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1. 发明专利

TWI684834B 多射束的個別射束檢測器，多射束照射裝置，及多射束的個別射束檢測方法有权
简体标题：多射束的个别射束检测器，多射束照射设备，及多射束的个别射束检测方法
公开(公告)号：TWI684834B
公开(公告)日：2020-02-11
申请号：TW107138526
申请日：2018-10-31
申请人：日商紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC. , 美商紐富來科技美國公司 , NUFLARE TECHNOLOGY AMERICA, INC.
发明人：五島嘉国 , GOSHIMA, YOSHIKUNI , 維多凱薩 , VICTOR, KATSAP , 羅尼肯德爾 , RODNEY, KENDALL
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/244 , H01J37/304 , H01J37/317

2. 发明专利

TW201947331A 帶電粒子束描繪裝置及帶電粒子束描繪方法审中-公开
简体标题：带电粒子束描绘设备及带电粒子束描绘方法
公开(公告)号：TW201947331A
公开(公告)日：2019-12-16
申请号：TW108114242
申请日：2019-04-24
申请人：日商紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
发明人：野村春之 , NOMURA, HARUYUKI , 上久保貴司 , KAMIKUBO, TAKASHI
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20 , H01J37/304
摘要：本發明之實施形態有關帶電粒子束描繪裝置及帶電粒子束描繪方法。帶電粒子束描繪裝置，具備：描繪室，收容載置描繪對象物之平台；及射束照射部，對被載置於前述平台的前述描繪對象物照射帶電粒子束；及平台驅動部，使前述平台移動；及溫度分布計算部，基於前述平台的移動履歷資訊，計算前述描繪室內的熱源所造成之前述描繪對象物的溫度分布；及變形量計算部，基於被載置於前述平台的前述描繪對象物的拘束條件、及前述被計算出的溫度分布，來計算前述描繪對象物的變形量；及位置修正部，基於前述被計算出的變形量，修正對於前述描繪對象物之帶電粒子束的照射位置。前述射束照射部，基於藉由前述位置修正部而被修正的照射位置來照射前述帶電粒子束。
简体摘要：本发明之实施形态有关带电粒子束描绘设备及带电粒子束描绘方法。带电粒子束描绘设备，具备：描绘室，收容载置描绘对象物之平台；及射束照射部，对被载置于前述平台的前述描绘对象物照射带电粒子束；及平台驱动部，使前述平台移动；及温度分布计算部，基于前述平台的移动履历信息，计算前述描绘室内的热源所造成之前述描绘对象物的温度分布；及变形量计算部，基于被载置于前述平台的前述描绘对象物的拘束条件、及前述被计算出的温度分布，来计算前述描绘对象物的变形量；及位置修正部，基于前述被计算出的变形量，修正对于前述描绘对象物之带电粒子束的照射位置。前述射束照射部，基于借由前述位置修正部而被修正的照射位置来照射前述带电粒子束。

3. 发明专利

TW201837966A 電子束裝置及曝光方法、以及元件製造方法审中-公开
简体标题：电子束设备及曝光方法、以及组件制造方法
公开(公告)号：TW201837966A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：TW107106149
申请日：2018-02-23
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：佐藤真路 , SATO, SHINJI
IPC分类号： H01J37/304 , G03F7/20
摘要：本發明之電子束裝置，具備：可提供可個別控制之複數條光束的光學元件(84)、對光學元件照射照明光的照明系統(82)、將來自圖案產生器之複數條光束照射於光電元件(54)的投影光學系統(86)、以及將因對光電元件照射複數條光束而從光電元件射出之電子作為複數條電子束照射於晶圓(W)的電子束光學系統(70)。
简体摘要：本发明之电子束设备，具备：可提供可个别控制之复数条光束的光学组件(84)、对光学组件照射照明光的照明系统(82)、将来自图案产生器之复数条光束照射于光电组件(54)的投影光学系统(86)、以及将因对光电组件照射复数条光束而从光电组件射出之电子作为复数条电子束照射于晶圆(W)的电子束光学系统(70)。

