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2. 发明专利

TW201601593A 成膜裝置及成膜方法审中-公开
简体标题：成膜设备及成膜方法
公开(公告)号：TW201601593A
公开(公告)日：2016-01-01
申请号：TW104108459
申请日：2015-03-17
申请人：愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人：中尾裕利 , NAKAO, HIROTOSHI , 佐藤誠一 , SATOU, SEIICHI , 柴智志 , SHIBA, SATOSHI , 坂內雄也 , BANNNAI, YUUYA , 木村孔 , KIMURA, TORU
IPC分类号： H05B33/10
CPC分类号： C23C14/24 , C23C14/042 , C23C14/562
摘要：本發明提供一種成膜裝置，係邊讓薄片狀的基材以既定速度行走，邊隔著遮罩供給成膜材料而在基材的一面以既定的圖案連續成膜時，能將薄片狀的基材部分和薄片狀的轉印基板部分高精度地對準，且能減少裝置成本及運轉成本。將從成膜手段(9)朝向薄片狀的基材(Sw)之方向設為上方，遮罩材行走手段(4)具有平行行走區域形成部(42a、42b)和驅動部(42d、DM2)，且平行行走區域形成部和驅動部設置在單一之架台(41)，該平行行走區域形成部(42a、42b)係使薄片狀的遮罩材(Sm)的部分(Sm1)相對於朝一方向行走的薄片狀的基材部分(Sw1)，在上下方向保持既定間隔而平行地行走，該驅動部(42d、DM2)係使薄片狀的遮罩材與薄片狀的基材同步行走。
简体摘要：本发明提供一种成膜设备，系边让薄片状的基材以既定速度行走，边隔着遮罩供给成膜材料而在基材的一面以既定的图案连续成膜时，能将薄片状的基材部分和薄片状的转印基板部分高精度地对准，且能减少设备成本及运转成本。将从成膜手段(9)朝向薄片状的基材(Sw)之方向设为上方，遮罩材行走手段(4)具有平行行走区域形成部(42a、42b)和驱动部(42d、DM2)，且平行行走区域形成部和驱动部设置在单一之架台(41)，该平行行走区域形成部(42a、42b)系使薄片状的遮罩材(Sm)的部分(Sm1)相对于朝一方向行走的薄片状的基材部分(Sw1)，在上下方向保持既定间隔而平行地行走，该驱动部(42d、DM2)系使薄片状的遮罩材与薄片状的基材同步行走。

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