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1. 发明专利

TWI616328B 熱塑性液晶聚合物薄膜及使用其之積層體及電路基板、積層體之製造方法、以及熱塑性液晶聚合物薄膜之製造方法有权
简体标题：热塑性液晶聚合物薄膜及使用其之积层体及电路基板、积层体之制造方法、以及热塑性液晶聚合物薄膜之制造方法
公开(公告)号：TWI616328B
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW101140027
申请日：2012-10-30
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：小野寺稔 , ONODERA, MINORU , 砂本辰也 , SUNAMOTO, TATSUYA , 松永修始 , MATSUNAGA, SHUJI , 今野貴文 , KONNO, TAKAFUMI
IPC分类号： B32B15/08 , B32B27/34 , B32B27/36 , B32B37/10 , H05K1/03
CPC分类号： H05K1/0313 , B32B15/08 , B32B15/09 , B32B15/20 , B32B27/20 , B32B27/286 , B32B27/32 , B32B27/322 , B32B27/34 , B32B27/36 , B32B37/06 , B32B37/10 , B32B37/182 , B32B2250/42 , B32B2305/55 , B32B2307/202 , B32B2309/02 , B32B2309/105 , B32B2457/00 , C08J5/18 , C08J2300/12 , C08J2367/03 , C09K19/3809 , H05K1/024 , H05K1/032 , H05K1/0326 , H05K3/022 , H05K3/4626 , H05K2201/0141 , H05K2203/068 , Y10T428/31678

2. 发明专利

TW201803961A 接合體之製造方法、連接方法审中-公开
简体标题：接合体之制造方法、连接方法
公开(公告)号：TW201803961A
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：TW106118521
申请日：2017-06-05
申请人：迪睿合股份有限公司 , DEXERIALS CORPORATION
发明人：橋本孝夫 , HASHIMOTO, TAKAO
IPC分类号： C09J11/06 , C09J11/08
CPC分类号： B32B37/10 , B32B37/12 , C09J5/00 , C09J201/00 , G02F1/13
摘要：本發明於在真空環境下經由貼合樹脂材將第1貼合構件與第2貼合構件貼合而製造接合體時，防止貼合位置偏移，並且抑制對第1、第2貼合構件及貼合樹脂材之過大負載。本發明具有如下步驟：於真空環境下經由貼合樹脂材6以特定貼合壓力將由第1貼合板11支持之第1貼合構件2與由第2貼合板12支持之第2貼合構件3貼合；於第1、第2貼合構件2、3由第1、第2貼合板11、12夾持之狀態下減小貼合壓力；將環境設為大氣壓；及解除對第1、第2貼合構件2、3之貼合壓力。
简体摘要：本发明于在真空环境下经由贴合树脂材将第1贴合构件与第2贴合构件贴合而制造接合体时，防止贴合位置偏移，并且抑制对第1、第2贴合构件及贴合树脂材之过大负载。本发明具有如下步骤：于真空环境下经由贴合树脂材6以特定贴合压力将由第1贴合板11支持之第1贴合构件2与由第2贴合板12支持之第2贴合构件3贴合；于第1、第2贴合构件2、3由第1、第2贴合板11、12夹持之状态下减小贴合压力；将环境设为大气压；及解除对第1、第2贴合构件2、3之贴合压力。

4. 发明专利

TWI604952B 貼合設備的製造裝置有权
简体标题：贴合设备的制造设备
公开(公告)号：TWI604952B
公开(公告)日：2017-11-11
申请号：TW105110146
申请日：2016-03-30
申请人：信越工程股份有限公司 , SHIN-ETSU ENGINEERING CO., LTD.
发明人：大谷義和 , OHTANI, YOSHIKAZU , 佐藤謙司 , SATO, KENJI , 藤田一也 , FUJITA, KAZUYA
IPC分类号： B32B37/10 , B32B38/18 , G02F1/13
CPC分类号： B32B37/10 , G02F1/13 , G09F9/00 , H01L21/683

