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1. 发明专利

TW201809937A 作業狀態取得裝置、製造線之生產管理系統及生產管理方法审中-公开
简体标题：作业状态取得设备、制造线之生产管理系统及生产管理方法
公开(公告)号：TW201809937A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106126340
申请日：2017-08-04
申请人：日商愛智能科技公司 , I SMART TECHNOLOGIES CORPORATION
发明人：木村哲也 , KIMURA, TETSUYA
IPC分类号： G05B19/418 , G06Q50/04
CPC分类号： G05B19/41875 , G01J1/38 , G05B19/048 , G05B19/41815 , G05B19/4183 , G05B19/41835 , G05B19/4184 , G05B19/41855 , G05B19/41865 , G05B2219/24097 , G05B2219/31433 , G05B2219/31434 , G05B2219/31445 , G05B2219/31455 , G05B2219/33284 , G06Q10/0633 , G07C3/005
摘要：作業狀態取得裝置20a具備檢測部21a，其後續附加安裝在配置於製造線L1之生產設備31，或後續附加配置於生產設備31附近，輸出表示生產設備31之作業狀態之檢測信號。作業狀態取得裝置20a具備用於對生產管理裝置10發送檢測信號之發送部22a。
简体摘要：作业状态取得设备20a具备检测部21a，其后续附加安装在配置于制造线L1之生产设备31，或后续附加配置于生产设备31附近，输出表示生产设备31之作业状态之检测信号。作业状态取得设备20a具备用于对生产管理设备10发送检测信号之发送部22a。

2. 发明专利

TWI616827B 排程系統及方法有权
简体标题：调度系统及方法
公开(公告)号：TWI616827B
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW105139098
申请日：2016-11-28
申请人：財團法人資訊工業策進會 , INSTITUTE FOR INFORMATION INDUSTRY
发明人：陳承輝 , CHEN, CHENGHUI , 高虹安 , KAO, HUNGAN , 邱宏昇 , CHIU, HUNGSHENG , 張曉珍 , CHANG, HSIAO CHEN
IPC分类号： G06Q10/06 , G06Q50/04
CPC分类号： G05B19/41865 , G05B2219/24018 , G05B2219/25419

3. 发明专利

TWI578130B 產生用於製造工具之配方的方法及其系統有权
简体标题：产生用于制造工具之配方的方法及其系统
公开(公告)号：TWI578130B
公开(公告)日：2017-04-11
申请号：TW101133328
申请日：2012-09-12
申请人：應用材料以色列公司 , APPLIED MATERIALS ISRAEL LTD.
发明人：傑士荷馬克 , GESHEL, MARK , 伯托夫艾維斯海 , BARTOV, AVISHAI
IPC分类号： G05B19/418 , G06Q10/06
CPC分类号： G06F17/50 , G05B19/41865 , G05B2219/32096 , Y02P90/14 , Y02P90/18 , Y02P90/20

4. 发明专利

TW201625378A 工作機械之控制裝置审中-公开
简体标题：工作机械之控制设备
公开(公告)号：TW201625378A
公开(公告)日：2016-07-16
申请号：TW104133037
申请日：2015-10-07
申请人：西鐵城控股股份有限公司 , CITIZEN HOLDINGS CO., LTD. , 西鐵城精機股份有限公司 , CITIZEN MACHINERY CO., LTD.
发明人：中谷尊一 , NAKAYA, TAKAICHI , 松本仁 , MATSUMOTO, HITOSHI
IPC分类号： B23Q15/22 , G06F19/28
CPC分类号： G05B19/4155 , B23Q39/04 , G05B19/41865 , G05B2219/32043 , G05B2219/50008 , G05B2219/50012 , G05B2219/50014
摘要：提供一種工作機械之控制裝置，可以連續有效率製造相異的形狀之複數個製品。具備：多系統程式儲存部(30)，係儲存各別相異之複數個多系統程式，該複數個多系統程式係把各模組(M1、M2、M3)的驅動軸對模組之每一個被分派到個別的控制系統，把工件加工成各個相異的形狀；多系統程式分割部(31)，係把各多系統程式，分割到各個之各加工程式；分割程式儲存部(32)，係個別儲存被分割過的各加工程式；系統別程式儲存部(34)，係把對應到各控制系統之各個的加工程式儲存到各系統之每一個；以及加工程式選擇部(33)，係對應到用各模組所進行的加工製程，從分割程式儲存部(32)選擇指定的加工程式，對指定的控制系統之每一個個別儲存到系統別程式儲存部(34)。
简体摘要：提供一种工作机械之控制设备，可以连续有效率制造相异的形状之复数个制品。具备：多系统进程存储部(30)，系存储各别相异之复数个多系统进程，该复数个多系统进程系把各模块(M1、M2、M3)的驱动轴对模块之每一个被分派到个别的控制系统，把工件加工成各个相异的形状；多系统进程分割部(31)，系把各多系统进程，分割到各个之各加工进程；分割进程存储部(32)，系个别存储被分割过的各加工进程；系统别进程存储部(34)，系把对应到各控制系统之各个的加工进程存储到各系统之每一个；以及加工进程选择部(33)，系对应到用各模块所进行的加工制程，从分割进程存储部(32)选择指定的加工进程，对指定的控制系统之每一个个别存储到系统别进程存储部(34)。

