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1. 发明专利

TWI597569B 試料圖樣位置檢查方法有权
简体标题：试料图样位置检查方法
公开(公告)号：TWI597569B
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW104125421
申请日：2015-08-05
申请人：紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
发明人：中島和弘 , NAKASHIMA, KAZUHIRO
IPC分类号： G03F1/84
CPC分类号： G06T7/74 , G01R31/00 , G06T7/001 , G06T2207/10056 , G06T2207/30148 , H01L22/12

2. 发明专利

TWI595311B 用於檢驗光微影光罩之方法、檢驗系統及電腦可讀媒體有权
简体标题：用于检验光微影光罩之方法、检验系统及电脑可读媒体
公开(公告)号：TWI595311B
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：TW102146271
申请日：2013-12-13
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：海斯卡爾E , HESS, CARL E.
IPC分类号： G03F1/84
CPC分类号： G06T7/001 , G01N21/95607 , G01N2021/95615 , G06T2207/10056 , G06T2207/20021 , G06T2207/30148

3. 发明专利

TW201727218A 缺陷檢測方法及相關裝置审中-公开
简体标题：缺陷检测方法及相关设备
公开(公告)号：TW201727218A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW105138739
申请日：2016-11-24
申请人：索泰克公司 , SOITEC
发明人：佛斯多夫奧利維爾 , PFERSDORFF, OLIVIER
IPC分类号： G01N21/88 , H01J37/29
CPC分类号： G02B21/0016 , G01B9/04 , G01B11/30 , G01N21/4738 , G01N21/8851 , G01N21/9501 , G01N2021/8822 , G01N2021/8874 , G01N2021/8928 , G02B21/10 , G02B21/26 , G02B21/365 , G06K9/4604 , G06T7/0004 , G06T2207/10056 , G06T2207/20076 , G06T2207/30148 , H01J37/28 , H04N5/2256
摘要：本發明係關於一種用於判定一結構之頂側中一空洞型缺陷之尺寸之方法，所述結構包括設置在一底材上之一頂層，所述缺陷位於所述頂層中；該方法包括：a) 將所述結構(4)引入一反射式暗視野顯微鏡裝置，以從所述頂側散射之一光線(1’’)產生一缺陷相關第一訊號及一粗糙度相關第二訊號之一步驟；以及b) 以複數個像素擷取所述粗糙度相關第二訊號之強度值之一步驟；該方法之特徵在於其更包括：c) 將每一像素所擷取之強度值與鄰近像素所擷取之強度值加以比較，並定義所述每一像素是否被包含在一異常區中之一處理步驟；d) 提取由所述異常區之像素所擷取之強度值之標準差之一步驟；以及e) 根據所提取之標準差，判定與所述異常區相關聯之空洞型缺陷之尺寸之一步驟。本發明亦與一種用於檢測空洞型缺陷之裝置有關。
简体摘要：本发明系关于一种用于判定一结构之顶侧中一空洞型缺陷之尺寸之方法，所述结构包括设置在一底材上之一顶层，所述缺陷位于所述顶层中；该方法包括：a) 将所述结构(4)引入一反射式暗视野显微镜设备，以从所述顶侧散射之一光线(1’’)产生一缺陷相关第一信号及一粗糙度相关第二信号之一步骤；以及b) 以复数个像素截取所述粗糙度相关第二信号之强度值之一步骤；该方法之特征在于其更包括：c) 将每一像素所截取之强度值与邻近像素所截取之强度值加以比较，并定义所述每一像素是否被包含在一异常区中之一处理步骤；d) 提取由所述异常区之像素所截取之强度值之标准差之一步骤；以及e) 根据所提取之标准差，判定与所述异常区相关联之空洞型缺陷之尺寸之一步骤。本发明亦与一种用于检测空洞型缺陷之设备有关。

