专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201820516A 真空處理裝置审中-公开
简体标题：真空处理设备
公开(公告)号：TW201820516A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106137868
申请日：2017-11-02
申请人：日商愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人：南展史 , MINAMI, HIROFUMI , 鈴木傑之 , SUZUKI, TAKEYUKI , 武者和博 , MUSHA, KAZUHIRO , 中尾裕利 , NAKAO, HIROTOSHI , 佐藤誠一 , SATO, SEIICHI
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/683 , C23C14/56
摘要：提供設置面積小的真空處理裝置。在真空槽(12)的內部配置升降板(15)，且將基板保持裝置(27)配置在升降板(15)而可升降移動。在位於升降板(15)作升降移動的升降區域(12b)的側方的處理區域(12a)內設置上方側處理裝置(40)及下方側處理裝置(50)，藉由上方側移動裝置(35)及下方側移動裝置(36)，使基板保持裝置(27)通過處理區域(12a)內，藉由收授裝置(37)，在上方側移動裝置(35)或下方側移動裝置(36)與升降板(15)之間，進行基板保持裝置(27)的收授。由於可在上方側與下方側進行真空處理，因此真空處理裝置(10)的設置面積小。
简体摘要：提供设置面积小的真空处理设备。在真空槽(12)的内部配置升降板(15)，且将基板保持设备(27)配置在升降板(15)而可升降移动。在位于升降板(15)作升降移动的升降区域(12b)的侧方的处理区域(12a)内设置上方侧处理设备(40)及下方侧处理设备(50)，借由上方侧移动设备(35)及下方侧移动设备(36)，使基板保持设备(27)通过处理区域(12a)内，借由收授设备(37)，在上方侧移动设备(35)或下方侧移动设备(36)与升降板(15)之间，进行基板保持设备(27)的收授。由于可在上方侧与下方侧进行真空处理，因此真空处理设备(10)的设置面积小。

2. 发明专利

TWI597999B 成膜裝置及成膜方法有权
简体标题：成膜设备及成膜方法
公开(公告)号：TWI597999B
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW104108459
申请日：2015-03-17
申请人：愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人：中尾裕利 , NAKAO, HIROTOSHI , 佐藤誠一 , SATOU, SEIICHI , 柴智志 , SHIBA, SATOSHI , 坂內雄也 , BANNNAI, YUUYA , 木村孔 , KIMURA, TORU
IPC分类号： H05B33/10
CPC分类号： C23C14/24 , C23C14/042 , C23C14/562

3. 发明专利

TW201733887A 真空處理裝置审中-公开
简体标题：真空处理设备
公开(公告)号：TW201733887A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105141853
申请日：2016-12-16
申请人：愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人：中尾裕利 , NAKAO, HIROTOSHI
IPC分类号： B65G47/52 , B65G17/24 , C23C16/54
CPC分类号： B65G17/00 , B65G17/32 , B65G49/06 , C23C14/34 , C23C14/56 , H01L21/677
摘要：本發明提供在通過型之真空處理裝置中，可以充分達成省空間化的技術。本發明之真空處理裝置(1)具有：形成單一之真空氛圍的真空槽(2)；設於真空槽(2)內，具有在基板(10)之平面的處理面上進行處理的處理源的第1及第2處理區域(4、5)；及搬送驅動構件(33)，構成以通過第1及第2處理區域(4、5)的方式對基板(10)進行搬送的搬送路徑。該搬送路徑，當投影到包含法線及軌跡線段的平面(鉛直面)時係以成為一連串之環狀的方式被形成，該法線係被搬送的基板(10)之處理面上之任意點的法線，該軌跡線段係直線通過第1及第2處理區域(4、5)時基板(10)的處理面上之任意點所描繪成的軌跡線段。
简体摘要：本发明提供在通过型之真空处理设备中，可以充分达成省空间化的技术。本发明之真空处理设备(1)具有：形成单一之真空氛围的真空槽(2)；设于真空槽(2)内，具有在基板(10)之平面的处理面上进行处理的处理源的第1及第2处理区域(4、5)；及搬送驱动构件(33)，构成以通过第1及第2处理区域(4、5)的方式对基板(10)进行搬送的搬送路径。该搬送路径，当投影到包含法线及轨迹线段的平面(铅直面)时系以成为一连串之环状的方式被形成，该法线系被搬送的基板(10)之处理面上之任意点的法线，该轨迹线段系直线通过第1及第2处理区域(4、5)时基板(10)的处理面上之任意点所描绘成的轨迹线段。

