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1. 发明专利

TWI701427B 經組態以偵測一樣品上之缺陷之系統、用於偵測一樣品上之缺陷之方法及其非暫時性電腦可讀媒體有权
简体标题：经组态以侦测一样品上之缺陷之系统、用于侦测一样品上之缺陷之方法及其非暂时性电脑可读媒体
公开(公告)号：TWI701427B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：TW104138824
申请日：2015-11-23
申请人：美商克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：卡森堤勞倫特 , KARSENTI, LAURENT , 畢海斯卡克里斯 , BHASKAR, KRIS , 瓦格納馬克 , WAGNER, MARK , 杜菲布萊恩 , DUFFY, BRIAN , 瑞瑪錢德倫維賈亞柯馬 , RAMACHANDRAN, VIJAYAKUMAR
IPC分类号： G01M11/02 , G01N21/88

2. 发明专利

TW201625915A 用於程序窗特徵化之虛擬檢測系統审中-公开
简体标题：用于进程窗特征化之虚拟检测系统
公开(公告)号：TW201625915A
公开(公告)日：2016-07-16
申请号：TW104138824
申请日：2015-11-23
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：卡森堤勞倫特 , KARSENTI, LAURENT , 畢海斯卡克里斯 , BHASKAR, KRIS , 瓦格納馬克 , WAGNER, MARK , 杜菲布萊恩 , DUFFY, BRIAN , 瑞瑪錢德倫維賈亞柯馬 , RAMACHANDRAN, VIJAYAKUMAR
IPC分类号： G01M11/02 , G01N21/88
CPC分类号： H04L65/403 , G06F17/30867 , G06T1/0007 , G06T7/0006 , G06T2207/10144 , G06T2207/30148 , H04L67/306 , H04N7/181
摘要：本發明提供用於偵測一樣品上之缺陷之方法及系統。一系統包含經組態以儲存藉由一檢測系統產生之一樣品之一實體版本之影像之一儲存媒體。使用對該樣品執行之一製造程序之一或多個參數之不同值在該樣品上形成至少兩個晶粒。該系統亦包含(若干)電腦子系統，其(等)經組態以比較在該樣品上使用該等不同值之至少兩者形成具有相同如所設計之特性之圖案之位置處產生之經儲存影像之部分。經比較之該等經儲存影像之該等部分未受該等晶粒在該樣品上之位置、該等圖案在該等晶粒內之位置或該等圖案在該樣品上之位置約束。該(等)電腦子系統亦經組態以基於該比較之結果偵測該等位置處之缺陷。
简体摘要：本发明提供用于侦测一样品上之缺陷之方法及系统。一系统包含经组态以存储借由一检测系统产生之一样品之一实体版本之影像之一存储媒体。使用对该样品运行之一制造进程之一或多个参数之不同值在该样品上形成至少两个晶粒。该系统亦包含(若干)电脑子系统，其(等)经组态以比较在该样品上使用该等不同值之至少两者形成具有相同如所设计之特性之图案之位置处产生之经存储影像之部分。经比较之该等经存储影像之该等部分未受该等晶粒在该样品上之位置、该等图案在该等晶粒内之位置或该等图案在该样品上之位置约束。该(等)电脑子系统亦经组态以基于该比较之结果侦测该等位置处之缺陷。

3. 发明专利

TWI618976B 於微影製程中使圖案合格有权
简体标题：于微影制程中使图案合格
公开(公告)号：TWI618976B
公开(公告)日：2018-03-21
申请号：TW103128721
申请日：2014-08-20
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：石如方 , SHI, RUI-FENG , 瓦格納馬克 , WAGNER, MARK
IPC分类号： G03F1/84
CPC分类号： G03F7/7065 , G03F1/70 , G03F1/84 , G03F7/705 , G06T7/001 , G06T2207/10056 , G06T2207/30148

