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    • 1. 发明专利
    • 基板縱方向擺動裝置、基板載台裝置及離子注入裝置 APPARATUS FOR LONGITUDINALLY OSCILLATING A SUBSTRATE, SUBSTRATE STAGE APPARATUS, AND ION INJECTION APPARATUS
    • 基板纵方向摆动设备、基板载台设备及离子注入设备 APPARATUS FOR LONGITUDINALLY OSCILLATING A SUBSTRATE, SUBSTRATE STAGE APPARATUS, AND ION INJECTION APPARATUS
    • TW201237993A
    • 2012-09-16
    • TW100139754
    • 2011-11-01
    • 愛發科股份有限公司
    • 佐藤誠一伊藤慎也
    • H01LH01J
    • H01J37/20H01J37/3171H01J2237/20221
    • 提供一種:能夠將在真空槽內之位置作移動的基板縱方向擺動裝置、和能夠在真空槽內而使基板於縱方向以及橫方向上作往返移動之基板載台裝置以及離子注入裝置。基板縱方向擺動裝置(51),係被配置在真空槽(11)內,並具備有:以旋轉軸(37)為中心而上下轉動之腕部(33a、33b);和被鉛直地固定在本體(31)處之導引手段(32a、32b);和被導引手段(32a、32b)所導引並上下移動之縱方向滑動構件(34a、34b),縱方向滑動構件(34a、34b),係被連結於腕部(33a、33b)處,基板保持台(21),係被設置在其中一方之縱方向滑動構件(34a)處,在另外一方之縱方向滑動構件(34b)處,係被設置有重物(25),而使基板保持台(21)之移動的負荷降低。
    • 提供一种:能够将在真空槽内之位置作移动的基板纵方向摆动设备、和能够在真空槽内而使基板于纵方向以及横方向上作往返移动之基板载台设备以及离子注入设备。基板纵方向摆动设备(51),系被配置在真空槽(11)内,并具备有:以旋转轴(37)为中心而上下转动之腕部(33a、33b);和被铅直地固定在本体(31)处之导引手段(32a、32b);和被导引手段(32a、32b)所导引并上下移动之纵方向滑动构件(34a、34b),纵方向滑动构件(34a、34b),系被链接于腕部(33a、33b)处,基板保持台(21),系被设置在其中一方之纵方向滑动构件(34a)处,在另外一方之纵方向滑动构件(34b)处,系被设置有重物(25),而使基板保持台(21)之移动的负荷降低。
    • 2. 发明专利
    • 檢查裝置 INSPECTION APPARATUS
    • 检查设备 INSPECTION APPARATUS
    • TW201140727A
    • 2011-11-16
    • TW099138774
    • 2010-11-10
    • 愛發科股份有限公司
    • 佐藤誠一伊藤慎也吉本龍太郎田中良明
    • H01L
    • H01L21/67265G01N21/88
    • 本發明提供一種能夠檢查基板表面任何部份的輕型檢查裝置。主底座板(21)的側面設有副底座板(111、112),主底座板(21)上和副底座板(111、112)上鋪設有導軌(41)。導軌(41)上搭載著托台(311、312),將安裝在托台(311、312)上的測定器(51a~51d)的測定點移動在主底座板(21)上的基板(71)表面進行測定。當托台(311、312)位於副底座板(111、112)上時,各測定器測定器(51a~51d)的測定點會位於基板(71)配置區域的外部,因此當托台(311、312)沿著導軌(41)移動,使測定器(51a~51d)在水平面內朝水平面垂直方向移動時,就能夠以各測定器(51a~51d)測定基板表面任何位置。
    • 本发明提供一种能够检查基板表面任何部份的轻型检查设备。主底座板(21)的侧面设有副底座板(111、112),主底座板(21)上和副底座板(111、112)上铺设有导轨(41)。导轨(41)上搭载着托台(311、312),将安装在托台(311、312)上的测定器(51a~51d)的测定点移动在主底座板(21)上的基板(71)表面进行测定。当托台(311、312)位于副底座板(111、112)上时,各测定器测定器(51a~51d)的测定点会位于基板(71)配置区域的外部,因此当托台(311、312)沿着导轨(41)移动,使测定器(51a~51d)在水平面内朝水平面垂直方向移动时,就能够以各测定器(51a~51d)测定基板表面任何位置。