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1. 发明专利

TW201618202A 用於基板之射束處理的處理氣體增強审中-公开
简体标题：用于基板之射束处理的处理气体增强
公开(公告)号：TW201618202A
公开(公告)日：2016-05-16
申请号：TW104129088
申请日：2015-09-03
申请人：東京威力科創艾派恩股份有限公司 , TEL EPION INC.
发明人：葛瑞夫麥可 , GRAF, MICHAEL , 羅素諾埃爾 , RUSSELL, NOEL , 葛溫馬修 C , GWINN, MATTHEW C. , 萊斯艾倫 J , LEITH, ALLEN J.
IPC分类号： H01L21/64 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/3065 , H01J27/026 , H01J37/317 , H01J2237/006 , H01J2237/0812 , H01J2237/16 , H01J2237/31732 , H01J2237/3174 , H01L21/31116 , H01L21/32136
摘要：描述一種射束處理系統和操作方法。特別是，該射束處理系統包含：一射束來源，其具有一噴嘴組件，用以將一主要氣體經由該噴嘴組件導入一真空室，以產生一氣態射束，例如氣體團簇離子束；及選用性地，一電離器，位於該噴嘴組件下游，且用以將該氣態射束離子化，以產生一離子化氣態射束。該射束處理系統更包含：一處理腔室，一基板係置放於該處理腔室之內，以藉由該氣態射束處理；及一第二氣體來源，其中該第二氣體來源包含輸送一第二氣體的一第二氣體供應系統、及一第二氣體控制器，該第二氣體控制器操作性控制於該噴嘴組件下游注入該射束處理系統之該第二氣體的流動。
简体摘要：描述一种射束处理系统和操作方法。特别是，该射束处理系统包含：一射束来源，其具有一喷嘴组件，用以将一主要气体经由该喷嘴组件导入一真空室，以产生一气态射束，例如气体团簇离子束；及选用性地，一电离器，位于该喷嘴组件下游，且用以将该气态射束离子化，以产生一离子化气态射束。该射束处理系统更包含：一处理腔室，一基板系置放于该处理腔室之内，以借由该气态射束处理；及一第二气体来源，其中该第二气体来源包含输送一第二气体的一第二气体供应系统、及一第二气体控制器，该第二气体控制器操作性控制于该喷嘴组件下游注入该射束处理系统之该第二气体的流动。

2. 发明专利

TW201601186A 離子植入裝置审中-公开
简体标题：离子植入设备
公开(公告)号：TW201601186A
公开(公告)日：2016-01-01
申请号：TW104119999
申请日：2015-06-22
申请人：住友重機械離子技術有限公司 , SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES ION TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：天野吉 , AMANO, YOSHITAKA
IPC分类号： H01J37/10 , H01J37/16 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J37/10 , H01J37/244 , H01J2237/038 , H01J2237/1202 , H01J2237/16
摘要：本發明提供一種能夠在廣泛範圍下使用之離子植入裝置及離子植入方法。本發明的離子植入裝置具備：透鏡電極單元(802)，其具備用於使離子束平行之複數個電極；及真空單元(804)，將透鏡電極單元(802)收容於、真空環境中。真空單元(804)具備：第1真空容器(806)，其具備第1導電性容器壁(814)；第2真空容器(808)，其具備第2導電性容器壁(816)；及絕緣性容器壁(810)，將第1真空容器(806)與第2真空容器(808)彼此連通，且使第1導電性容器壁(814)與第2導電性容器壁(816)絕緣。設有使透鏡電極單元(802)的複數個電極中至少1個電極與第1導電性容器壁(814)及第2導電性容器壁(816)中的至少一方絕緣之絕緣構件(828)，絕緣構件(828)與透鏡電極單元(802)一起收容於真空環境中。
简体摘要：本发明提供一种能够在广泛范围下使用之离子植入设备及离子植入方法。本发明的离子植入设备具备：透镜电极单元(802)，其具备用于使离子束平行之复数个电极；及真空单元(804)，将透镜电极单元(802)收容于、真空环境中。真空单元(804)具备：第1真空容器(806)，其具备第1导电性容器壁(814)；第2真空容器(808)，其具备第2导电性容器壁(816)；及绝缘性容器壁(810)，将第1真空容器(806)与第2真空容器(808)彼此连通，且使第1导电性容器壁(814)与第2导电性容器壁(816)绝缘。设有使透镜电极单元(802)的复数个电极中至少1个电极与第1导电性容器壁(814)及第2导电性容器壁(816)中的至少一方绝缘之绝缘构件(828)，绝缘构件(828)与透镜电极单元(802)一起收容于真空环境中。