5. 发明专利

TW201738413A 銅箔及使用方法审中-公开
简体标题：铜箔及使用方法
公开(公告)号：TW201738413A
公开(公告)日：2017-11-01
申请号：TW105144162
申请日：2016-12-30
申请人：長春石油化學股份有限公司 , CHANG CHUN PETROCHEMICAL CO., LTD.
发明人：鄭桂森 , CHENG, KUEI SEN , 曾士誠 , TSENG, SHIH CHENG , 卓倉進 , JUO, TSANG JIN
IPC分类号： C25D5/14 , C25D7/06 , H01C7/00 , H01C7/02 , B32B15/01
CPC分类号： B32B15/01 , B32B37/10 , B32B37/1284 , B32B37/16 , B32B2311/12 , B32B2311/22 , B32B2457/00 , C25D1/04 , C25D3/12 , C25D3/38 , C25D5/14 , C25D7/0614 , C25D7/0621 , H01C1/1406 , H01C7/008 , H01C7/027 , H01C17/28 , H05K1/09 , H05K2201/0355 , H05K2203/0307
摘要：本發明係關於一種鍍鎳銅箔。該經鍍覆之銅箔特別適用於正溫度係數(PTC)元件，且該經鍍覆之銅箔具有自50到200之表面硬度、大於45公斤/平方毫米(kg/mm2)之拉伸強度及不超過2.0微米(μm)之光澤面表面粗糙度(Rz)。該銅箔的粗糙面的表面粗糙度(Rz)係介於6至10微米範圍內，銅粗化粒子(nodules)則係存在於介於銅箔和鎳鍍覆層之間的銅箔粗糙面上。本發明亦揭露製造銅箔及PTC元件的方法。
简体摘要：本发明系关于一种镀镍铜箔。该经镀覆之铜箔特别适用于正温度系数(PTC)组件，且该经镀覆之铜箔具有自50到200之表面硬度、大于45公斤/平方毫米(kg/mm2)之拉伸强度及不超过2.0微米(μm)之光泽面表面粗糙度(Rz)。该铜箔的粗糙面的表面粗糙度(Rz)系介于6至10微米范围内，铜粗化粒子(nodules)则系存在于介于铜箔和镍镀覆层之间的铜箔粗糙面上。本发明亦揭露制造铜箔及PTC组件的方法。

6. 发明专利

TW201727290A 附樹脂膜之光學構件的製造方法审中-公开
简体标题：附树脂膜之光学构件的制造方法
公开(公告)号：TW201727290A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW105141812
申请日：2016-12-16
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：中川弘也 , NAKAGAWA, HIROYA
IPC分类号： G02B5/30 , G02B1/14 , B32B27/30
CPC分类号： B32B7/02 , B32B37/10 , C09J7/20 , C09J201/00 , G02B5/30
摘要：本發明之課題係提供一種附樹脂膜之光學構件的製造方法，該附樹脂膜之光學構件係透過黏著劑層而在光學構件貼合樹脂膜所成者，並且其中的黏著劑層與光學構件的密接性良好。本發明解決上述課題之手段為一種附樹脂膜之光學構件的製造方法，係包含下述步驟：塗佈步驟，係在長條狀的樹脂膜上塗佈黏著劑組成物而形成塗佈層；乾燥步驟，係藉由將塗佈步驟後之膜一邊連續運送一邊導入乾燥手段使塗佈層乾燥，而得到具有黏著劑層之樹脂膜；平滑化處理步驟，係將具有黏著劑層之樹脂膜一邊連續運送，一邊在該黏著劑層的外表面按壓鏡面模具；以及貼合步驟，係將平滑化處理步驟後之膜一邊繼續連續運送，一邊在該黏著劑層的外表面積層長條的光學構件，並且從上下按壓此積層體。
简体摘要：本发明之课题系提供一种附树脂膜之光学构件的制造方法，该附树脂膜之光学构件系透过黏着剂层而在光学构件贴合树脂膜所成者，并且其中的黏着剂层与光学构件的密接性良好。本发明解决上述课题之手段为一种附树脂膜之光学构件的制造方法，系包含下述步骤：涂布步骤，系在长条状的树脂膜上涂布黏着剂组成物而形成涂布层；干燥步骤，系借由将涂布步骤后之膜一边连续运送一边导入干燥手段使涂布层干燥，而得到具有黏着剂层之树脂膜；平滑化处理步骤，系将具有黏着剂层之树脂膜一边连续运送，一边在该黏着剂层的外表面按压镜面模具；以及贴合步骤，系将平滑化处理步骤后之膜一边继续连续运送，一边在该黏着剂层的外表面积层长条的光学构件，并且从上下按压此积层体。