4. 发明专利

TW201729315A 用於使用靈活取樣之程序控制之方法及系統审中-公开
简体标题：用于使用灵活采样之进程控制之方法及系统
公开(公告)号：TW201729315A
公开(公告)日：2017-08-16
申请号：TW105130494
申请日：2016-09-21
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：迪米爾歐諾 N , DEMIRER, ONUR N. , 弗克維奇羅伊 , VOLKOVICH, ROIE , 派瑞森威廉 , PIERSON,WILLIAM , 瓦格納馬克 , WAGNER, MARK , 克林丹那 , KLEIN, DANA
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70616 , H01L22/12 , H01L22/20
摘要：產生靈活稀疏度量取樣圖包含：自一度量工具接收來自一或多個晶圓之一度量信號全集；基於該度量信號全集來判定一組晶圓性質，且計算與該組晶圓性質相關聯之一晶圓性質度量；基於該度量信號全集來計算一或多個獨立特性度量；及基於該組晶圓性質、該晶圓性質度量及該一或多個獨立特性度量來產生一靈活稀疏取樣圖。使用來自該靈活稀疏取樣圖之度量信號來計算之該一或多個性質之該一或多個獨立特性度量係在選自使用該度量信號全集來計算之該一或多個性質之一或多個獨立特性度量之一臨限值內。
简体摘要：产生灵活稀疏度量采样图包含：自一度量工具接收来自一或多个晶圆之一度量信号全集；基于该度量信号全集来判定一组晶圆性质，且计算与该组晶圆性质相关联之一晶圆性质度量；基于该度量信号全集来计算一或多个独立特性度量；及基于该组晶圆性质、该晶圆性质度量及该一或多个独立特性度量来产生一灵活稀疏采样图。使用来自该灵活稀疏采样图之度量信号来计算之该一或多个性质之该一或多个独立特性度量系在选自使用该度量信号全集来计算之该一或多个性质之一或多个独立特性度量之一临限值内。

5. 发明专利

TW201702588A 在度量衡系統中度量衡資料之前向饋送审中-公开
简体标题：在度量衡系统中度量衡数据之前向馈送
公开(公告)号：TW201702588A
公开(公告)日：2017-01-16
申请号：TW105110794
申请日：2016-04-06
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：賴威艾迪 , LEVY, ADY , 坎德爾丹尼爾 , KANDEL, DANIEL , 艾黛兒麥克E , ADEL, MICHAEL E. , 波斯拉夫斯基李奧尼多 , POSLAVSKY, LEONID , 羅賓森約翰 , ROBINSON, JOHN , 馬西安諾托爾 , MARCIANO, TAL , 布蘭歐里茲巴瑞克 , BRINGOLTZ, BARAK , 格朗茲威格塔札希 , GRUNZWEIG, TZAHI , 克林丹那 , KLEIN, DANA , 伊茲卡維奇托爾 , ITZKOVICH, TAL , 卡梅爾納達夫 , CARMEL, NADAV , 艾米爾紐瑞爾 , AMIR, NURIEL , 雷曼那森維狄亞 , RAMANATHAN, VIDYA , 坎普珍納 , CAMP, JANAY , 瓦格納馬克 , WAGNER, MARK
IPC分类号： G01N21/95 , G01N21/21 , G01B11/27 , H01L21/66
CPC分类号： G01B11/272 , G01N21/211 , G01N21/31 , G01N21/41 , G01N21/4738 , G01N21/4788 , G01N21/6489 , G01N21/9501 , G01N2021/213 , G03F7/705 , G03F7/70525 , G03F7/70533 , G03F7/70616
摘要：本發明揭示一種度量衡效能分析系統，其包含含有一或多個偵測器之一度量衡工具及通信地耦合至該一或多個偵測器之一控制器。該控制器經組態以自該度量衡工具接收相關聯於一度量衡目標之一或多個度量衡資料集，其中該一或多個度量衡資料集包含一或多個經量測度量衡度量且該一或多個經量測度量衡度量指示自標稱值之偏差。該控制器進一步經組態以判定介於自該等標稱值之該等偏差與一或多個選定半導體程序變動之間的關係，且基於介於該一或多個度量衡度量之值與該一或多個選定半導體程序變動之間的該等關係來判定自該等標稱值之該等偏差之一或多個根本原因。
简体摘要：本发明揭示一种度量衡性能分析系统，其包含含有一或多个侦测器之一度量衡工具及通信地耦合至该一或多个侦测器之一控制器。该控制器经组态以自该度量衡工具接收相关联于一度量衡目标之一或多个度量衡数据集，其中该一或多个度量衡数据集包含一或多个经量测度量衡度量且该一或多个经量测度量衡度量指示自标称值之偏差。该控制器进一步经组态以判定介于自该等标称值之该等偏差与一或多个选定半导体进程变动之间的关系，且基于介于该一或多个度量衡度量之值与该一或多个选定半导体进程变动之间的该等关系来判定自该等标称值之该等偏差之一或多个根本原因。