4. 发明专利

TWI498946B 具有腔室處理與處理層電漿放電以釋放晶圓的電漿浸沒離子佈植製程有权
简体标题：具有腔室处理与处理层等离子放电以释放晶圆的等离子浸没离子布植制程
公开(公告)号：TWI498946B
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：TW098104242
申请日：2009-02-10
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：維拉卡爾馬諾傑 , VELLAIKAL, MANOJ , 山塔那卡堤 , SANTHANAM, KARTIK , 塔元B , TA, YEN B. , 西爾肯馬汀A , HILKENE, MARTIN A. , 史寇特尼凱瑟馬修D , SCOTNEY-CASTLE, MATTHEW D. , 賴肯奮 , LAI, CANFENG , 波薛夫彼得I , PORSHNEV, PETER I. , 福德馬吉德A , FOAD, MAJEED A.
IPC分类号： H01L21/265 , H01L21/67
CPC分类号： H01J37/32477 , H01J37/32412 , H01J2237/0213 , H01J2237/022 , H01J2237/16

5. 发明专利

TW200952019A 離子源审中-公开
简体标题：离子源
公开(公告)号：TW200952019A
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：TW098107332
申请日：2009-03-06
申请人：三井造船股份有限公司
发明人：辻康之
IPC分类号： H01J
CPC分类号： H01J27/14 , H01J37/08 , H01J2237/022 , H01J2237/082 , H01J2237/16
摘要：該離子源具有：具備內部空間之電漿容器，供給氣體而生成電漿，且具有導體面；一對熱電子釋放元件，與該電漿容器電性絕緣，自內部空間之內壁面突出，藉由通電，將熱電子釋放至上述內部空間；和電源，使電流各流至一對熱電子釋放元件。曝露於上述電漿容器內之電漿之內壁面的材料，和上述一對熱電子釋放單元之曝露於電漿且釋放熱電子之部分的材料，係以相同金屬為主成分之材料所構成。
简体摘要：该离子源具有：具备内部空间之等离子容器，供给气体而生成等离子，且具有导体面；一对热电子释放组件，与该等离子容器电性绝缘，自内部空间之内壁面突出，借由通电，将热电子释放至上述内部空间；和电源，使电流各流至一对热电子释放组件。曝露于上述等离子容器内之等离子之内壁面的材料，和上述一对热电子释放单元之曝露于等离子且释放热电子之部分的材料，系以相同金属为主成分之材料所构成。

6. 发明专利

TW200908100A 可裝卸的內襯 MOUNTABLE AND DISMOUNTABLE INNER SHIELD 审中-公开
简体标题：可装卸的内衬 MOUNTABLE AND DISMOUNTABLE INNER SHIELD
公开(公告)号：TW200908100A
公开(公告)日：2009-02-16
申请号：TW096129014
申请日：2007-08-07
申请人：茂德科技股份有限公司 PROMOS TECHNOLOGIES INC.
发明人：余宏彬 YU, HUNG PIN , 江學禮 CHIANG, HSUEH LI , 巫政達 WU, CHENG DA , 謝旭昇 HSHENG, SHIEN SHIU
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J37/32623 , H01J2237/0206 , H01J2237/022 , H01J2237/026 , H01J2237/038 , H01J2237/08 , H01J2237/16
摘要：一種可裝卸的內襯,適用於離子植入機台的隔離套管,內襯裝設於隔離套管內側,且內襯的構造形狀必須配合隔離套管內側的構造形狀,以完全遮蓋隔離套管內側的表面。
简体摘要：一种可装卸的内衬,适用于离子植入机台的隔离套管,内衬装设于隔离套管内侧,且内衬的构造形状必须配合隔离套管内侧的构造形状,以完全遮盖隔离套管内侧的表面。

