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1. 发明专利

TW201601593A 成膜裝置及成膜方法审中-公开
简体标题：成膜设备及成膜方法
公开(公告)号：TW201601593A
公开(公告)日：2016-01-01
申请号：TW104108459
申请日：2015-03-17
申请人：愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人：中尾裕利 , NAKAO, HIROTOSHI , 佐藤誠一 , SATOU, SEIICHI , 柴智志 , SHIBA, SATOSHI , 坂內雄也 , BANNNAI, YUUYA , 木村孔 , KIMURA, TORU
IPC分类号： H05B33/10
CPC分类号： C23C14/24 , C23C14/042 , C23C14/562
摘要：本發明提供一種成膜裝置，係邊讓薄片狀的基材以既定速度行走，邊隔著遮罩供給成膜材料而在基材的一面以既定的圖案連續成膜時，能將薄片狀的基材部分和薄片狀的轉印基板部分高精度地對準，且能減少裝置成本及運轉成本。將從成膜手段(9)朝向薄片狀的基材(Sw)之方向設為上方，遮罩材行走手段(4)具有平行行走區域形成部(42a、42b)和驅動部(42d、DM2)，且平行行走區域形成部和驅動部設置在單一之架台(41)，該平行行走區域形成部(42a、42b)係使薄片狀的遮罩材(Sm)的部分(Sm1)相對於朝一方向行走的薄片狀的基材部分(Sw1)，在上下方向保持既定間隔而平行地行走，該驅動部(42d、DM2)係使薄片狀的遮罩材與薄片狀的基材同步行走。
简体摘要：本发明提供一种成膜设备，系边让薄片状的基材以既定速度行走，边隔着遮罩供给成膜材料而在基材的一面以既定的图案连续成膜时，能将薄片状的基材部分和薄片状的转印基板部分高精度地对准，且能减少设备成本及运转成本。将从成膜手段(9)朝向薄片状的基材(Sw)之方向设为上方，遮罩材行走手段(4)具有平行行走区域形成部(42a、42b)和驱动部(42d、DM2)，且平行行走区域形成部和驱动部设置在单一之架台(41)，该平行行走区域形成部(42a、42b)系使薄片状的遮罩材(Sm)的部分(Sm1)相对于朝一方向行走的薄片状的基材部分(Sw1)，在上下方向保持既定间隔而平行地行走，该驱动部(42d、DM2)系使薄片状的遮罩材与薄片状的基材同步行走。

2. 发明专利

TW201820516A 真空處理裝置审中-公开
简体标题：真空处理设备
公开(公告)号：TW201820516A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106137868
申请日：2017-11-02
申请人：日商愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人：南展史 , MINAMI, HIROFUMI , 鈴木傑之 , SUZUKI, TAKEYUKI , 武者和博 , MUSHA, KAZUHIRO , 中尾裕利 , NAKAO, HIROTOSHI , 佐藤誠一 , SATO, SEIICHI
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/683 , C23C14/56
摘要：提供設置面積小的真空處理裝置。在真空槽(12)的內部配置升降板(15)，且將基板保持裝置(27)配置在升降板(15)而可升降移動。在位於升降板(15)作升降移動的升降區域(12b)的側方的處理區域(12a)內設置上方側處理裝置(40)及下方側處理裝置(50)，藉由上方側移動裝置(35)及下方側移動裝置(36)，使基板保持裝置(27)通過處理區域(12a)內，藉由收授裝置(37)，在上方側移動裝置(35)或下方側移動裝置(36)與升降板(15)之間，進行基板保持裝置(27)的收授。由於可在上方側與下方側進行真空處理，因此真空處理裝置(10)的設置面積小。
简体摘要：提供设置面积小的真空处理设备。在真空槽(12)的内部配置升降板(15)，且将基板保持设备(27)配置在升降板(15)而可升降移动。在位于升降板(15)作升降移动的升降区域(12b)的侧方的处理区域(12a)内设置上方侧处理设备(40)及下方侧处理设备(50)，借由上方侧移动设备(35)及下方侧移动设备(36)，使基板保持设备(27)通过处理区域(12a)内，借由收授设备(37)，在上方侧移动设备(35)或下方侧移动设备(36)与升降板(15)之间，进行基板保持设备(27)的收授。由于可在上方侧与下方侧进行真空处理，因此真空处理设备(10)的设置面积小。

3. 发明专利

TWI597999B 成膜裝置及成膜方法有权
简体标题：成膜设备及成膜方法
公开(公告)号：TWI597999B
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW104108459
申请日：2015-03-17
申请人：愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人：中尾裕利 , NAKAO, HIROTOSHI , 佐藤誠一 , SATOU, SEIICHI , 柴智志 , SHIBA, SATOSHI , 坂內雄也 , BANNNAI, YUUYA , 木村孔 , KIMURA, TORU
IPC分类号： H05B33/10
CPC分类号： C23C14/24 , C23C14/042 , C23C14/562