4. 发明专利

TW201828324A 帶電粒子束裝置审中-公开
简体标题：带电粒子束设备
公开(公告)号：TW201828324A
公开(公告)日：2018-08-01
申请号：TW106139439
申请日：2017-11-15
申请人：日商日立高新技術科學股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECH SCIENCE CORPORATION
发明人：鈴木人 , SUZUKI, MASATO , 富松聡 , TOMIMATSU, SATOSHI , 佐藤誠 , SATO, MAKOTO
IPC分类号： H01J37/256 , H01J37/304
摘要：本發明提供帶電粒子束裝置，其自動地重複進行取出透過離子束對試樣的加工而形成的試樣片並移置到試樣片保持器上的動作。該帶電粒子束裝置從試樣自動地製作出試樣片，其具有：帶電粒子束照射光學系統，其以帶電粒子束進行照射；試樣台，其載置並移動試樣；試樣片移置單元，其保持從試樣分離和取出的試樣片並進行輸送；保持器固定台，其對移置有試樣片的試樣片保持器進行保持；以及電腦，其在由試樣片移置單元對試樣片進行保持之後發生異常的情況下，進行使試樣片移置單元所保持的試樣片滅失的控制。
简体摘要：本发明提供带电粒子束设备，其自动地重复进行取出透过离子束对试样的加工而形成的试样片并移置到试样片保持器上的动作。该带电粒子束设备从试样自动地制作出试样片，其具有：带电粒子束照射光学系统，其以带电粒子束进行照射；试样台，其载置并移动试样；试样片移置单元，其保持从试样分离和取出的试样片并进行输送；保持器固定台，其对移置有试样片的试样片保持器进行保持；以及电脑，其在由试样片移置单元对试样片进行保持之后发生异常的情况下，进行使试样片移置单元所保持的试样片灭失的控制。

5. 发明专利

TWI585808B 位置特定處理中用以實現預測的系統性誤差更正之設備及方法有权
简体标题：位置特定处理中用以实现预测的系统性误差更正之设备及方法
公开(公告)号：TWI585808B
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW104104882
申请日：2015-02-13
申请人：東京威力科創艾派恩股份有限公司 , TEL EPION INC.
发明人：拉加納-吉佐文生 , LAGANA-GIZZO, VINCENT , 羅素諾埃爾 , RUSSELL, NOEL , 拉羅斯約書亞 , LAROSE, JOSHUA , 蔡洙杜 , CHAE, SOO DOO
IPC分类号： H01J37/304 , H01J37/317 , H01L21/263
CPC分类号： H01J37/304 , H01J37/3005 , H01J37/3053 , H01J2237/08 , H01J2237/30455 , H01J2237/3151 , H01J2237/317

6. 发明专利

TWI584334B 具有準直感測器和射束測量感測器的帶電粒子微影系統有权
简体标题：具有准直传感器和射束测量传感器的带电粒子微影系统
公开(公告)号：TWI584334B
公开(公告)日：2017-05-21
申请号：TW102108399
申请日：2013-03-08
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：史佛爾斯保羅依潔梅爾特 , SCHEFFERS, PAUL IJMERT , 麥傑珍安卓依 , MEIJER, JAN ANDRIES , 史羅特歐文 , SLOT, ERWIN , 庫柏芬森特席爾菲斯特 , KUIPER, VINCENT SYLVESTER , 菲格尼爾斯 , VERGEER, NIELS
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/304 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/707 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3045 , H01J37/3177 , H01J2237/1501 , H01J2237/1502 , H01J2237/3045

7. 发明专利

TWI506667B 光學微影系統、感測器、轉換元件以及製造之方法有权
简体标题：光学微影系统、传感器、转换组件以及制造之方法
公开(公告)号：TWI506667B
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW100109513
申请日：2011-03-21
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：漢佛克拉巴 , HANFOUG, RABAH
IPC分类号： H01J37/244 , H01J37/22 , H01J37/317 , H01J37/304 , H01L21/027