4. 发明专利

TW201709150A 組織學染色之空間多工审中-公开
简体标题：组织学染色之空分复用
公开(公告)号：TW201709150A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW105121804
申请日：2016-07-11
申请人：三斯坎公司 , 3SCAN, INC.
发明人：古德曼馬修 , GOODMAN, MATTHEW , 赫夫曼陶德 , HUFFMAN, TODD , 丹尼爾寇迪 , DANIEL, CODY
IPC分类号： G06T15/00 , G06T5/00
CPC分类号： G06T7/0012 , G01N1/06 , G01N1/30 , G06K9/00134 , G06K9/0014 , G06K9/32 , G06T7/33 , G06T2207/10056 , G06T2207/30024
摘要：以下係關於藉由組裝來自一或多個成像操作之虛擬影像使顯微術或組織學染色共定位之方法。具體而言，該方法減少獲得生物樣品之經多重標記之抗原或蛋白質之組織學影像所需之時間。該方法包括使組織當藉由薄片切片機將其切片時利用刀口掃描顯微鏡成像並藉由所生成之該等影像使該等樣品空間對準。該方法所實現之樣品之空間對準容許跨越不同樣品切片比較一組不同抗原或蛋白質次級或功能性染色，藉此允許組織及細胞之同時次級染色。
简体摘要：以下系关于借由组装来自一或多个成像操作之虚拟影像使显微术或组织学染色共定位之方法。具体而言，该方法减少获得生物样品之经多重标记之抗原或蛋白质之组织学影像所需之时间。该方法包括使组织当借由薄片切片机将其切片时利用刀口扫描显微镜成像并借由所生成之该等影像使该等样品空间对准。该方法所实现之样品之空间对准容许跨越不同样品切片比较一组不同抗原或蛋白质次级或功能性染色，借此允许组织及细胞之同时次级染色。

5. 发明专利

TW201626329A 用於利用一數位匹配濾波器之增強型缺陷偵測之系統及方法审中-公开
简体标题：用于利用一数码匹配滤波器之增强型缺陷侦测之系统及方法
公开(公告)号：TW201626329A
公开(公告)日：2016-07-16
申请号：TW104137396
申请日：2015-11-12
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：柯勤派維爾 , KOLCHIN, PAVEL , 雪芬尤金 , SHIFRIN, EUGENE
IPC分类号： G06T7/00 , G01N21/88
CPC分类号： G06K9/40 , G06K9/209 , G06K9/6202 , G06T5/002 , G06T7/001 , G06T2207/10056 , G06T2207/20024 , G06T2207/30024 , G06T2207/30148
摘要：一樣本之增強型缺陷偵測包含針對一第一光學模式自一樣本之兩個或兩個以上位置獲取來自該樣本之兩個或兩個以上檢驗影像。該缺陷偵測亦基於針對該第一光學模式來自該兩個或兩個以上位置之該兩個或兩個以上檢驗影像，針對一選定缺陷類型而產生一經匯總缺陷分佈，以及計算針對該第一光學模式自該兩個或兩個以上位置獲取之該兩個或兩個以上檢驗影像之一或多個雜訊相關性特性。缺陷偵測進一步包含基於該所產生之經匯總缺陷分佈及該所計算之一或多個雜訊相關性特性而產生用於該第一光學模式之一匹配濾波器。
简体摘要：一样本之增强型缺陷侦测包含针对一第一光学模式自一样本之两个或两个以上位置获取来自该样本之两个或两个以上检验影像。该缺陷侦测亦基于针对该第一光学模式来自该两个或两个以上位置之该两个或两个以上检验影像，针对一选定缺陷类型而产生一经汇总缺陷分布，以及计算针对该第一光学模式自该两个或两个以上位置获取之该两个或两个以上检验影像之一或多个噪声相关性特性。缺陷侦测进一步包含基于该所产生之经汇总缺陷分布及该所计算之一或多个噪声相关性特性而产生用于该第一光学模式之一匹配滤波器。