4. 发明专利

TW201005978A 太陽電池之製造方法及太陽電池之製造裝置 METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING SOLAR BATTERY 审中-公开
简体标题：太阳电池之制造方法及太阳电池之制造设备 METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING SOLAR BATTERY
公开(公告)号：TW201005978A
公开(公告)日：2010-02-01
申请号：TW098110481
申请日：2009-03-30
申请人：愛發科股份有限公司
发明人：山室和弘 , 佐藤誠一 , 矢作充 , 湯山純平 , 中村久三
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L31/208 , H01L31/046 , H02S50/10 , Y02E10/50 , Y02P70/521
摘要：本發明係太陽電池之製造方法，其係形成光電轉換體，該光電轉換體係包含複數個劃分元件，相互鄰接之前述劃分元件彼此電性連接；在前述光電轉換體之中，規定具有構造缺陷之劃分元件；從相互鄰接之前述劃分元件彼此之間測定複數處之電阻值所獲得之電阻值的分布規定缺陷部位，藉由此方式，而在前述劃分元件內限定存在著前述構造缺陷的部位；將偏壓電壓施加於存在著前述構造缺陷的部位而除去前述構造缺陷。
简体摘要：本发明系太阳电池之制造方法，其系形成光电转换体，该光电转换体系包含复数个划分组件，相互邻接之前述划分组件彼此电性连接；在前述光电转换体之中，规定具有构造缺陷之划分组件；从相互邻接之前述划分组件彼此之间测定复数处之电阻值所获得之电阻值的分布规定缺陷部位，借由此方式，而在前述划分组件内限定存在着前述构造缺陷的部位；将偏压电压施加于存在着前述构造缺陷的部位而除去前述构造缺陷。

5. 发明专利

TW201005977A 太陽電池之製造方法及太陽電池之製造裝置 METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING SOLAR BATTERY 审中-公开
简体标题：太阳电池之制造方法及太阳电池之制造设备 METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING SOLAR BATTERY
公开(公告)号：TW201005977A
公开(公告)日：2010-02-01
申请号：TW098110464
申请日：2009-03-30
申请人：愛發科股份有限公司
发明人：山室和弘 , 佐藤誠一 , 矢作充 , 湯山純平 , 中村久三
IPC分类号： H01L
CPC分类号： Y02E10/50 , Y02P70/521
摘要：本發明之太陽電池之製造方法係形成光電轉換體，該光電轉換體包含複數個劃分元件，且相互鄰接之前述劃分元件彼此電性連接；特定出前述光電轉換體中，含有構造缺陷之前述劃分元件；根據於相互鄰接之前述劃分元件彼此之間測定複數處之電阻值所獲得之電阻值分布，縮限前述劃分元件內存在前述構造缺陷之區域，藉由圖像攝像部，拍攝該經縮限之存在前述構造缺陷之前述區域內，從所獲得之圖像正確地特定出前述構造缺陷之位置，藉此於前述劃分元件內限定存在前述構造缺陷之部位；於存在前述構造缺陷之部位，照射雷射光線而去除前述構造缺陷。
简体摘要：本发明之太阳电池之制造方法系形成光电转换体，该光电转换体包含复数个划分组件，且相互邻接之前述划分组件彼此电性连接；特定出前述光电转换体中，含有构造缺陷之前述划分组件；根据于相互邻接之前述划分组件彼此之间测定复数处之电阻值所获得之电阻值分布，缩限前述划分组件内存在前述构造缺陷之区域，借由图像摄像部，拍摄该经缩限之存在前述构造缺陷之前述区域内，从所获得之图像正确地特定出前述构造缺陷之位置，借此于前述划分组件内限定存在前述构造缺陷之部位；于存在前述构造缺陷之部位，照射激光光线而去除前述构造缺陷。

