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1. 发明专利

TW201250402A 在微影系統中處理基板的方法 METHOD OF PROCESSING A SUBSTRATE IN A LITHOGRAPHY SYSTEM 审中-公开
简体标题：在微影系统中处理基板的方法 METHOD OF PROCESSING A SUBSTRATE IN A LITHOGRAPHY SYSTEM
公开(公告)号：TW201250402A
公开(公告)日：2012-12-16
申请号：TW101115338
申请日：2012-04-30
申请人：瑪波微影IP公司
发明人：庫柏芬森特席爾菲斯特 , 史羅特歐文 , 凡克芬尼克馬賽尼可拉斯賈考柏斯 , 迪包爾古伊杜 , 迪將亨卓克傑
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70733 , G03F7/7075 , H01L21/67178 , H01L21/67225 , H01L21/67745
摘要：一種在一微影系統的一微影系統單元中處理基板的方法，該微影系統單元係包括至少兩個基板預備單元、一包括至少第一及第二基板位置的負載鎖定單元、以及一用於在該基板預備單元及負載鎖定單元之間轉移基板的操縱基板的機器人(robot)。該方法係包括提供一連串待曝光的基板至該機器人，該等基板包含一第N個基板、一在該第N個基板的前一個的第N-1個基板、以及一在該第N個基板的後一個的第N+1個基板；藉由該機器人轉移該第N個基板至該等基板預備單元中之一第一者；在該第一基板預備單元中的一第一基板支承結構上夾箝該第N個基板，該第N個基板及第一基板支承結構一起構成一受夾箝的第N個基板；從該第一基板預備單元藉由該機器人轉移該受夾箝的第N個基板至該負載鎖定單元中的該第一及第二位置中之一未被佔用者，以用於在該微影系統單元中的曝光；以及在該微影系統單元中曝光該受夾箝的第N個基板。
简体摘要：一种在一微影系统的一微影系统单元中处理基板的方法，该微影系统单元系包括至少两个基板预备单元、一包括至少第一及第二基板位置的负载锁定单元、以及一用于在该基板预备单元及负载锁定单元之间转移基板的操纵基板的机器人(robot)。该方法系包括提供一连串待曝光的基板至该机器人，该等基板包含一第N个基板、一在该第N个基板的前一个的第N-1个基板、以及一在该第N个基板的后一个的第N+1个基板；借由该机器人转移该第N个基板至该等基板预备单元中之一第一者；在该第一基板预备单元中的一第一基板支承结构上夹箝该第N个基板，该第N个基板及第一基板支承结构一起构成一受夹箝的第N个基板；从该第一基板预备单元借由该机器人转移该受夹箝的第N个基板至该负载锁定单元中的该第一及第二位置中之一未被占用者，以用于在该微影系统单元中的曝光；以及在该微影系统单元中曝光该受夹箝的第N个基板。

2. 发明专利

TWI486723B 在微影系統中處理基板的方法有权
简体标题：在微影系统中处理基板的方法
公开(公告)号：TWI486723B
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：TW101115338
申请日：2012-04-30
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：庫柏芬森特席爾菲斯特 , KUIPER, VINCENT SYLVESTER , 史羅特歐文 , SLOT, ERWIN , 凡克芬尼克馬賽尼可拉斯賈考柏斯 , VAN KERVINCK, MARCEL NICOLAAS JACOBUS , 迪包爾古伊杜 , DE BOER, GUIDO , 迪將亨卓克傑 , DE JONG, HENDRIK JAN
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70733 , G03F7/7075 , H01L21/67178 , H01L21/67225 , H01L21/67745