8. 发明专利

TWI467622B 離子植入機系統、其罩幕的監控方法與其離子束量測方法失效
简体标题：离子植入机系统、其罩幕的监控方法与其离子束量测方法
公开(公告)号：TWI467622B
公开(公告)日：2015-01-01
申请号：TW099125374
申请日：2010-07-30
申请人：瓦里安半導體設備公司 , VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.
发明人：里歐登班杰明B , RIORDON, BENJAMIN B. , 貝特曼尼可拉斯P T , BATEMAN, NICHOLAS P. T. , 維弗威廉T , WEAVER, WILLIAM T. , 洛羅素J , LOW, RUSSELL J.
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/304 , H01J37/244
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J2237/24507 , H01J2237/24528 , H01J2237/31711 , H01L21/26513 , H01L21/2658 , H01L21/266 , H01L31/0288 , H01L31/0682 , H01L31/1804 , Y02E10/547 , Y02P70/521

9. 发明专利

TW201501168A 離子植入機與用於控制其中離子束的系統审中-公开
简体标题：离子植入机与用于控制其中离子束的系统
公开(公告)号：TW201501168A
公开(公告)日：2015-01-01
申请号：TW103115794
申请日：2014-05-02
申请人：瓦里安半導體設備公司 , VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.
发明人：托多羅夫斯坦尼斯拉夫S , TODOROV, STANISLAV S. , 葛梅爾喬治M , GAMMEL, GEORGE M. , 斯普林克理查艾倫 , SPRENKLE, RICHARD ALLEN , 赫西諾曼E , HUSSEY, NORMAN E. , 辛克萊法蘭克 , SINCLAIR, FRANK , 常胜武 , CHANG, SHENGWU , 歐爾森約瑟C , OLSON, JOSEPH C. , 汀布萊克大衛羅傑 , TIMBERLAKE, DAVID ROGER , 岱可路克庫爾T , DECKER-LUCKE, KURT T.
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/304
CPC分类号： C23C14/54 , C23C14/48 , G21K5/00 , H01J37/304 , H01J37/3171 , H01J2237/24535 , H01J2237/24542 , H01J2237/31703
摘要：一種控制離子植入機中的離子束的系統，包括偵測系統與分析組件。偵測系統用於偵測在第一頻率的離子束的多個束電流量測。分析組件用於判定基於多個束電流量測的離子束的變化，所述變化對應於在第二頻率的離子束的束電流變化，所述第二頻率不同於所述第一頻率。所述系統亦包括回應於分析組件的輸出而調整離子束的調整組件以減少所述變化，其中當離子植入機中產生離子束時，所述分析組件與所述調整組件經設置以動態地將離子束的變化減少至低於閥值。
简体摘要：一种控制离子植入机中的离子束的系统，包括侦测系统与分析组件。侦测系统用于侦测在第一频率的离子束的多个束电流量测。分析组件用于判定基于多个束电流量测的离子束的变化，所述变化对应于在第二频率的离子束的束电流变化，所述第二频率不同于所述第一频率。所述系统亦包括回应于分析组件的输出而调整离子束的调整组件以减少所述变化，其中当离子植入机中产生离子束时，所述分析组件与所述调整组件经设置以动态地将离子束的变化减少至低于阀值。

10. 发明专利

TWI464773B 荷電粒子束描繪裝置有权
简体标题：荷电粒子束描绘设备
公开(公告)号：TWI464773B
公开(公告)日：2014-12-11
申请号：TW101101989
申请日：2012-01-18
申请人：紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
发明人：東矢高尚 , TOUYA, TAKANAO
IPC分类号： H01J37/21 , H01J37/304 , G01J1/28
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J2237/20235 , H01J2237/20292

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