6. 发明专利

TW201618205A 使用重疊及對產量重要之圖案之度量审中-公开
简体标题：使用重叠及对产量重要之图案之度量
公开(公告)号：TW201618205A
公开(公告)日：2016-05-16
申请号：TW104122626
申请日：2015-07-13
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：坎德爾丹尼爾 , KANDEL, DANIEL , 史密斯馬克D , SMITH, MARK D , 瓦格納馬克 , WAGNER, MARK , 阿密特伊蘭 , AMIT, ERAN , 李明俊 , LEE, MYUNGJUN
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G06F17/5081 , G01N21/93 , G01N21/956 , G01N2201/13 , G06F2217/12 , H01L22/12 , H01L22/30 , Y02P80/30
摘要：本發明提供度量方法，其包括：識別一裝置設計中之疊對關鍵圖案，該等疊對關鍵圖案對程序變動具有高於取決於設計規格之一指定臨限值之一疊對靈敏度；且使用對應於經識別之疊對關鍵圖案之度量目標。替代地或互補地，度量方法包括根據歸因於指定程序變動之一對應程序窗變窄而識別良率關鍵圖案，其中該變窄係藉由圖案之邊緣佈置誤差(EPE)對程序參數上之一相依性而界定。本發明提供對應目標及量測。
简体摘要：本发明提供度量方法，其包括：识别一设备设计中之叠对关键图案，该等叠对关键图案对进程变动具有高于取决于设计规格之一指定临限值之一叠对灵敏度；且使用对应于经识别之叠对关键图案之度量目标。替代地或互补地，度量方法包括根据归因于指定进程变动之一对应进程窗变窄而识别良率关键图案，其中该变窄系借由图案之边缘布置误差(EPE)对进程参数上之一相依性而界定。本发明提供对应目标及量测。

7. 发明专利

TW201514617A 於微影製程中使圖案合格审中-公开
简体标题：于微影制程中使图案合格
公开(公告)号：TW201514617A
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：TW103128721
申请日：2014-08-20
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：石如方 , SHI, RUI-FENG , 瓦格納馬克 , WAGNER, MARK
IPC分类号： G03F1/84
CPC分类号： G03F7/7065 , G03F1/70 , G03F1/84 , G03F7/705 , G06T7/001 , G06T2207/10056 , G06T2207/30148
摘要：本發明揭示用於使一光微影主光罩合格之方法及設備。一主光罩檢測工具用以自該主光罩之各圖案區域獲取不同成像組態之至少兩個影像。基於來自該主光罩之各圖案區域之至少兩個影像重新建構一主光罩圖案。針對各重新建構之主光罩圖案，在此重新建構之主光罩圖案上模型化具有兩種或更多種不同程序條件之一微影程序以產生兩個或更多個對應模型化測試晶圓圖案。各自分析兩個或更多個模型化測試晶圓圖案以識別該等主光罩圖案之熱點圖案，該等熱點圖案易受改變由此等熱點圖案形成之晶圓圖案之該等不同程序條件之影響。
简体摘要：本发明揭示用于使一光微影主光罩合格之方法及设备。一主光罩检测工具用以自该主光罩之各图案区域获取不同成像组态之至少两个影像。基于来自该主光罩之各图案区域之至少两个影像重新建构一主光罩图案。针对各重新建构之主光罩图案，在此重新建构之主光罩图案上模型化具有两种或更多种不同进程条件之一微影进程以产生两个或更多个对应模型化测试晶圆图案。各自分析两个或更多个模型化测试晶圆图案以识别该等主光罩图案之热点图案，该等热点图案易受改变由此等热点图案形成之晶圆图案之该等不同进程条件之影响。

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