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1. 发明专利

TW201805715A 用於製造以相對於裝置特徵旋轉之一角度定向之計量標靶的系統及方法审中-公开
简体标题：用于制造以相对于设备特征旋转之一角度定向之计量标靶的系统及方法
公开(公告)号：TW201805715A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：TW106117700
申请日：2017-05-26
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：李明俊 , LEE, MYUNGJUN , 史密斯馬克 D , SMITH, MARK D.
IPC分类号： G03F1/22 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70283 , G03F1/22 , G03F1/38 , G03F7/70091 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , G03F7/70683
摘要：一種微影系統，其包括：一照明源，其包含沿著一第一方向分離且圍繞一光學軸對稱分佈之兩個照明極點；一圖案遮罩，其從該照明源接收照明；及一組投影光學器件，其等將對應於該圖案遮罩之一影像產生至一樣本上。該圖案遮罩包含一計量標靶圖案遮罩及裝置圖案遮罩元件。該等裝置圖案遮罩元件按一裝置分離距離沿著該第一方向分佈。該計量標靶圖案遮罩包含一組計量標靶圖案遮罩元件，其等具有對應於該等裝置圖案遮罩元件之一繞射圖案之一繞射圖案。在該樣本上產生之與該計量標靶圖案遮罩相關聯之一計量標靶沿著一第二方向特性化且具有對應於在該樣本上產生之與該等裝置圖案遮罩元件相關聯之裝置圖案元件之印刷特性之印刷特性。
简体摘要：一种微影系统，其包括：一照明源，其包含沿着一第一方向分离且围绕一光学轴对称分布之两个照明极点；一图案遮罩，其从该照明源接收照明；及一组投影光学器件，其等将对应于该图案遮罩之一影像产生至一样本上。该图案遮罩包含一计量标靶图案遮罩及设备图案遮罩组件。该等设备图案遮罩组件按一设备分离距离沿着该第一方向分布。该计量标靶图案遮罩包含一组计量标靶图案遮罩组件，其等具有对应于该等设备图案遮罩组件之一绕射图案之一绕射图案。在该样本上产生之与该计量标靶图案遮罩相关联之一计量标靶沿着一第二方向特性化且具有对应于在该样本上产生之与该等设备图案遮罩组件相关联之设备图案组件之印刷特性之印刷特性。

2. 发明专利

TW201800873A 藉由填充因數調變之製程相容性改良审中-公开
简体标题：借由填充因子调制之制程兼容性改良
公开(公告)号：TW201800873A
公开(公告)日：2018-01-01
申请号：TW106110992
申请日：2017-03-31
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：朗維司基維拉得摩 , LEVINSKI, VLADIMIR , 哈賈依坦 , HAJAJ, EITAN , 伊茲卡維奇托爾 , ITZKOVICH, TAL , 雅哈崙夏倫 , AHARON, SHARON , 艾黛兒麥克 E , ADEL, MICHAEL E. , 帕斯卡維爾尤瑞 , PASKOVER, YURI , 尼葛瑞戴瑞亞 , NEGRI, DARIA , 路巴希福斯基尤法 , LUBASHEVSKY, YUVAL , 馬那森阿農 , MANASSEN, AMNON , 李明俊 , LEE, MYUNGJUN , 史密斯馬克 D , SMITH, MARK D.
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/66
CPC分类号： G06F17/5081 , G03F7/705 , G03F7/70625 , G03F7/70683 , H01L21/027
摘要：本發明提供計量目標及目標設計方法，其中藉由以輔助元件替換來自具有一節距p之一週期性圖案之元件來定義目標元件以形成將該節距p維持為一單個節距之一複合週期性結構，該等輔助元件與該等經替換元件具有至少一個幾何差異。在與高階多重圖案化技術之相容性界限內建構目標會改良目標之保真度，且填充因數調變會使得能夠對目標進行調整以產生足以在達成該等目標之製程相容性之同時提取疊對之計量敏感度。
简体摘要：本发明提供计量目标及目标设计方法，其中借由以辅助组件替换来自具有一节距p之一周期性图案之组件来定义目标组件以形成将该节距p维持为一单个节距之一复合周期性结构，该等辅助组件与该等经替换组件具有至少一个几何差异。在与高级多重图案化技术之兼容性界限内置构目标会改良目标之保真度，且填充因子调制会使得能够对目标进行调整以产生足以在达成该等目标之制程兼容性之同时提取叠对之计量敏感度。

