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1. 发明专利

TW201514617A 於微影製程中使圖案合格审中-公开
简体标题：于微影制程中使图案合格
公开(公告)号：TW201514617A
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：TW103128721
申请日：2014-08-20
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：石如方 , SHI, RUI-FENG , 瓦格納馬克 , WAGNER, MARK
IPC分类号： G03F1/84
CPC分类号： G03F7/7065 , G03F1/70 , G03F1/84 , G03F7/705 , G06T7/001 , G06T2207/10056 , G06T2207/30148
摘要：本發明揭示用於使一光微影主光罩合格之方法及設備。一主光罩檢測工具用以自該主光罩之各圖案區域獲取不同成像組態之至少兩個影像。基於來自該主光罩之各圖案區域之至少兩個影像重新建構一主光罩圖案。針對各重新建構之主光罩圖案，在此重新建構之主光罩圖案上模型化具有兩種或更多種不同程序條件之一微影程序以產生兩個或更多個對應模型化測試晶圓圖案。各自分析兩個或更多個模型化測試晶圓圖案以識別該等主光罩圖案之熱點圖案，該等熱點圖案易受改變由此等熱點圖案形成之晶圓圖案之該等不同程序條件之影響。
简体摘要：本发明揭示用于使一光微影主光罩合格之方法及设备。一主光罩检测工具用以自该主光罩之各图案区域获取不同成像组态之至少两个影像。基于来自该主光罩之各图案区域之至少两个影像重新建构一主光罩图案。针对各重新建构之主光罩图案，在此重新建构之主光罩图案上模型化具有两种或更多种不同进程条件之一微影进程以产生两个或更多个对应模型化测试晶圆图案。各自分析两个或更多个模型化测试晶圆图案以识别该等主光罩图案之热点图案，该等热点图案易受改变由此等热点图案形成之晶圆图案之该等不同进程条件之影响。

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