7. 发明专利

TWI614788B 電極堆疊及相關之帶電粒子束產生器、帶電粒子微影系統及電極有权
简体标题：电极堆栈及相关之带电粒子束产生器、带电粒子微影系统及电极
公开(公告)号：TWI614788B
公开(公告)日：2018-02-11
申请号：TW103139684
申请日：2014-11-14
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：爾本尼斯威稜漢克 , URBANUS, WILLEM HENK , 威蘭德瑪寇傑加寇 , WIELAND, MARCO JAN-JACO
IPC分类号： H01J37/04 , H01J37/07 , H01J37/317
CPC分类号： G21K1/02 , G21K5/04 , H01J37/026 , H01J37/065 , H01J37/12 , H01J37/16 , H01J37/24 , H01J37/3002 , H01J37/3007 , H01J37/3174 , H01J37/3175 , H01J37/3177 , H01J2237/002 , H01J2237/0216 , H01J2237/024 , H01J2237/032 , H01J2237/04 , H01J2237/1215 , H01J2237/16 , H01J2237/1825 , H01J2237/303 , H01J2237/30472

8. 发明专利

TW201718933A 隨時間而變化之分段式壓力控制审中-公开
简体标题：随时间而变化之分段式压力控制
公开(公告)号：TW201718933A
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW105123510
申请日：2016-07-26
申请人：蘭姆研究公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：羅傑斯詹姆士 , ROGERS, JAMES , 斯波爾丁凱爾 , SPAULDING, KYLE
IPC分类号： C23C16/52 , C23C16/455 , G05D16/00
CPC分类号： H01J37/32834 , C23C16/4412 , C23C16/45589 , C30B25/14 , C30B25/165 , H01J37/32091 , H01J37/3244 , H01J37/32816 , H01J2237/16 , H01L22/26
摘要：本說明書提供用於處理基板的設備。提供處理腔室。用於支撐基板的基板支撐體係位於該處理腔室內。氣體入口將氣體提供至該處理腔室中。排壓系統圍繞基板之周圍排氣，其中圍繞基板之該周圍被分為至少三部分，其中該排壓系統控制排放壓力以控制橫越基板之氣體的速度，其中該排壓系統針對至少三部分在獨立的排放壓力下對周圍的各部分提供控制。
简体摘要：本说明书提供用于处理基板的设备。提供处理腔室。用于支撑基板的基板支撑体系位于该处理腔室内。气体入口将气体提供至该处理腔室中。排压系统围绕基板之周围排气，其中围绕基板之该周围被分为至少三部分，其中该排压系统控制排放压力以控制横越基板之气体的速度，其中该排压系统针对至少三部分在独立的排放压力下对周围的各部分提供控制。