3. 发明专利

TW201719292A 製程敏感計量之系統及方法审中-公开
简体标题：制程敏感计量之系统及方法
公开(公告)号：TW201719292A
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW105125838
申请日：2016-08-12
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：李明俊 , LEE, MYUNGJUN , 史密斯馬克D , SMITH, MARK D. , 卡帕希山傑 , KAPASI, SANJAY , 潘戴夫史帝藍 , PANDEV, STILIAN , 山可德思米特瑞 , SANKO, DZMITRY , 沙布拉曼雁布拉迪普 , SUBRAHMANYAN, PRADEEP , 賴威艾迪 , LEVY, ADY
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/66
CPC分类号： G03F7/70558 , G03F7/70091 , G03F7/70641
摘要：本發明揭示一種微影系統，其包含一照明源及一組投影光學器件。該照明源將一照明光束自一離軸照明極點引導至一圖案遮罩。該圖案遮罩包含一組圖案元件，其等產生包含來自該照明極點之照明的一組繞射光束。由該組投影光學器件接收之該組繞射光束之至少兩個繞射光束非對稱地分佈於該組投影光學器件之一光瞳面中。該組繞射光束之該至少兩個繞射光束非對稱地入射於樣本上以形成對應於該組圖案元件之一影像之一組製造元件。樣本上之該組製造元件包含沿該組投影光學器件之一光學軸之樣本之一位置之一或多個指示器。
简体摘要：本发明揭示一种微影系统，其包含一照明源及一组投影光学器件。该照明源将一照明光束自一离轴照明极点引导至一图案遮罩。该图案遮罩包含一组图案组件，其等产生包含来自该照明极点之照明的一组绕射光束。由该组投影光学器件接收之该组绕射光束之至少两个绕射光束非对称地分布于该组投影光学器件之一光瞳面中。该组绕射光束之该至少两个绕射光束非对称地入射于样本上以形成对应于该组图案组件之一影像之一组制造组件。样本上之该组制造组件包含沿该组投影光学器件之一光学轴之样本之一位置之一或多个指示器。

4. 发明专利

TW201841064A 用於焦點敏感式量測目標之系統及方法审中-公开
简体标题：用于焦点敏感式量测目标之系统及方法
公开(公告)号：TW201841064A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107100279
申请日：2018-01-04
申请人：美商克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：李明俊 , LEE, MYUNGJUN , 羅伯特森史都華 , ROBERTSON, STEWART , 史密斯馬克 D , SMITH, MARK D. , 沙布拉曼雁布拉迪普 , SUBRAHMANYAN, PRADEEP
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/44 , H01L21/027 , H01L21/033
摘要：本發明揭示一種微影系統，其包含一照明源、一或多個投影光學元件及一圖案遮罩。該照明源包含一或多個照明極。該圖案遮罩包含依一節距週期性分佈之一組焦點敏感式遮罩元件，其中該組焦點敏感式遮罩元件經組態以繞射來自該一或多個照明極之照明。該節距經選擇使得與該一或多個照明極之各者相關聯之照明之兩個繞射階不對稱分佈於該一或多個投影光學元件之一光瞳平面中。此外，該一或多個投影光學元件經組態以使用基於與該一或多個照明極之各者相關聯之照明之該兩個繞射階之該組焦點敏感式圖案遮罩元件之一影像來暴露一樣品。另外，該樣品上之該組焦點敏感式圖案遮罩元件之該影像之一或多個印刷特性指示該樣品在該一或多個投影光學元件之一聚焦體積內之一位置。
简体摘要：本发明揭示一种微影系统，其包含一照明源、一或多个投影光学组件及一图案遮罩。该照明源包含一或多个照明极。该图案遮罩包含依一节距周期性分布之一组焦点敏感式遮罩组件，其中该组焦点敏感式遮罩组件经组态以绕射来自该一或多个照明极之照明。该节距经选择使得与该一或多个照明极之各者相关联之照明之两个绕射阶不对称分布于该一或多个投影光学组件之一光瞳平面中。此外，该一或多个投影光学组件经组态以使用基于与该一或多个照明极之各者相关联之照明之该两个绕射阶之该组焦点敏感式图案遮罩组件之一影像来暴露一样品。另外，该样品上之该组焦点敏感式图案遮罩组件之该影像之一或多个印刷特性指示该样品在该一或多个投影光学组件之一聚焦体积内之一位置。