4. 发明专利

TW201741483A 真空裝置审中-公开
简体标题：真空设备
公开(公告)号：TW201741483A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW106106526
申请日：2017-02-24
申请人：愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人：中尾裕利 , NAKAO, HIROTOSHI
IPC分类号： C23C14/56 , H01L21/677
CPC分类号： C23C14/56 , H01L21/677
摘要：以小的力來支撐大氣壓。在藉由內部蓋構件(17)來將內部搬入搬出口(13)氣密地作閉塞時，藉由將移動側連桿構件(41)和固定側連桿構件(42)設為一直線，來對起因於被施加於內部蓋構件(17)處之大氣壓所致之欲使移動側連桿構件(41)沿著導引軸(28)來朝向固定構件(30)側移動之力作支撐。當將移動側連桿構件(41)和固定側連桿構件(42)作連接之共通旋轉軸線(33)為從移動側旋轉軸線(31)和固定側旋轉軸線(32)所位置的滑動構件側平面(46)而些許地分離的情況時，係能夠以小的力來維持由內部蓋構件(17)所致之內部搬入搬出口(13)之閉塞。
简体摘要：以小的力来支撑大气压。在借由内部盖构件(17)来将内部搬入搬出口(13)气密地作闭塞时，借由将移动侧连杆构件(41)和固定侧连杆构件(42)设为一直线，来对起因于被施加于内部盖构件(17)处之大气压所致之欲使移动侧连杆构件(41)沿着导引轴(28)来朝向固定构件(30)侧移动之力作支撑。当将移动侧连杆构件(41)和固定侧连杆构件(42)作连接之共通旋转轴线(33)为从移动侧旋转轴线(31)和固定侧旋转轴线(32)所位置的滑动构件侧平面(46)而些许地分离的情况时，系能够以小的力来维持由内部盖构件(17)所致之内部搬入搬出口(13)之闭塞。

5. 发明专利

TW201601593A 成膜裝置及成膜方法审中-公开
简体标题：成膜设备及成膜方法
公开(公告)号：TW201601593A
公开(公告)日：2016-01-01
申请号：TW104108459
申请日：2015-03-17
申请人：愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人：中尾裕利 , NAKAO, HIROTOSHI , 佐藤誠一 , SATOU, SEIICHI , 柴智志 , SHIBA, SATOSHI , 坂內雄也 , BANNNAI, YUUYA , 木村孔 , KIMURA, TORU
IPC分类号： H05B33/10
CPC分类号： C23C14/24 , C23C14/042 , C23C14/562
摘要：本發明提供一種成膜裝置，係邊讓薄片狀的基材以既定速度行走，邊隔著遮罩供給成膜材料而在基材的一面以既定的圖案連續成膜時，能將薄片狀的基材部分和薄片狀的轉印基板部分高精度地對準，且能減少裝置成本及運轉成本。將從成膜手段(9)朝向薄片狀的基材(Sw)之方向設為上方，遮罩材行走手段(4)具有平行行走區域形成部(42a、42b)和驅動部(42d、DM2)，且平行行走區域形成部和驅動部設置在單一之架台(41)，該平行行走區域形成部(42a、42b)係使薄片狀的遮罩材(Sm)的部分(Sm1)相對於朝一方向行走的薄片狀的基材部分(Sw1)，在上下方向保持既定間隔而平行地行走，該驅動部(42d、DM2)係使薄片狀的遮罩材與薄片狀的基材同步行走。
简体摘要：本发明提供一种成膜设备，系边让薄片状的基材以既定速度行走，边隔着遮罩供给成膜材料而在基材的一面以既定的图案连续成膜时，能将薄片状的基材部分和薄片状的转印基板部分高精度地对准，且能减少设备成本及运转成本。将从成膜手段(9)朝向薄片状的基材(Sw)之方向设为上方，遮罩材行走手段(4)具有平行行走区域形成部(42a、42b)和驱动部(42d、DM2)，且平行行走区域形成部和驱动部设置在单一之架台(41)，该平行行走区域形成部(42a、42b)系使薄片状的遮罩材(Sm)的部分(Sm1)相对于朝一方向行走的薄片状的基材部分(Sw1)，在上下方向保持既定间隔而平行地行走，该驱动部(42d、DM2)系使薄片状的遮罩材与薄片状的基材同步行走。

6. 发明专利

TWI676695B 遮罩板及成膜方法有权
公开(公告)号：TWI676695B
公开(公告)日：2019-11-11
申请号：TW107118376
申请日：2018-05-30
申请人：日商愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人：三上瞬 , MIKAMI, SHUN , 中尾裕利 , NAKAO, HIROTOSHI , 田宮慎太郎 , TAMIYA, SHINTAROU , 朝比奈伸一 , ASAHINA, SHINICHI
IPC分类号： C23C14/04 , C23C14/24 , C23C14/50 , H01L21/683 , H05B33/10 , H01L51/50

7. 发明专利

TWI638758B 真空處理裝置有权
简体标题：真空处理设备
公开(公告)号：TWI638758B
公开(公告)日：2018-10-21
申请号：TW105141853
申请日：2016-12-16
申请人：日商愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人：中尾裕利 , NAKAO, HIROTOSHI
IPC分类号： B65G47/52 , B65G17/24 , C23C16/54

8. 发明专利

TWI498203B 驅動裝置及輸送裝置有权
简体标题：驱动设备及输送设备
公开(公告)号：TWI498203B
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：TW099146103
申请日：2010-12-27
申请人：愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人：中尾裕利 , NAKAO, HIROTOSHI , 西辻宗芳 , NISHITSUJI, MUNEYOSHI , 吉野孝廣 , YOSHINO, TAKAHIRO , 栗山拓彌 , KURIYAMA, TAKUYA , 千葉泰司 , CHIBA, TAIJI , 川久保大輔 , KAWAKUBO, DAISUKE , 山田清隆 , YAMADA, KIYOTAKA
IPC分类号： B25J9/06 , B65G49/06 , B65G49/07 , H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67742 , B25J9/003 , B25J9/043 , B25J9/1065

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式