6. 发明专利

TW201140727A 檢查裝置 INSPECTION APPARATUS 审中-公开
简体标题：检查设备 INSPECTION APPARATUS
公开(公告)号：TW201140727A
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：TW099138774
申请日：2010-11-10
申请人：愛發科股份有限公司
发明人：佐藤誠一 , 伊藤慎也 , 吉本龍太郎 , 田中良明
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67265 , G01N21/88
摘要：本發明提供一種能夠檢查基板表面任何部份的輕型檢查裝置。主底座板（21）的側面設有副底座板（111、112），主底座板（21）上和副底座板（111、112）上鋪設有導軌（41）。導軌（41）上搭載著托台（311、312），將安裝在托台（311、312）上的測定器（51a～51d）的測定點移動在主底座板（21）上的基板（71）表面進行測定。當托台（311、312）位於副底座板（111、112）上時，各測定器測定器（51a～51d）的測定點會位於基板（71）配置區域的外部，因此當托台（311、312）沿著導軌（41）移動，使測定器（51a～51d）在水平面內朝水平面垂直方向移動時，就能夠以各測定器（51a～51d）測定基板表面任何位置。
简体摘要：本发明提供一种能够检查基板表面任何部份的轻型检查设备。主底座板（21）的侧面设有副底座板（111、112），主底座板（21）上和副底座板（111、112）上铺设有导轨（41）。导轨（41）上搭载着托台（311、312），将安装在托台（311、312）上的测定器（51a～51d）的测定点移动在主底座板（21）上的基板（71）表面进行测定。当托台（311、312）位于副底座板（111、112）上时，各测定器测定器（51a～51d）的测定点会位于基板（71）配置区域的外部，因此当托台（311、312）沿着导轨（41）移动，使测定器（51a～51d）在水平面内朝水平面垂直方向移动时，就能够以各测定器（51a～51d）测定基板表面任何位置。

7. 发明专利

TW201102274A 噴墨用塗布頭的旋轉調整裝置审中-公开
简体标题：喷墨用涂布头的旋转调整设备
公开(公告)号：TW201102274A
公开(公告)日：2011-01-16
申请号：TW099106452
申请日：2010-03-05
申请人：愛發科股份有限公司
发明人：佐藤誠一 , 矢作充
IPC分类号： B41J
CPC分类号： B41J29/38 , B41J25/003
摘要：一種提供小型便宜的旋轉調整裝置，不需設置從直線移動機構分離獨立的旋轉機構，就可將可直線移動自如的噴墨用塗布頭（6），朝與噴墨用塗布頭的移動方向的X軸方向垂直的Z軸方向的旋轉軸線周圍進行旋轉調整。具備：第1及第2的2個移動體（101、102），朝X軸方向藉由各別的驅動源（111、112）被直線移動；及變換機構（12），當第1及第2的兩移動體（101、102）朝X軸方向同步移動時使噴墨用塗布頭（6）朝X軸方向直線移動，兩移動體（101、102）朝X軸方向相對移動時，將此相對移動變換成噴墨用塗布頭（6）的旋轉軸線周圍的旋轉運動。
简体摘要：一种提供小型便宜的旋转调整设备，不需设置从直线移动机构分离独立的旋转机构，就可将可直线移动自如的喷墨用涂布头（6），朝与喷墨用涂布头的移动方向的X轴方向垂直的Z轴方向的旋转轴线周围进行旋转调整。具备：第1及第2的2个移动体（101、102），朝X轴方向借由各别的驱动源（111、112）被直线移动；及变换机构（12），当第1及第2的两移动体（101、102）朝X轴方向同步移动时使喷墨用涂布头（6）朝X轴方向直线移动，两移动体（101、102）朝X轴方向相对移动时，将此相对移动变换成喷墨用涂布头（6）的旋转轴线周围的旋转运动。

8. 发明专利

TW201239314A 觸針式測量裝置审中-公开
简体标题：触针式测量设备
公开(公告)号：TW201239314A
公开(公告)日：2012-10-01
申请号：TW100141643
申请日：2011-11-15
申请人：愛發科股份有限公司
发明人：柴智志 , 佐藤誠一 , 矢作充
IPC分类号： G01B
CPC分类号： G01B5/008 , G01B21/045
摘要：本發明提供一種觸針式測量裝置,其係使Y軸載台(4)支撐觸針,以防止因線性導件之磨損而造成測量精度之惡化,該Y軸載台(4)係夾介線性導件而由相對於被測量物能夠朝X軸方向相對移動自如的門型框架上端的樑(32)所支撐。線性導件,係由:固定於樑(32)之下面的一對導軌(51、52);以及與相對於各導軌(51、52)之鉛垂面呈傾斜的導引面(51a、52a)移動自如地接觸的一對直動軸承(53、54)所構成。其中一方之直動軸承(54),係相對於Y軸載台(4)朝X軸方向及上下方向游動自如。在Y軸載台(4),設置朝X軸方向彈壓的彈壓手段(55),俾將直動軸承(54)按壓於導軌(52)之導引面(52a),並且在樑(32)側,設置將直動軸承(54)朝下方彈壓的第2彈壓手段(56),並使兩彈壓手段(55、56)之彈壓力的合力之向量方向一致於導引面(52a)之法線方向。
简体摘要：本发明提供一种触针式测量设备,其系使Y轴载台(4)支撑触针,以防止因线性导件之磨损而造成测量精度之恶化,该Y轴载台(4)系夹介线性导件而由相对于被测量物能够朝X轴方向相对移动自如的门型框架上端的梁(32)所支撑。线性导件,系由:固定于梁(32)之下面的一对导轨(51、52);以及与相对于各导轨(51、52)之铅垂面呈倾斜的导引面(51a、52a)移动自如地接触的一对直动轴承(53、54)所构成。其中一方之直动轴承(54),系相对于Y轴载台(4)朝X轴方向及上下方向游动自如。在Y轴载台(4),设置朝X轴方向弹压的弹压手段(55),俾将直动轴承(54)按压于导轨(52)之导引面(52a),并且在梁(32)侧,设置将直动轴承(54)朝下方弹压的第2弹压手段(56),并使两弹压手段(55、56)之弹压力的合力之矢量方向一致于导引面(52a)之法线方向。

