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1. 发明专利

TWI584334B 具有準直感測器和射束測量感測器的帶電粒子微影系統有权
简体标题：具有准直传感器和射束测量传感器的带电粒子微影系统
公开(公告)号：TWI584334B
公开(公告)日：2017-05-21
申请号：TW102108399
申请日：2013-03-08
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：史佛爾斯保羅依潔梅爾特 , SCHEFFERS, PAUL IJMERT , 麥傑珍安卓依 , MEIJER, JAN ANDRIES , 史羅特歐文 , SLOT, ERWIN , 庫柏芬森特席爾菲斯特 , KUIPER, VINCENT SYLVESTER , 菲格尼爾斯 , VERGEER, NIELS
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/304 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/707 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3045 , H01J37/3177 , H01J2237/1501 , H01J2237/1502 , H01J2237/3045

2. 发明专利

TW201426208A 在微影系統中測定基板位置的方法，用於此方法中的基板以及用於實行此方法的微影系統审中-公开
简体标题：在微影系统中测定基板位置的方法，用于此方法中的基板以及用于实行此方法的微影系统
公开(公告)号：TW201426208A
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：TW102138900
申请日：2013-10-28
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：菲格尼爾斯 , VERGEER, NIELS , 迪包爾古伊杜 , DE BOER, GUIDO
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F9/7076 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F9/7046 , G03F9/7084 , H01J37/3045 , H01J37/3174
摘要：本發明是關於一種含有一光學位置標記(100)的基板(12、513)，此標記係用以由一光學記錄頭(500)讀出以發射具有預設波長的光線，最好是紅色或紅外線光線，且尤其是635nm的光線，該光學位置標記(100)具有標記高度(MH)、標記長度(ML)和在該基板(12、513)上的預設已知位置，該光學位置標記(100)沿一縱向方向(x)延伸且經排置以改變該位置標記(100)沿縱向方向(x)的反射係數，其中該光學位置標記(100)含有：- 一第一範圍(101)，此者具有第一反射係數及第一寬度(W)；- 一第二範圍(102)，此者相鄰於該第一範圍(101)並構成第一範圍組對(105)，該第二範圍(102)具有第二反射係數及第二寬度(W)，而且該第二反射係數不同於該第一反射係數，其中該第一範圍(101)含有相比於該預設波長光線之波長的次波長結構(SWS)。
简体摘要：本发明是关于一种含有一光学位置标记(100)的基板(12、513)，此标记系用以由一光学记录头(500)读出以发射具有默认波长的光线，最好是红色或红外线光线，且尤其是635nm的光线，该光学位置标记(100)具有标记高度(MH)、标记长度(ML)和在该基板(12、513)上的默认已知位置，该光学位置标记(100)沿一纵向方向(x)延伸且经排置以改变该位置标记(100)沿纵向方向(x)的反射系数，其中该光学位置标记(100)含有：- 一第一范围(101)，此者具有第一反射系数及第一宽度(W)；- 一第二范围(102)，此者相邻于该第一范围(101)并构成第一范围组对(105)，该第二范围(102)具有第二反射系数及第二宽度(W)，而且该第二反射系数不同于该第一反射系数，其中该第一范围(101)含有相比于该默认波长光线之波长的次波长结构(SWS)。

3. 发明专利

TWI624733B 用於曝光工具的干涉儀模組的校準有权
简体标题：用于曝光工具的干涉仪模块的校准
公开(公告)号：TWI624733B
公开(公告)日：2018-05-21
申请号：TW101111339
申请日：2012-03-30
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：迪包爾古伊杜 , DE BOER, GUIDO , 歐姆斯湯瑪士阿卓安 , OOMS, THOMAS ADRIAAN , 菲格尼爾斯 , VERGEER, NIELS , 寇維利爾斯哥德佛利德斯科諾留斯安東尼歐斯 , COUWELEERS, GODEFRIDUS CORNELIUS ANTONIUS
IPC分类号： G03F7/20 , G01B9/02

4. 发明专利

TWI617903B 用於在微影系統中測定基板的位置的系統，以及用於此系統中的基板有权
简体标题：用于在微影系统中测定基板的位置的系统，以及用于此系统中的基板
公开(公告)号：TWI617903B
公开(公告)日：2018-03-11
申请号：TW102138900
申请日：2013-10-28
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：菲格尼爾斯 , VERGEER, NIELS , 迪包爾古伊杜 , DE BOER, GUIDO
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F9/7076 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F9/7046 , G03F9/7084 , H01J37/3045 , H01J37/3174

5. 发明专利

TWI561936B 使用具有局部反射性位置標誌的基板在微影系統的位置決定有权
简体标题：使用具有局部反射性位置标志的基板在微影系统的位置决定
公开(公告)号：TWI561936B
公开(公告)日：2016-12-11
申请号：TW101114337
申请日：2012-04-23
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：菲格尼爾斯 , VERGEER, NIELS , 迪包爾古伊杜 , DE BOER, GUIDO
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F9/7088 , G03F9/7076

