专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

3. 发明专利

TW201643545A 影像對數斜率（ＩＬＳ）最佳化审中-公开
简体标题：影像对数斜率（ＩＬＳ）最优化
公开(公告)号：TW201643545A
公开(公告)日：2016-12-16
申请号：TW105103055
申请日：2016-01-30
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：徐端孚 , HSU, DUAN-FU
IPC分类号： G03F1/70 , G03F7/20 , G06F17/50
CPC分类号： G03F7/705 , G03F7/70433 , G03F7/70441 , G03F7/70508 , G03F7/70625 , G03F7/70666
摘要：本文中揭示一種用以改良使用一微影投影裝置將一設計佈局之一部分成像至一基板上之一微影程序的電腦實施方法，該方法包含：計算一多變數成本函數，該多變數成本函數為一空中影像或一抗蝕劑影像之一特性之一推測變化的一函數，或為一變數之一函數，該變數為該推測變化之一函數或影響該推測變化，該推測變化為複數個設計變數之一函數，該複數個設計變數表示該微影程序之特性；及藉由調整該等設計變數中之一或多者直至滿足某一終止條件為止來重新組態該微影程序之該等特性中之一或多者。
简体摘要：本文中揭示一种用以改良使用一微影投影设备将一设计布局之一部分成像至一基板上之一微影进程的电脑实施方法，该方法包含：计算一多变量成本函数，该多变量成本函数为一空中影像或一抗蚀剂影像之一特性之一推测变化的一函数，或为一变量之一函数，该变量为该推测变化之一函数或影响该推测变化，该推测变化为复数个设计变量之一函数，该复数个设计变量表示该微影进程之特性；及借由调整该等设计变量中之一或多者直至满足某一终止条件为止来重新组态该微影进程之该等特性中之一或多者。

4. 发明专利

TW201621472A 用於獲得關於微影製造程序之診斷資訊的方法與裝置及包含診斷裝置的微影處理系統审中-公开
简体标题：用于获得关于微影制造进程之诊断信息的方法与设备及包含诊断设备的微影处理系统
公开(公告)号：TW201621472A
公开(公告)日：2016-06-16
申请号：TW104133083
申请日：2015-10-07
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：霍特曼馬克 , HAUPTMANN, MARC , 戴維斯迪倫約翰大衛 , DAVIES, DYLAN JOHN DAVID , 簡森保羅 , JANSSEN, PAUL , 津上奈緒子 , TSUGAMA, NAOKO , 布魯斯理查喬瑟夫 , BRULS, RICHARD JOSEPH , 荷依科特科那利司蒂曼 , HOEKERD, KORNELIS TIJMEN , 簡森愛德溫裘翰那斯瑪麗亞 , JANSSEN, EDWIN JOHANNES MARIA , 凡登奧弗佩翠斯裘翰那斯 , VAN DEN OEVER, PETRUS JOHANNES , 凡德威克郎諾 , VAN DER WILK, RONALD , 凡史凱金黛爾安東尼斯修伯特斯 , VAN SCHIJNDEL, ANTONIUS HUBERTUS , 維拉莎拉斯喬治艾爾博多 , VIEYRA SALAS, JORGE ALBERTO
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70616 , G01N21/9501 , G01N27/61 , G01N2021/95676 , G03F1/84 , G03F7/70508 , G03F7/70783 , H01L22/12 , H01L22/20
摘要：一種診斷裝置監視一微影製造系統。使用一微影裝置內之感測器(202)及/或一單獨度量衡工具(240)來獲得表示橫越一基板之某一特性之局域偏差的第一量測資料。其他檢測工具(244、248)執行晶圓背側檢測及/或光罩背側檢測以產生第二量測資料302。高解析度背側缺陷影像經處理為呈可與來自該第一量測資料之較低解析度資訊比較之一形式。執行交叉相關(CORR)以識別該等觀測到之缺陷中之哪些缺陷空間上係與該第一量測資料中表示之該等偏差相關。一相關性圖(506)係用以識別該較詳細原始缺陷圖(520)中之缺陷之潛在相關叢集。可作為自動化根本原因分析之部分藉由圖案辨識(PREC)來識別該負責裝置。
简体摘要：一种诊断设备监视一微影制造系统。使用一微影设备内之传感器(202)及/或一单独度量衡工具(240)来获得表示横越一基板之某一特性之局域偏差的第一量测数据。其他检测工具(244、248)运行晶圆背侧检测及/或光罩背侧检测以产生第二量测数据302。高分辨率背侧缺陷影像经处理为呈可与来自该第一量测数据之较低分辨率信息比较之一形式。运行交叉相关(CORR)以识别该等观测到之缺陷中之哪些缺陷空间上系与该第一量测数据中表示之该等偏差相关。一相关性图(506)系用以识别该较详细原始缺陷图(520)中之缺陷之潜在相关集群。可作为自动化根本原因分析之部分借由图案辨识(PREC)来识别该负责设备。

