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1. 发明专利

TWI471891B 帶電粒子微影機器及基板處理系統有权
简体标题：带电粒子微影机器及基板处理系统
公开(公告)号：TWI471891B
公开(公告)日：2015-02-01
申请号：TW099105121
申请日：2010-02-22
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：迪包爾古伊杜 , DE BOER, GUIDO , 迪將亨卓克傑 , DE JONG, HENDRIK JAN , 柏圖森山德 , BALTUSSEN, SANDER
IPC分类号： H01J37/16 , H01J37/18 , H01L21/677

2. 发明专利

TWI596699B 箝制基板之方法及箝夾準備單元有权
简体标题：箝制基板之方法及箝夹准备单元
公开(公告)号：TWI596699B
公开(公告)日：2017-08-21
申请号：TW105109422
申请日：2010-02-22
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：迪將亨卓克傑 , DE JONG, HENDRIK JAN , 威蘭德瑪寇傑加寇 , WIELAND, MARCO JAN-JACO
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/67
CPC分类号： G03F7/707 , H01L21/6838 , H01L21/68707 , H01L21/68742 , H01L21/6875 , H01L21/68785 , Y10T29/49815 , Y10T29/49998 , Y10T29/53

3. 发明专利

TWI582894B 基板支撐結構、夾持準備單元、以及微影系統有权
简体标题：基板支撑结构、夹持准备单元、以及微影系统
公开(公告)号：TWI582894B
公开(公告)日：2017-05-11
申请号：TW100105385
申请日：2011-02-18
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：迪將亨卓克傑 , DE JONG, HENDRIK JAN
IPC分类号： H01L21/683
CPC分类号： H01L21/6875 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/707 , H01J37/3174 , H01L21/68757

4. 发明专利

TWI540670B 箝制基板之方法及箝夾準備單元有权
简体标题：箝制基板之方法及箝夹准备单元
公开(公告)号：TWI540670B
公开(公告)日：2016-07-01
申请号：TW099105113
申请日：2010-02-22
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：迪將亨卓克傑 , DE JONG, HENDRIK JAN , 威蘭德瑪寇傑加寇 , WIELAND, MARCO JAN-JACO
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/67
CPC分类号： G03F7/707 , H01L21/6838 , H01L21/68707 , H01L21/68742 , H01L21/6875 , H01L21/68785 , Y10T29/49815 , Y10T29/49998 , Y10T29/53

5. 发明专利

TWI562183B 隙縫陣列元件、帶電粒子束產生器以及帶電粒子微影系統有权
简体标题：隙缝数组组件、带电粒子束产生器以及带电粒子微影系统
公开(公告)号：TWI562183B
公开(公告)日：2016-12-11
申请号：TW100141411
申请日：2011-11-14
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：威蘭德瑪寇傑加寇 , WIELAND, MARCO JAN-JACO , 凡賓艾利克山德亨卓克文森 , VAN VEEN, ALEXANDER HENDRIK VINCENT , 迪將亨卓克傑 , DE JONG, HENDRIK JAN
IPC分类号： H01J37/04 , H01J37/07 , H01J37/063
CPC分类号： H01J37/045 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3177 , H01J2237/002 , H01J2237/0437

6. 发明专利

TWI486723B 在微影系統中處理基板的方法有权
简体标题：在微影系统中处理基板的方法
公开(公告)号：TWI486723B
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：TW101115338
申请日：2012-04-30
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：庫柏芬森特席爾菲斯特 , KUIPER, VINCENT SYLVESTER , 史羅特歐文 , SLOT, ERWIN , 凡克芬尼克馬賽尼可拉斯賈考柏斯 , VAN KERVINCK, MARCEL NICOLAAS JACOBUS , 迪包爾古伊杜 , DE BOER, GUIDO , 迪將亨卓克傑 , DE JONG, HENDRIK JAN
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70733 , G03F7/7075 , H01L21/67178 , H01L21/67225 , H01L21/67745