9. 发明专利

TW201528311A 多電極冷卻佈置审中-公开
简体标题：多电极冷却布置
公开(公告)号：TW201528311A
公开(公告)日：2015-07-16
申请号：TW103139684
申请日：2014-11-14
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：爾本尼斯威稜漢克 , URBANUS, WILLEM HENK , 威蘭德瑪寇傑加寇 , WIELAND, MARCO JAN-JACO
IPC分类号： H01J37/04 , H01J37/07 , H01J37/317
CPC分类号： G21K1/02 , G21K5/04 , H01J37/026 , H01J37/065 , H01J37/12 , H01J37/16 , H01J37/24 , H01J37/3002 , H01J37/3007 , H01J37/3174 , H01J37/3175 , H01J37/3177 , H01J2237/002 , H01J2237/0216 , H01J2237/024 , H01J2237/032 , H01J2237/04 , H01J2237/1215 , H01J2237/16 , H01J2237/1825 , H01J2237/303 , H01J2237/30472
摘要：本發明係關於一種電極堆疊(70)，其包含用於操縱沿著光軸(A)之帶電粒子束(54)的堆疊電極(71-80)。每一電極包含一電極主體(81)，該電極主體(81)具有用於該帶電粒子束之孔(82)。所述電極主體相互間隔開且所述電極孔沿著該光軸同軸地對準。該電極堆疊包含介於每一對相鄰電極之間的電絕緣間隔結構(89)，所述電絕緣間隔結構(89)用於沿著軸向方向(Z)以預定相互距離來定位所述電極(71-80)。第一電極及第二電極各自包含具有一或多個支撐部分(86)的一電極主體(81)，其中每一支撐部分經配置以容納至少一個間隔結構(89)。該電極堆疊具有至少一個夾緊構件(91-91c)，所述夾緊構件(91-91c)經配置以將該第一電極及該第二電極之所述支撐部分(86)以及中間間隔結構(89)固持在一起。
简体摘要：本发明系关于一种电极堆栈(70)，其包含用于操纵沿着光轴(A)之带电粒子束(54)的堆栈电极(71-80)。每一电极包含一电极主体(81)，该电极主体(81)具有用于该带电粒子束之孔(82)。所述电极主体相互间隔开且所述电极孔沿着该光轴同轴地对准。该电极堆栈包含介于每一对相邻电极之间的电绝缘间隔结构(89)，所述电绝缘间隔结构(89)用于沿着轴向方向(Z)以预定相互距离来定位所述电极(71-80)。第一电极及第二电极各自包含具有一或多个支撑部分(86)的一电极主体(81)，其中每一支撑部分经配置以容纳至少一个间隔结构(89)。该电极堆栈具有至少一个夹紧构件(91-91c)，所述夹紧构件(91-91c)经配置以将该第一电极及该第二电极之所述支撑部分(86)以及中间间隔结构(89)固持在一起。

10. 发明专利

TW201401331A 帶電粒子微影系統和射束產生器审中-公开
简体标题：带电粒子微影系统和射束产生器
公开(公告)号：TW201401331A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW102117163
申请日：2013-05-14
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：凡賓艾利克山德亨卓克文森 , VAN VEEN, ALEXANDER HENDRIK VINCENT , 爾本尼斯威稜漢克 , URBANUS, WILLEM HENK
IPC分类号： H01J37/317 , G03F7/20
CPC分类号： H01J37/09 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/147 , H01J37/3007 , H01J37/302 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/002 , H01J2237/026 , H01J2237/0262 , H01J2237/0264 , H01J2237/16 , H01J2237/182 , H01J2237/188
摘要：本發明關於一種用於曝光一標靶的帶電粒子微影系統。該系統包含：一帶電粒子射束產生器，用於產生一帶電粒子射束；一孔徑陣列(6)，用於從該帶電粒子射束形成複數道小射束；以及一小射束投射器(12)，用以將該小射束投射在該標靶的表面上。該帶電粒子射束產生器包含：一帶電粒子源頭(3)，用以產生一發散的帶電粒子射束；一準直器系統(5a、5b、5c、5d；72；300)，用以折射該發散的帶電粒子射束；以及一冷卻配置(203)，用以移除來自該準直器系統的熱度，該冷卻配置包括一包圍該準直器系統之至少一部分的主體。
简体摘要：本发明关于一种用于曝光一标靶的带电粒子微影系统。该系统包含：一带电粒子射束产生器，用于产生一带电粒子射束；一孔径数组(6)，用于从该带电粒子射束形成复数道小射束；以及一小射束投射器(12)，用以将该小射束投射在该标靶的表面上。该带电粒子射束产生器包含：一带电粒子源头(3)，用以产生一发散的带电粒子射束；一准直器系统(5a、5b、5c、5d；72；300)，用以折射该发散的带电粒子射束；以及一冷却配置(203)，用以移除来自该准直器系统的热度，该冷却配置包括一包围该准直器系统之至少一部分的主体。

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