3. 发明专利

TW201346461A 微影系統，感測器及測量方法审中-公开
简体标题：微影系统，传感器及测量方法
公开(公告)号：TW201346461A
公开(公告)日：2013-11-16
申请号：TW102126869
申请日：2006-09-04
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：克路特彼得 , KRUIT, PIETER , 史羅特歐文 , SLOT, ERWIN , 亭潘提斯法蘭斯 , TEEPEN, TIJS FRANS , 威蘭德瑪寇傑加寇 , WIELAND, MARCO JAN-JACO , 史提賓克史提恩威廉卡瑞爾赫曼 , STEENBRINK, STIJN WILLEM KAREL HERMAN
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/304 , H01J37/30
摘要：用以測量一帶電粒子束系統(尤指一直接寫入微影系統)之大量帶電粒子束之特性的微影系統、感測器、以及方法，其中：會使用一轉換元件將該等帶電粒子束轉換成光束；使用一由複數個光敏偵測器(如二極體、CCD或是CMOS裝置)所組成之陣列來偵測該等光束，其中該等光敏偵測器會和該轉換元件成直線排列；於該等光束對該等偵測器進行曝光之後以電子方式從該等偵測器中讀出生成信號；運用該等信號來決定一或多項粒子束特性的數值，從而使用一自動電子計算器；依據該等經算出的特性數值，以電子方式來調整該帶電粒子系統，用以修正該等帶電粒子束中全部或是其中數道帶電粒子束超出規格範圍的一或多項特性的數值。
简体摘要：用以测量一带电粒子束系统(尤指一直接写入微影系统)之大量带电粒子束之特性的微影系统、传感器、以及方法，其中：会使用一转换组件将该等带电粒子束转换成光束；使用一由复数个光敏侦测器(如二极管、CCD或是CMOS设备)所组成之数组来侦测该等光束，其中该等光敏侦测器会和该转换组件成直线排列；于该等光束对该等侦测器进行曝光之后以电子方式从该等侦测器中读出生成信号；运用该等信号来决定一或多项粒子束特性的数值，从而使用一自动电子计算器；依据该等经算出的特性数值，以电子方式来调整该带电粒子系统，用以修正该等带电粒子束中全部或是其中数道带电粒子束超出规格范围的一或多项特性的数值。

4. 发明专利

TWI514089B 在微影系統中用於轉移基板的設備有权
简体标题：在微影系统中用于转移基板的设备
公开(公告)号：TWI514089B
公开(公告)日：2015-12-21
申请号：TW101115340
申请日：2012-04-30
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：庫柏芬森特席爾菲斯特 , KUIPER, VINCENT SYLVESTER , 史羅特歐文 , SLOT, ERWIN , 凡克芬尼克馬賽尼可拉斯賈考柏斯 , VAN KERVINCK, MARCEL NICOLAAS JACOBUS , 迪包爾古伊杜 , DE BOER, GUIDO , 迪將亨卓克傑 , DE JONG, HENDRIK JAN
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/677
CPC分类号： G03F7/70733 , G03F7/7075 , H01L21/67178 , H01L21/67225 , H01L21/67745

5. 发明专利

TW201344737A 具有準直感測器和射束測量感測器的帶電粒子微影系統审中-公开
简体标题：具有准直传感器和射束测量传感器的带电粒子微影系统
公开(公告)号：TW201344737A
公开(公告)日：2013-11-01
申请号：TW102108399
申请日：2013-03-08
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：史佛爾斯保羅依潔梅爾特 , SCHEFFERS, PAUL IJMERT , 麥傑珍安卓依 , MEIJER, JAN ANDRIES , 史羅特歐文 , SLOT, ERWIN , 庫柏芬森特席爾菲斯特 , KUIPER, VINCENT SYLVESTER , 菲格尼爾斯 , VERGEER, NIELS
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/304 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/707 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3045 , H01J37/3177 , H01J2237/1501 , H01J2237/1502 , H01J2237/3045
摘要：一種多子束帶電粒子子束微影系統，用於將圖案移轉至一基板之表面。該系統包括：一投射系統，用於將複數個帶電粒子子束投射至該基板之表面上；一卡盤，可相對於該投射系統移動；一子束測量感測器，用於判斷該一或多個帶電粒子子束之一或多個特徵，該子束測量感測器具有表面，用於接收該一或更多個帶電粒子子束；以及一位置標記測量系統，用於測量該位置標記之位置，該位置標記測量系統包括一準直感測器。該卡盤包括：一基板支持部份，用於支持該基板；一子束測量感測器部份，用於容納該子束測量感測器之表面；以及一位置標記部份，用於容納該位置標記。
简体摘要：一种多子束带电粒子子束微影系统，用于将图案移转至一基板之表面。该系统包括：一投射系统，用于将复数个带电粒子子束投射至该基板之表面上；一卡盘，可相对于该投射系统移动；一子束测量传感器，用于判断该一或多个带电粒子子束之一或多个特征，该子束测量传感器具有表面，用于接收该一或更多个带电粒子子束；以及一位置标记测量系统，用于测量该位置标记之位置，该位置标记测量系统包括一准直传感器。该卡盘包括：一基板支持部份，用于支持该基板；一子束测量传感器部份，用于容纳该子束测量传感器之表面；以及一位置标记部份，用于容纳该位置标记。