6. 发明专利

TW201514617A 於微影製程中使圖案合格审中-公开
简体标题：于微影制程中使图案合格
公开(公告)号：TW201514617A
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：TW103128721
申请日：2014-08-20
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：石如方 , SHI, RUI-FENG , 瓦格納馬克 , WAGNER, MARK
IPC分类号： G03F1/84
CPC分类号： G03F7/7065 , G03F1/70 , G03F1/84 , G03F7/705 , G06T7/001 , G06T2207/10056 , G06T2207/30148
摘要：本發明揭示用於使一光微影主光罩合格之方法及設備。一主光罩檢測工具用以自該主光罩之各圖案區域獲取不同成像組態之至少兩個影像。基於來自該主光罩之各圖案區域之至少兩個影像重新建構一主光罩圖案。針對各重新建構之主光罩圖案，在此重新建構之主光罩圖案上模型化具有兩種或更多種不同程序條件之一微影程序以產生兩個或更多個對應模型化測試晶圓圖案。各自分析兩個或更多個模型化測試晶圓圖案以識別該等主光罩圖案之熱點圖案，該等熱點圖案易受改變由此等熱點圖案形成之晶圓圖案之該等不同程序條件之影響。
简体摘要：本发明揭示用于使一光微影主光罩合格之方法及设备。一主光罩检测工具用以自该主光罩之各图案区域获取不同成像组态之至少两个影像。基于来自该主光罩之各图案区域之至少两个影像重新建构一主光罩图案。针对各重新建构之主光罩图案，在此重新建构之主光罩图案上模型化具有两种或更多种不同进程条件之一微影进程以产生两个或更多个对应模型化测试晶圆图案。各自分析两个或更多个模型化测试晶圆图案以识别该等主光罩图案之热点图案，该等热点图案易受改变由此等热点图案形成之晶圆图案之该等不同进程条件之影响。

7. 发明专利

TWI400331B 菌落數之計數方法有权
简体标题：菌落数之计数方法
公开(公告)号：TWI400331B
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW097119737
申请日：2008-05-28
申请人： N TECH股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA N-TECH , 養樂多本社股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA YAKULT HONSHA , 東邦商事股份有限公司 , TOHOSHOJI KABUSHIKI KAISHA
发明人：西田孝 , NISHIDA, TAKASHI , 李勝蘭 , LI, SHENGLAN , 甲斐千束 , KAI, CHIZUKA , 豐島邦光 , TOYOSHIMA, KUNIMITSU
IPC分类号： C12M1/34 , C12Q1/04 , G06T1/00
CPC分类号： C12Q1/06 , G06T7/11 , G06T7/136 , G06T2207/10056 , G06T2207/30024 , G06T2207/30242

8. 发明专利

TWI378402B 用於三維影像資料庫建構之影像預處理系統 IMAGE PREPROCESSING SYSTEM FOR 3D IMAGE DATABASE CONSTRUCTION 有权
简体标题：用于三维影像数据库建构之影像预处理系统 IMAGE PREPROCESSING SYSTEM FOR 3D IMAGE DATABASE CONSTRUCTION
公开(公告)号：TWI378402B
公开(公告)日：2012-12-01
申请号：TW098119799
申请日：2009-06-12
申请人：國立清華大學
发明人：江安世 , 李秉璋 , 荊宇泰 , 莊朝鈞 , 張修明 , 陳永昌 , 謝昌煥
IPC分类号： G06T , A61B
CPC分类号： G06T7/0014 , G06T2207/10056 , G06T2207/10081 , G06T2207/20016 , G06T2207/30016 , G06T2207/30172
摘要：本發明係揭露影像預處理系統，其包含處理單元；影像預處理單元，其耦合至處理單元以預處理影像片段資料，其中影像預處理單元包含影像融合模組以估計不同影像片段資料間之遺漏數值，以及影像接合模組以將不同影像片段資料接合成經接合之影像資料；以及資料庫，其耦合至處理單元以儲存經預處理之影像片段資料。
简体摘要：本发明系揭露影像预处理系统，其包含处理单元；影像预处理单元，其耦合至处理单元以预处理影像片段数据，其中影像预处理单元包含影像融合模块以估计不同影像片段数据间之遗漏数值，以及影像接合模块以将不同影像片段数据接合成经接合之影像数据；以及数据库，其耦合至处理单元以存储经预处理之影像片段数据。

