC分类号： H01J37/3488 , C23C14/3407 , C23C14/50 , H01J37/34 , H01J37/3441 , H01J37/3447 , H01L21/68735

7. 发明专利

TWI577817B 使電漿暗帶具有同心度之設備有权
简体标题：使等离子暗带具有同心度之设备
公开(公告)号：TWI577817B
公开(公告)日：2017-04-11
申请号：TW101146145
申请日：2012-12-07
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：利奇艾倫 , RITCHIE, ALAN , 楊唐尼 , YOUNG DONNY , 米勒凱斯A , MILLER, KEITH A. , 拉許德幕哈瑪德 , RASHEED, MUHAMMAD , 珊索尼史蒂芬 , SANSONI, STEVE , 派悠岱 , PAI, UDAY
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： C23C14/34 , H01J37/3417 , H01J37/3423 , H01J37/3435 , H01J37/3441

8. 发明专利

TWI561658B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI561658B
公开(公告)日：2016-12-11
申请号：TW102147525
申请日：2013-12-20
申请人：佳能安內華股份有限公司 , CANON ANELVA CORPORATION
发明人：島根由光 , SHIMANE, YOSHIMITSU , 內野聡 , UCHINO, SATOSHI , 秋山進 , AKIYAMA, SUSUMU , 松尾和昭 , MATSUO, KAZUAKI , 山口述夫 , YAMAGUCHI, NOBUO
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： H01J37/3441 , C23C14/34 , H01J37/32477 , H01J37/32715 , H01J37/32733 , H01J37/3405 , H01J37/347

9. 发明专利

TWI509097B 濺鍍裝置有权
简体标题：溅镀设备
公开(公告)号：TWI509097B
公开(公告)日：2015-11-21
申请号：TW103106768
申请日：2014-02-27
申请人：佳能安內華股份有限公司 , CANON ANELVA CORPORATION
发明人：品田正人 , SHINADA, MASATO , 上田啓介 , UEDA, KEISUKE
IPC分类号： C23C14/35
CPC分类号： H01J37/3441 , C23C14/35 , H01J37/32651 , H01J37/3405 , H01J37/3417 , H01J37/3461

10. 发明专利

TW201510255A 濺鍍裝置审中-公开
简体标题：溅镀设备
公开(公告)号：TW201510255A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：TW103113003
申请日：2014-04-09
申请人：佳能安內華股份有限公司 , CANON ANELVA CORPORATION
发明人：石原繁紀 , ISHIHARA, SHIGENORI
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： H01J37/3441 , C23C14/34 , C23C14/3464 , C23C14/352 , C23C14/564 , H01J37/3417 , H01J37/3435 , H01J37/3447
摘要：濺鍍裝置，係具備：腔室；供以在前述腔室之中保持基板的基板保持器；供以保持靶材之靶材保持器；配置於前述基板保持器與前述靶材保持器之間，具有前述基板保持器之側的第1面及前述第1面之相反側的第2面之遮擋件；具有包含與前述遮擋件之前述第2面對向之部分的第3面及前述第3面之相反側的第4面之第1屏蔽；具有包含與前述遮擋件之端部及前述第1屏蔽之端部對向之部分的第5面之第2屏蔽；以及對於以連通於形成在前述遮擋件之前述第2面與前述第1屏蔽的前述第3面之間的第1間隙之方式而配置於前述第1屏蔽的外側之氣體擴散空間供應氣體之供氣部。前述第2屏蔽，係在與前述遮擋件的端部之間包含以構成第2間隙之方式而從前述第5面突出之突出部。
简体摘要：溅镀设备，系具备：腔室；供以在前述腔室之中保持基板的基板保持器；供以保持靶材之靶材保持器；配置于前述基板保持器与前述靶材保持器之间，具有前述基板保持器之侧的第1面及前述第1面之相反侧的第2面之遮挡件；具有包含与前述遮挡件之前述第2面对向之部分的第3面及前述第3面之相反侧的第4面之第1屏蔽；具有包含与前述遮挡件之端部及前述第1屏蔽之端部对向之部分的第5面之第2屏蔽；以及对于以连通于形成在前述遮挡件之前述第2面与前述第1屏蔽的前述第3面之间的第1间隙之方式而配置于前述第1屏蔽的外侧之气体扩散空间供应气体之供气部。前述第2屏蔽，系在与前述遮挡件的端部之间包含以构成第2间隙之方式而从前述第5面突出之突出部。

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