5. 发明专利

TW201618205A 使用重疊及對產量重要之圖案之度量审中-公开
简体标题：使用重叠及对产量重要之图案之度量
公开(公告)号：TW201618205A
公开(公告)日：2016-05-16
申请号：TW104122626
申请日：2015-07-13
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：坎德爾丹尼爾 , KANDEL, DANIEL , 史密斯馬克D , SMITH, MARK D , 瓦格納馬克 , WAGNER, MARK , 阿密特伊蘭 , AMIT, ERAN , 李明俊 , LEE, MYUNGJUN
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G06F17/5081 , G01N21/93 , G01N21/956 , G01N2201/13 , G06F2217/12 , H01L22/12 , H01L22/30 , Y02P80/30
摘要：本發明提供度量方法，其包括：識別一裝置設計中之疊對關鍵圖案，該等疊對關鍵圖案對程序變動具有高於取決於設計規格之一指定臨限值之一疊對靈敏度；且使用對應於經識別之疊對關鍵圖案之度量目標。替代地或互補地，度量方法包括根據歸因於指定程序變動之一對應程序窗變窄而識別良率關鍵圖案，其中該變窄係藉由圖案之邊緣佈置誤差(EPE)對程序參數上之一相依性而界定。本發明提供對應目標及量測。
简体摘要：本发明提供度量方法，其包括：识别一设备设计中之叠对关键图案，该等叠对关键图案对进程变动具有高于取决于设计规格之一指定临限值之一叠对灵敏度；且使用对应于经识别之叠对关键图案之度量目标。替代地或互补地，度量方法包括根据归因于指定进程变动之一对应进程窗变窄而识别良率关键图案，其中该变窄系借由图案之边缘布置误差(EPE)对进程参数上之一相依性而界定。本发明提供对应目标及量测。

6. 发明专利

TW201707099A 用於傾斜裝置設計之度量目標設計审中-公开
简体标题：用于倾斜设备设计之度量目标设计
公开(公告)号：TW201707099A
公开(公告)日：2017-02-16
申请号：TW105112489
申请日：2016-04-21
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：李明俊 , LEE, MYUNGJUN , 史密斯馬克D , SMITH, MARK D. , 艾黛兒麥克E , ADEL, MICHAEL E. , 阿密特伊蘭 , AMIT, ERAN , 堪德爾丹尼爾 , KANDEL, DANIEL
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01J9/00 , G03F7/705 , G03F7/70683 , H01L22/30
摘要：本發明提供用於量測傾斜裝置設計之度量方法、模組及目標。該等方法相對於目標候選者與裝置設計之間之圖案放置誤差(PPE)之冊尼克靈敏度之關係分析並最佳化目標設計。蒙特卡羅方法可經應用以增強該等經選擇目標候選者對透鏡像差中及/或裝置設計中之變動之穩健性。此外，提供考量用於相對於該等冊尼克靈敏度審慎地修改目標參數以改良度量量測品質且減小不精確性。
简体摘要：本发明提供用于量测倾斜设备设计之度量方法、模块及目标。该等方法相对于目标候选者与设备设计之间之图案放置误差(PPE)之册尼克灵敏度之关系分析并最优化目标设计。蒙特卡罗方法可经应用以增强该等经选择目标候选者对透镜像差中及/或设备设计中之变动之稳健性。此外，提供考量用于相对于该等册尼克灵敏度审慎地修改目标参数以改良度量量测品质且减小不精确性。

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