5. 发明专利

TW201518880A 曝光方法及裝置、以及元件製造方法审中-公开
简体标题：曝光方法及设备、以及组件制造方法
公开(公告)号：TW201518880A
公开(公告)日：2015-05-16
申请号：TW104102296
申请日：2008-07-24
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：柴崎祐一 , SHIBAZAKI, YUICHI
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70508 , G03F7/70725 , G03F7/70775 , G03F7/7085 , G03F9/7088
摘要：使用包含X編碼器與Y編碼器中至少各1個之3個編碼器，測量載台(WST)於移動面內之位置資訊。根據載台(WST)之位置測量值，將用於位置測量之編碼器，從編碼器(Enc1、Enc2及Enc3)切換為編碼器(Enc4、Enc2及Enc3)。於切換時，適用座標連接法法或相位連接法來設定新使用之編碼器(Enc4)之初期值。據此，即使依序切換用於載台(WST)位置測量之編碼器，亦能在切換前後保存載台之位置測量值，正確地2維驅動載台。
简体摘要：使用包含X编码器与Y编码器中至少各1个之3个编码器，测量载台(WST)于移动面内之位置信息。根据载台(WST)之位置测量值，将用于位置测量之编码器，从编码器(Enc1、Enc2及Enc3)切换为编码器(Enc4、Enc2及Enc3)。于切换时，适用座标连接法法或相位连接法来设置新使用之编码器(Enc4)之初期值。据此，即使依序切换用于载台(WST)位置测量之编码器，亦能在切换前后保存载台之位置测量值，正确地2维驱动载台。

7. 发明专利

TW201329650A 用於轉換微影裝置中基於向量之所要器件圖案表示之裝置與方法、用於提供資料至可程式化圖案化器件之裝置與方法、微影裝置及器件製造方法审中-公开
简体标题：用于转换微影设备中基于矢量之所要器件图案表示之设备与方法、用于提供数据至可进程化图案化器件之设备与方法、微影设备及器件制造方法
公开(公告)号：TW201329650A
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：TW101144367
申请日：2012-11-27
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：提那曼斯派翠西斯阿若瑟斯約克伯 , TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS , 邦特克馬歇爾 , BONTEKOE, MARCEL , 彼得斯佩卓司雅伯特思阿諾提諾 , PEETERS, PETRUS ALBERTUS ARNOLDINO
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G06K15/1836 , G03F7/70291 , G03F7/70508
摘要：本發明揭示一種用於轉換用於一曝光裝置之一期望器件圖案之一基於向量之表示的方法、一種微影或曝光裝置、一種用以提供資料至一可程式化圖案化器件之裝置與方法，及一種器件製造方法。在一實施例中，該轉換方法輸出對應於該期望器件圖案之輻射之期望劑量圖案的一經光柵化表示，其中該基於向量之表示包含識別一或多個基元圖案之基元資料及識別該期望器件圖案之至少一部分如何由每一經識別基元圖案之一或多個例項形成的例項資料，該方法包括：形成該基元資料中所識別之每一基元圖案之一經光柵化基元；及藉由與對應於彼經光柵化基元之該例項資料相關聯地儲存每一經光柵化基元來形成該經光柵化表示。
简体摘要：本发明揭示一种用于转换用于一曝光设备之一期望器件图案之一基于矢量之表示的方法、一种微影或曝光设备、一种用以提供数据至一可进程化图案化器件之设备与方法，及一种器件制造方法。在一实施例中，该转换方法输出对应于该期望器件图案之辐射之期望剂量图案的一经光栅化表示，其中该基于矢量之表示包含识别一或多个基元图案之基元数据及识别该期望器件图案之至少一部分如何由每一经识别基元图案之一或多个实例形成的实例数据，该方法包括：形成该基元数据中所识别之每一基元图案之一经光栅化基元；及借由与对应于彼经光栅化基元之该实例数据相关联地存储每一经光栅化基元来形成该经光栅化表示。