6. 发明专利

TWI584334B 具有準直感測器和射束測量感測器的帶電粒子微影系統有权
简体标题：具有准直传感器和射束测量传感器的带电粒子微影系统
公开(公告)号：TWI584334B
公开(公告)日：2017-05-21
申请号：TW102108399
申请日：2013-03-08
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：史佛爾斯保羅依潔梅爾特 , SCHEFFERS, PAUL IJMERT , 麥傑珍安卓依 , MEIJER, JAN ANDRIES , 史羅特歐文 , SLOT, ERWIN , 庫柏芬森特席爾菲斯特 , KUIPER, VINCENT SYLVESTER , 菲格尼爾斯 , VERGEER, NIELS
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/304 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/707 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3045 , H01J37/3177 , H01J2237/1501 , H01J2237/1502 , H01J2237/3045

7. 发明专利

TWI576670B 用於微影蝕刻機器群聚的網路架構有权
简体标题：用于微影蚀刻机器群聚的网络架构
公开(公告)号：TWI576670B
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW101114468
申请日：2012-04-23
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：史羅特歐文 , SLOT, ERWIN , 凡克芬尼克馬賽尼可拉斯賈考柏斯 , VAN KERVINCK, MARCEL NICOLAAS JACOBUS , 庫柏芬森特席爾菲斯特 , KUIPER, VINCENT SYLVESTER
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G06F9/48 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70483 , G03F7/70508 , G03F7/70525 , G03F7/70991 , G05B19/41865 , G06F9/4881 , H01J37/3177

8. 发明专利

TW201241575A 微影系統及在該微影系統內處理基板之方法 LITHOGRAPHY SYSTEM AND METHOD OF PROCESSING SUBSTRATES IN SUCH A LITHOGRAPHY SYSTEM 审中-公开
简体标题：微影系统及在该微影系统内处理基板之方法 LITHOGRAPHY SYSTEM AND METHOD OF PROCESSING SUBSTRATES IN SUCH A LITHOGRAPHY SYSTEM
公开(公告)号：TW201241575A
公开(公告)日：2012-10-16
申请号：TW100146173
申请日：2011-12-14
申请人：瑪波微影IP公司
发明人：迪包爾古伊杜 , 迪將亨卓克傑 , 庫柏芬森特席爾菲斯特 , 史羅特歐文
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/70808 , G03F7/708 , G03F7/70975 , H01J37/16 , H01J37/185 , H01J2237/31774
摘要：本發明關於一種包括複數個微影系統單元的微影系統(300)。每一個微影系統單元都包括：一微影設備(301)，其會被排列在一真空腔室之中，用以圖樣化一基板；一裝載鎖定系統(310)，用以將基板傳輸至該真空腔室裡面與外面；以及一出入口，用以達到進入該真空腔室以進行維修的目的。每一個微影系統單元的裝載鎖定系統與出入口會被提供在相同側並且面向該微影系統某一側的自由區，明確地說，面向維修區(305)。
简体摘要：本发明关于一种包括复数个微影系统单元的微影系统(300)。每一个微影系统单元都包括：一微影设备(301)，其会被排列在一真空腔室之中，用以图样化一基板；一装载锁定系统(310)，用以将基板传输至该真空腔室里面与外面；以及一出入口，用以达到进入该真空腔室以进行维修的目的。每一个微影系统单元的装载锁定系统与出入口会被提供在相同侧并且面向该微影系统某一侧的自由区，明确地说，面向维修区(305)。

9. 发明专利

TWI548950B 微影系統及在該微影系統內處理基板之方法有权
简体标题：微影系统及在该微影系统内处理基板之方法
公开(公告)号：TWI548950B
公开(公告)日：2016-09-11
申请号：TW100146173
申请日：2011-12-14
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：迪包爾古伊杜 , DE BOER, GUIDO , 迪將亨卓克傑 , DE JONG, HENDRIK JAN , 庫柏芬森特席爾菲斯特 , KUIPER, VINCENT SYLVESTER , 史羅特歐文 , SLOT, ERWIN
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/30
CPC分类号： G03F7/70808 , G03F7/708 , G03F7/70975 , H01J37/16 , H01J37/185 , H01J2237/31774

10. 发明专利

TWI524153B 微影系統，感測器及測量方法有权
简体标题：微影系统，传感器及测量方法
公开(公告)号：TWI524153B
公开(公告)日：2016-03-01
申请号：TW102126869
申请日：2006-09-04
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：克路特彼得 , KRUIT, PIETER , 史羅特歐文 , SLOT, ERWIN , 亭潘提斯法蘭斯 , TEEPEN, TIJS FRANS , 威蘭德瑪寇傑加寇 , WIELAND, MARCO JAN-JACO , 史提賓克史提恩威廉卡瑞爾赫曼 , STEENBRINK, STIJN WILLEM KAREL HERMAN
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/304 , H01J37/30

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