9. 发明专利

TW201003339A 附有定位功能之平台及具備此附有定位功能之平台的處理裝置、以及基板定位方法审中-公开
简体标题：附有定位功能之平台及具备此附有定位功能之平台的处理设备、以及基板定位方法
公开(公告)号：TW201003339A
公开(公告)日：2010-01-16
申请号：TW098118401
申请日：2009-06-03
申请人：愛發科股份有限公司
发明人：佐藤誠一 , 矢作充 , 南展史 , 武者和博 , 高橋誠
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： H01L21/68785 , B65G49/061 , B65G49/065 , B65G49/067 , B65G2249/045 , H01L21/68 , H01L21/6838
摘要： [課題]提供一種就算是當處理對象物之重量為多的情況時，亦能夠對於特別是θ方向之對位而以高精確度且容易地來進行的低成本之附有定位功能之平台。[解決手段]具備有將基板S以將其之處理面開放的方式而作保持的平台本體（4a）之附有定位功能之平台，並具備有：吸著手段（8），係可將基板之與處理面相背向的另外一面自由地作吸著；和氣體供給手段（9），係對前述吸著手段處之吸著場所以外的區域供給氣體；和驅動手段（10），係以將前述吸著手段作為旋轉中心而使基板在同一平面內作旋轉的方式，來對前述吸著手段賦予旋轉力。
简体摘要： [课题]提供一种就算是当处理对象物之重量为多的情况时，亦能够对于特别是θ方向之对位而以高精确度且容易地来进行的低成本之附有定位功能之平台。[解决手段]具备有将基板S以将其之处理面开放的方式而作保持的平台本体（4a）之附有定位功能之平台，并具备有：吸着手段（8），系可将基板之与处理面相背向的另外一面自由地作吸着；和气体供给手段（9），系对前述吸着手段处之吸着场所以外的区域供给气体；和驱动手段（10），系以将前述吸着手段作为旋转中心而使基板在同一平面内作旋转的方式，来对前述吸着手段赋予旋转力。

10. 发明专利

TW200944873A 貼合基板製造裝置及貼合基板製造方法 APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING LAMINATED SUBSTRATE 审中-公开
简体标题：贴合基板制造设备及贴合基板制造方法 APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING LAMINATED SUBSTRATE
公开(公告)号：TW200944873A
公开(公告)日：2009-11-01
申请号：TW097143221
申请日：2008-11-07
申请人：愛發科股份有限公司
发明人：佐藤誠一 , 矢作充 , 南展史 , 武者和博 , 湯山純平 , 村田真朗 , 宮田貴裕 , 中村久三
IPC分类号： G02F
CPC分类号： B65G49/064 , B32B37/10 , B32B38/1858 , B65G49/061 , B65G2249/02 , B65G2249/045 , G02F1/1303 , H01L21/67092
摘要：本發明之貼合基板製造裝置係一面將上基板與下基板對準一面貼合，以製造貼合基板；包含：基座部，其係支持前述下基板；腔室構件，其係構成為可上下移動，與前述基座部一同形成貼合處理室；支持棒，其係立設於前述基座部；及上加壓構件，其係可沿著前述支持棒並從前述腔室構件獨立地上下移動，且可保持前述上基板；藉由前述上加壓構件移動，以於前述貼合處理室之內部貼合上基板與前述下基板。
简体摘要：本发明之贴合基板制造设备系一面将上基板与下基板对准一面贴合，以制造贴合基板；包含：基座部，其系支持前述下基板；腔室构件，其系构成为可上下移动，与前述基座部一同形成贴合处理室；支持棒，其系立设于前述基座部；及上加压构件，其系可沿着前述支持棒并从前述腔室构件独立地上下移动，且可保持前述上基板；借由前述上加压构件移动，以于前述贴合处理室之内部贴合上基板与前述下基板。

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