8. 发明专利

TW201303521A 用於微影蝕刻機器群聚的網路架構审中-公开
简体标题：用于微影蚀刻机器群聚的网络架构
公开(公告)号：TW201303521A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：TW101114468
申请日：2012-04-23
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：史羅特歐文 , SLOT, ERWIN , 凡克芬尼克馬賽尼可拉斯賈考柏斯 , VAN KERVINCK, MARCEL NICOLAAS JACOBUS , 庫柏芬森特席爾菲斯特 , KUIPER, VINCENT SYLVESTER
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G06F9/48 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70483 , G03F7/70508 , G03F7/70525 , G03F7/70991 , G05B19/41865 , G06F9/4881 , H01J37/3177
摘要：一種包含複數微影蝕刻元件的群聚式基板處理系統，每一微影蝕刻元件均被配置成用於依據圖案資料進行基板的獨立曝光。每一微影蝕刻元件均包含複數微影蝕刻次系統、一控制網路以及一資料網路，該控制網路被配置成用於該複數微影蝕刻次系統與至少一元件控制單元之間進行控制資訊的通信，該元件控制單元被配置成傳送指令至該複數微影蝕刻次系統且該複數微影蝕刻次系統被配置成傳送回應至該元件控制單元，該資料網路被配置成用於進行從該複數微影蝕刻次系統到至少一資料網路集線器之資料記錄資訊的通信，該複數微影蝕刻次系統被配置成將資料記錄資訊傳送至該資料網路集線器而該資料網路集線器被配置成用於接收並儲存資料記錄資訊。該系統另包含一群聚前端以做為通往一操作者或主控系統之介面，該群聚前端被配置成用於傳送控制資訊至該至少一機器控制單元以控制該等微影蝕刻次系統對於一或多個晶圓之曝光的運作，且該群聚前端進一步被配置成用於接收該資料網路集線器所接收之資料記錄資訊的至少一部分。
简体摘要：一种包含复数微影蚀刻组件的群聚式基板处理系统，每一微影蚀刻组件均被配置成用于依据图案数据进行基板的独立曝光。每一微影蚀刻组件均包含复数微影蚀刻次系统、一控制网络以及一数据网络，该控制网络被配置成用于该复数微影蚀刻次系统与至少一组件控制单元之间进行控制信息的通信，该组件控制单元被配置成发送指令至该复数微影蚀刻次系统且该复数微影蚀刻次系统被配置成发送回应至该组件控制单元，该数据网络被配置成用于进行从该复数微影蚀刻次系统到至少一数据网络集线器之数据记录信息的通信，该复数微影蚀刻次系统被配置成将数据记录信息发送至该数据网络集线器而该数据网络集线器被配置成用于接收并存储数据记录信息。该系统另包含一群聚前端以做为通往一操作者或主控系统之界面，该群聚前端被配置成用于发送控制信息至该至少一机器控制单元以控制该等微影蚀刻次系统对于一或多个晶圆之曝光的运作，且该群聚前端进一步被配置成用于接收该数据网络集线器所接收之数据记录信息的至少一部分。

9. 发明专利

TWI372313B 利用多曝光及多曝光樣式之微影裝置與器件製造方法 LITHOGRPAHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD USING MULTIPLE EXPOSURES AND MULTIPLE EXPOSURE TYPES 有权
简体标题：利用多曝光及多曝光样式之微影设备与器件制造方法 LITHOGRPAHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD USING MULTIPLE EXPOSURES AND MULTIPLE EXPOSURE TYPES
公开(公告)号：TWI372313B
公开(公告)日：2012-09-11
申请号：TW095145559
申请日：2006-12-07
申请人： ASML荷蘭公司
发明人：卡爾斯柴格托斯特 , 喬漢那約克伯馬修貝索曼 , 阿諾珍布萊克 , 詹姆士佘悟葛林區
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/70291 , G03F7/70275 , G03F7/70283 , G03F7/70466 , G03F7/70508
摘要：本發明揭示一種微影裝置與方法，其中，舉例來說，會利用一非常低解析度的曝光來修整一反覆圖案之一非常高解析度的曝光。據此，便可於提供一高解析度圖案以及讓要形成的圖案具有更多彈性之間達成妥協的結果。
简体摘要：本发明揭示一种微影设备与方法，其中，举例来说，会利用一非常低分辨率的曝光来修整一反复图案之一非常高分辨率的曝光。据此，便可于提供一高分辨率图案以及让要形成的图案具有更多弹性之间达成妥协的结果。

10. 发明专利

TW201232687A 量測系統、方法及微影裝置 MEASUREMENT SYSTEM, METHOD AND LITHOGRAPHIC APPARATUS 审中-公开
简体标题：量测系统、方法及微影设备 MEASUREMENT SYSTEM, METHOD AND LITHOGRAPHIC APPARATUS
公开(公告)号：TW201232687A
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：TW100119440
申请日：2011-06-02
申请人： ASML荷蘭公司
发明人：寇克斯漢李克斯赫曼馬里 , 柯恩威廉赫曼捷度達安納 , 馬他爾湯瑪斯奧古特斯 , 皮耶特斯馬汀努斯賽多魯絲雅伯各司 , 斐庫真羅伯安東努司安德烈斯
IPC分类号： H01L , G03F
CPC分类号： G03F7/70775 , G03F7/70508
摘要：本發明揭示一種量測系統,該量測系統經組態以導出一物件之一位置量,該量測系統包括:至少一位置量感測器,該至少一位置量感測器經組態以提供各別位置量量測信號;一位置量計算器,該位置量計算器經組態以自該位置量量測信號判定該物件之一位置量,其中該位置量計算器包括一扭力估計器,該扭力估計器經組態以估計該物件之一扭力,該位置量計算器經組態以針對該經估計扭力來校正該物件之該經判定位置量。
简体摘要：本发明揭示一种量测系统,该量测系统经组态以导出一对象之一位置量,该量测系统包括:至少一位置量传感器,该至少一位置量传感器经组态以提供各别位置量量测信号;一位置量计算器,该位置量计算器经组态以自该位置量量测信号判定该对象之一位置量,其中该位置量计算器包括一扭力估计器,该扭力估计器经组态以估计该对象之一扭力,该位置量计算器经组态以针对该经估计扭力来校正该对象之该经判定位置量。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式