6. 发明专利

TW201508243A 具有差動對的電容式感測系統审中-公开
简体标题：具有差动对的电容式传感系统
公开(公告)号：TW201508243A
公开(公告)日：2015-03-01
申请号：TW103134728
申请日：2010-12-30
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：迪包爾古伊杜 , DE BOER, GUIDO , 凡巴爾強尼珍妮斯傑考伯斯 , VAN BAAR, JOHNNY JOANNES JACOBUS , 巴丁考斯杜伯帕布德 , PADHYE, KAUSTUBH PRABODH , 穆森羅伯 , MOSSEL, ROBERT , 菲格尼爾斯 , VERGEER, NIELS , 史丁柏齡克史丁威稜賀曼卡羅 , STEENBRINK, STIJN WILLEM HERMAN KAREL
IPC分类号： G01B7/02 , G03F7/20
CPC分类号： G01B7/023 , G01D3/036 , G01D5/2417 , G03F9/7026 , G03F9/7053
摘要：一種電容式感測系統，包含二或更多個電容式感測器、一或多個AC電源以供電予該電容式感測器、以及一信號處理電路以處理來自該感測器之信號。該等感測器係成對配置，其中該一或多個AC電源被配置成以一交流電流或電壓供電予一對感測器中之一第一感測器，該交流電流或電壓與供予該對感測器中之一第二感測器之一電流或電壓相位相差180度，且其中一對感測器提供一針對一單一量測距離數值之量測單元，該信號處理電路自該對感測器中之每一感測器接收一輸出信號並產生一有關於該對感測器與靶材間平均距離之量測數值。
简体摘要：一种电容式传感系统，包含二或更多个电容式传感器、一或多个AC电源以供电予该电容式传感器、以及一信号处理电路以处理来自该传感器之信号。该等传感器系成对配置，其中该一或多个AC电源被配置成以一交流电流或电压供电予一对传感器中之一第一传感器，该交流电流或电压与供予该对传感器中之一第二传感器之一电流或电压相位相差180度，且其中一对传感器提供一针对一单一量测距离数值之量测单元，该信号处理电路自该对传感器中之每一传感器接收一输出信号并产生一有关于该对传感器与靶材间平均距离之量测数值。

7. 发明专利

TW201346984A 處理諸如晶圓的靶材之微影系統和方法审中-公开
简体标题：处理诸如晶圆的靶材之微影系统和方法
公开(公告)号：TW201346984A
公开(公告)日：2013-11-16
申请号：TW102108400
申请日：2013-03-08
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：菲格尼爾斯 , VERGEER, NIELS
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F9/00 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F9/7088 , H01J37/3045 , H01J37/3177 , H01J2237/30438
摘要：本發明提供一種操作用以處理夾盤(13)上之靶材(23)的靶材處理系統的方法，該方法包括：在該夾盤(13)上提供至少一第一夾盤位置標記(27)和一第二夾盤位置標記(28)；提供一對準感測系統(17)，其被排列成用以偵測該等第一和第二夾盤位置標記(27，28)，該對準感測系統(17)包括至少一第一對準感測器(61)和一第二對準感測器(62)；以該對準感測系統(17)之至少一測量值為基礎將該夾盤(13)移動至第一位置；以及測量和該夾盤之該第一位置有關的至少一數值。
简体摘要：本发明提供一种操作用以处理夹盘(13)上之靶材(23)的靶材处理系统的方法，该方法包括：在该夹盘(13)上提供至少一第一夹盘位置标记(27)和一第二夹盘位置标记(28)；提供一对准传感系统(17)，其被排列成用以侦测该等第一和第二夹盘位置标记(27，28)，该对准传感系统(17)包括至少一第一对准传感器(61)和一第二对准传感器(62)；以该对准传感系统(17)之至少一测量值为基础将该夹盘(13)移动至第一位置；以及测量和该夹盘之该第一位置有关的至少一数值。

8. 发明专利

TWI571707B 用於處理諸如晶圓的標靶的微影系統，用於操作用於處理諸如晶圓的標靶的微影系統的方法，以及使用在此種微影系統的基板有权
简体标题：用于处理诸如晶圆的标靶的微影系统，用于操作用于处理诸如晶圆的标靶的微影系统的方法，以及使用在此种微影系统的基板
公开(公告)号：TWI571707B
公开(公告)日：2017-02-21
申请号：TW101114343
申请日：2012-04-23
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：寇維利爾斯哥德佛利德斯科諾留斯安東尼歐斯 , COUWELEERS, GODEFRIDUS CORNELIUS ANTONIUS , 普蘭德斯恩勞倫斯 , PLANDSOEN, LAURENS , 菲柏格寇兒 , VERBURG, COR , 菲格尼爾斯 , VERGEER, NIELS , 迪包爾古伊杜 , DE BOER, GUIDO
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F9/7088 , G03F7/70616 , G03F7/70666 , G03F7/70775 , G03F7/7085 , G03F9/7023 , G03F9/7053

9. 发明专利

TWI566052B 具有差分干涉儀模組的微影系統有权
简体标题：具有差分干涉仪模块的微影系统
公开(公告)号：TWI566052B
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：TW101111337
申请日：2012-03-30
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：迪包爾古伊杜 , DE BOER, GUIDO , 歐姆斯湯瑪士阿卓安 , OOMS, THOMAS ADRIAAN , 菲格尼爾斯 , VERGEER, NIELS , 寇維利爾斯哥德佛利德斯科諾留斯安東尼歐斯 , COUWELEERS, GODEFRIDUS CORNELIUS ANTONIUS
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00 , G01B9/02
CPC分类号： G03F7/70775 , G01B9/02007 , G01B9/02015 , G03F7/70833 , G03F7/7085 , H01J2237/30438

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