7. 发明专利

TW201518872A 使用於微影系統的乾燥裝置审中-公开
简体标题：使用于微影系统的干燥设备
公开(公告)号：TW201518872A
公开(公告)日：2015-05-16
申请号：TW103128893
申请日：2014-08-22
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：迪將亨卓克傑 , DE JONG, HENDRIK JAN
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： H01J37/3177 , F26B21/004 , H01J37/20 , H01J2237/0437 , H01L21/67034
摘要：本發明係關於一種用於在一微影系統中使用、用於乾燥在諸如一晶圓的一平坦目標之一第一側上的一表面之至少部分之乾燥裝置。該裝置具有一乾燥器件，其用於自該平坦目標之該第一側消除液體或其小滴。該乾燥器件具有緊密接近該目標而配置之一第一狹縫及一第二狹縫。在該目標與該乾燥器件之間存在一間隙。可經由該第一狹縫將經加壓之氣體供應至該間隙內。可藉由該經加壓之氣體經由該第二狹縫自該目標排放該液體。該第一狹縫及該第二狹縫經建構以使該經加壓之氣體能夠沿著該平坦目標的該第一側大體上平行於該平坦目標而流動。
简体摘要：本发明系关于一种用于在一微影系统中使用、用于干燥在诸如一晶圆的一平坦目标之一第一侧上的一表面之至少部分之干燥设备。该设备具有一干燥器件，其用于自该平坦目标之该第一侧消除液体或其小滴。该干燥器件具有紧密接近该目标而配置之一第一狭缝及一第二狭缝。在该目标与该干燥器件之间存在一间隙。可经由该第一狭缝将经加压之气体供应至该间隙内。可借由该经加压之气体经由该第二狭缝自该目标排放该液体。该第一狭缝及该第二狭缝经建构以使该经加压之气体能够沿着该平坦目标的该第一侧大体上平行于该平坦目标而流动。

8. 发明专利

TW201626498A 箝制基板之方法及箝夾準備單元审中-公开
简体标题：箝制基板之方法及箝夹准备单元
公开(公告)号：TW201626498A
公开(公告)日：2016-07-16
申请号：TW105109422
申请日：2010-02-22
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：迪將亨卓克傑 , DE JONG, HENDRIK JAN , 威蘭德瑪寇傑加寇 , WIELAND, MARCO JAN-JACO
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/67
CPC分类号： G03F7/707 , H01L21/6838 , H01L21/68707 , H01L21/68742 , H01L21/6875 , H01L21/68785 , Y10T29/49815 , Y10T29/49998 , Y10T29/53
摘要：本發明係關於一種箝制基板(22)於基板支撐結構(23)的表面上之方法。首先，將液體施加於該基板支撐結構的一表面上，該表面設有複數個接觸元件，所施加液體使得該等接觸元件被一液體層所完全覆蓋；然後，提供該基板並將該基板放置於該液體層上；最後，從該基板底下移除液體，致使該基板擱置於該等接觸元件上且被該基板與該基板支撐結構的表面之間的液體之一毛細層所施加的毛細箝制力所箝制。
简体摘要：本发明系关于一种箝制基板(22)于基板支撑结构(23)的表面上之方法。首先，将液体施加于该基板支撑结构的一表面上，该表面设有复数个接触组件，所施加液体使得该等接触组件被一液体层所完全覆盖；然后，提供该基板并将该基板放置于该液体层上；最后，从该基板底下移除液体，致使该基板搁置于该等接触组件上且被该基板与该基板支撑结构的表面之间的液体之一毛细层所施加的毛细箝制力所箝制。

9. 发明专利

TWI514089B 在微影系統中用於轉移基板的設備有权
简体标题：在微影系统中用于转移基板的设备
公开(公告)号：TWI514089B
公开(公告)日：2015-12-21
申请号：TW101115340
申请日：2012-04-30
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：庫柏芬森特席爾菲斯特 , KUIPER, VINCENT SYLVESTER , 史羅特歐文 , SLOT, ERWIN , 凡克芬尼克馬賽尼可拉斯賈考柏斯 , VAN KERVINCK, MARCEL NICOLAAS JACOBUS , 迪包爾古伊杜 , DE BOER, GUIDO , 迪將亨卓克傑 , DE JONG, HENDRIK JAN
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/677
CPC分类号： G03F7/70733 , G03F7/7075 , H01L21/67178 , H01L21/67225 , H01L21/67745

10. 发明专利

TWI548950B 微影系統及在該微影系統內處理基板之方法有权
简体标题：微影系统及在该微影系统内处理基板之方法
公开(公告)号：TWI548950B
公开(公告)日：2016-09-11
申请号：TW100146173
申请日：2011-12-14
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：迪包爾古伊杜 , DE BOER, GUIDO , 迪將亨卓克傑 , DE JONG, HENDRIK JAN , 庫柏芬森特席爾菲斯特 , KUIPER, VINCENT SYLVESTER , 史羅特歐文 , SLOT, ERWIN
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/30
CPC分类号： G03F7/70808 , G03F7/708 , G03F7/70975 , H01J37/16 , H01J37/185 , H01J2237/31774

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