9. 发明专利

TW201106010A 細胞的分類手法、使用該手法的影像處理程式與影像處理裝置、以及細胞塊的製造方法审中-公开
简体标题：细胞的分类手法、使用该手法的影像处理进程与影像处理设备、以及细胞块的制造方法
公开(公告)号：TW201106010A
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：TW099125264
申请日：2010-07-30
申请人：尼康股份有限公司
发明人：伊藤啟 , 三村正文 , 矢野和弘 , 佐佐木秀貴
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G06T1/00 , C12M41/46 , C12M47/04 , G06K9/00127 , G06T7/0016 , G06T2207/10016 , G06T2207/10056 , G06T2207/20021 , G06T2207/30024
摘要：影像處理程式AP係在步驟S1讀出時間序列影像,在步驟S2進行各時刻之觀察影像中細胞的提取、標記、及細胞之一一對應,在步驟S3就於指定時刻tc於觀察影像所含有之細胞,進行成熟度之判定處理。在步驟S4係就已判定成熟的細胞進行附ID,在步驟S5中,使時間序列影像沿著時間軸在回溯方向或經時間方向,進行細胞追蹤所致ID接替。在步驟S6中,根據所接替的ID資訊進行各細胞之單一化數之計算、分類,並在步驟S7中輸出解析結果。
简体摘要：影像处理进程AP系在步骤S1读出时间串行影像,在步骤S2进行各时刻之观察影像中细胞的提取、标记、及细胞之一一对应,在步骤S3就于指定时刻tc于观察影像所含有之细胞,进行成熟度之判定处理。在步骤S4系就已判定成熟的细胞进行附ID,在步骤S5中,使时间串行影像沿着时间轴在回溯方向或经时间方向,进行细胞追踪所致ID接替。在步骤S6中,根据所接替的ID信息进行各细胞之单一化数之计算、分类,并在步骤S7中输出解析结果。

10. 发明专利

TW200907052A 菌落數之計數方法审中-公开
简体标题：菌落数之计数方法
公开(公告)号：TW200907052A
公开(公告)日：2009-02-16
申请号：TW097119737
申请日：2008-05-28
申请人： N TECH股份有限公司 KABUSHIKI KAISHA N-TECH , 養樂多本社股份有限公司 KABUSHIKI KAISHA YAKULT HONSHA , 東邦商事股份有限公司 TOHOSHOJI KABUSHIKI KAISHA
发明人：西田孝 NISHIDA, TAKASHI , 李勝蘭 LI, SHENGLAN , 甲斐千束 KAI, CHIZUKA , 豐島邦光 TOYOSHIMA, KUNIMITSU
IPC分类号： C12M , C12Q , G06T
CPC分类号： C12Q1/06 , G06T7/11 , G06T7/136 , G06T2207/10056 , G06T2207/30024 , G06T2207/30242
摘要：本發明的課題在於提供一種菌落數之計數方法,可排除因攝影條件所產生之菌落數的計數偏差,能用簡易的手段取得高可靠性且穩定的菌落數的計數値。本發明的菌落數之計數方法,在將培養皿2內的培養基1所生成的微生物菌落,藉由CCD攝影機7之攝影手段(以培養皿的培養基面1f的中心附近為旋轉軸C1,配置在該旋轉軸的延長線方向上)拍攝後進行資料處理以計算菌落數時,以將培養皿的1旋轉分割成既定份數所得之指定角度逐次以旋轉軸為中心讓培養皿旋轉,並在每個指定角度之培養皿的旋轉時取得培養皿的培養基面全體的影像資料,將指定角度之培養皿的培養基面全體的影像資料進行資料處理以個別計算每個指定角度的菌落數,將每個各指定角度所個別計算出的菌落數進行數値處理以算出培養皿內的菌落數。
简体摘要：本发明的课题在于提供一种菌落数之计数方法,可排除因摄影条件所产生之菌落数的计数偏差,能用简易的手段取得高可靠性且稳定的菌落数的计数値。本发明的菌落数之计数方法,在将培养皿2内的培养基1所生成的微生物菌落,借由CCD摄影机7之摄影手段(以培养皿的培养基面1f的中心附近为旋转轴C1,配置在该旋转轴的延长线方向上)拍摄后进行数据处理以计算菌落数时,以将培养皿的1旋转分割成既定份数所得之指定角度逐次以旋转轴为中心让培养皿旋转,并在每个指定角度之培养皿的旋转时取得培养皿的培养基面全体的影像数据,将指定角度之培养皿的培养基面全体的影像数据进行数据处理以个别计算每个指定角度的菌落数,将每个各指定角度所个别计算出的菌落数进行数値处理以算出培养皿内的菌落数。

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