5. 发明专利

TWI541624B 電漿處理系統之整合與控制方法及設備有权
简体标题：等离子处理系统之集成与控制方法及设备
公开(公告)号：TWI541624B
公开(公告)日：2016-07-11
申请号：TW100144663
申请日：2011-12-05
申请人：蘭姆研究公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：黃中和 , HUANG, CHUNG-HO , 林正杰 , LIN, CHENG CHIEH
IPC分类号： G05B19/418
CPC分类号： B08B6/00 , G05B19/4184 , G05B19/41865 , G05B2219/32226 , G05B2219/45031 , Y02P90/14 , Y02P90/20

6. 发明专利

TWI526789B 用於微影蝕刻機器群聚的網路架構和協定有权
简体标题：用于微影蚀刻机器群聚的网络架构和协定
公开(公告)号：TWI526789B
公开(公告)日：2016-03-21
申请号：TW101114467
申请日：2012-04-23
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：凡克芬尼克馬賽尼可拉斯賈考柏斯 , VAN KERVINCK, MARCEL NICOLAAS JACOBUS , 迪包爾古伊杜 , DE BOER, GUIDO
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/317
CPC分类号： G06F9/48 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70483 , G03F7/70508 , G03F7/70525 , G03F7/70991 , G05B19/41865 , G06F9/4881 , H01J37/3177

7. 发明专利

TW201606875A 控制裝置、基板處理裝置及基板處理系統审中-公开
简体标题：控制设备、基板处理设备及基板处理系统
公开(公告)号：TW201606875A
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：TW104107843
申请日：2015-03-12
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：竹永裕一 , TAKENAGA, YUICHI , 齋藤孝規 , SAITO, TAKANORI
IPC分类号： H01L21/31 , H01L21/205 , C23C16/44 , C23C16/52
CPC分类号： G05B19/41865 , G05B2219/45032 , H01L21/67253 , Y02P90/04 , Y02P90/20
摘要：根據本揭示內容，提供一種控制裝置，其控制至少可載置監測基板之基板處理裝置之作動，前述控制裝置依據業經前述基板處理裝置處理過之前述監測基板之處理結果與預測結果之間的差距，將前述基板處理裝置之作動控制為使前述監測基板之載入頻率最適化。
简体摘要：根据本揭示内容，提供一种控制设备，其控制至少可载置监测基板之基板处理设备之作动，前述控制设备依据业经前述基板处理设备处理过之前述监测基板之处理结果与预测结果之间的差距，将前述基板处理设备之作动控制为使前述监测基板之加载频率最适化。

8. 发明专利

TWI496206B 基板處理裝置及電源管理方法有权
简体标题：基板处理设备及电源管理方法
公开(公告)号：TWI496206B
公开(公告)日：2015-08-11
申请号：TW101107279
申请日：2012-03-05
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：橋本光治 , HASHIMOTO, KOJI , 椋田修央 , MUKUTA, NOBUHIRO
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： G05B19/02 , G05B19/41865 , G05B2219/32021 , G05B2219/45032 , H01L21/67276 , Y02P70/161 , Y02P70/605 , Y02P80/114 , Y02P90/20 , Y02P90/205

9. 发明专利

TWI495971B 控制裝置、控制系統、控制方法、控制程式及其記錄媒體有权
简体标题：控制设备、控制系统、控制方法、控制进程及其记录媒体
公开(公告)号：TWI495971B
公开(公告)日：2015-08-11
申请号：TW102129939
申请日：2013-08-22
申请人：歐姆龍股份有限公司 , OMRON CORPORATION
发明人：川井若浩 , KAWAI, WAKAHIRO
IPC分类号： G05B19/418 , G05B15/02
CPC分类号： G05B19/418 , G05B19/41865 , G05B2219/32021 , G05B2219/32057 , Y02P70/161 , Y02P80/114 , Y02P90/20 , Y02P90/205

10. 发明专利

TWI485642B 光電元件之客製化製造方法有权
简体标题：光电组件之客制化制造方法
公开(公告)号：TWI485642B
公开(公告)日：2015-05-21
申请号：TW097106746
申请日：2008-02-26
申请人：晶元光電股份有限公司 , EPISTAR CORPORATION
发明人：謝明勳 , SHIEH, MIN HSUN
IPC分类号： G06Q50/04 , H01L33/00
CPC分类号： G05B19/41865 , G05B2219/32036 , G06Q10/06 , G06Q50/04 , Y02P90/20 , Y02P90/30

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