7. 发明专利

TW201722740A 用以製造電子裝置之層合技術(二) 审中-公开
简体标题：用以制造电子设备之层合技术(二)
公开(公告)号：TW201722740A
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW105132557
申请日：2016-10-07
申请人：弗萊克英納寶有限公司 , FLEXENABLE LIMITED
发明人：威爾德貝瑞 , WILD, BARRY , 瑞維斯威廉 H. , REEVES, WILLIAM HENRY
IPC分类号： B32B37/10 , B32B37/12 , B32B37/18 , G02F1/133 , G02F1/1333
CPC分类号： B32B37/0015 , B32B37/10 , B32B37/1292 , B32B37/18 , B32B2037/1253 , B32B2038/0076 , B32B2305/55 , B32B2310/0831 , B32B2457/202 , G02F1/1303 , G02F1/1309 , G02F2202/28
摘要：一種製造至少一電子裝置或用於電子裝置之至少一組件的技術，該方法包含：提供用於層合在一起的第一及第二組件，該第一及該第二組件中之至少一者界定一或更多主動區；塗敷黏著劑至該第一及該第二組件中之至少一者；以及連續地在一層合方向上使該第二組件的遠端部份越來越多地層合至該第一組件；其中塗敷於該第一及/或該第二組件之該黏著劑的至少一部份，沿著該層合方向在所有一或更多主動區下游之一區中界定出由黏著劑之數對線段所組成的一陣列，每一對線段在與層合方向相反的一方向上收歛到一各別會合點；其中由數對線段組成之該陣列實質橫跨該一或更多主動區之橫向全寬而連續延伸，而在該陣列的每對線段之間沒有任何空間或橫向線段。
简体摘要：一种制造至少一电子设备或用于电子设备之至少一组件的技术，该方法包含：提供用于层合在一起的第一及第二组件，该第一及该第二组件中之至少一者界定一或更多主动区；涂敷黏着剂至该第一及该第二组件中之至少一者；以及连续地在一层合方向上使该第二组件的远程部份越来越多地层合至该第一组件；其中涂敷于该第一及/或该第二组件之该黏着剂的至少一部份，沿着该层合方向在所有一或更多主动区下游之一区中界定出由黏着剂之数对线段所组成的一数组，每一对线段在与层合方向相反的一方向上收敛到一各别会合点；其中由数对线段组成之该数组实质横跨该一或更多主动区之横向全宽而连续延伸，而在该数组的每对线段之间没有任何空间或横向线段。

8. 发明专利

TWI588204B 一種環氧樹脂組合物以及使用其之預浸料及層壓板有权
简体标题：一种环氧树脂组合物以及使用其之预浸料及层压板
公开(公告)号：TWI588204B
公开(公告)日：2017-06-21
申请号：TW105111251
申请日：2016-04-11
申请人：廣東生益科技股份有限公司 , SHENGYI TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：徐浩晟 , 曾憲平 , 何烈相
IPC分类号： C08L63/00 , C08G59/26 , C08G59/42 , C08J5/24 , B32B27/38 , H05K1/03
CPC分类号： C08G59/26 , B32B17/04 , B32B37/10 , B32B38/08 , C08G59/4223 , C08G59/686 , C08J5/24 , C08J2363/00 , C08J2363/02 , C08J2479/04 , C08K3/36 , C08K5/0066 , C08K7/18 , C08K2201/005 , C08L63/00 , C08L79/04 , C08L2201/02 , C08L2203/20 , H05K1/0306 , H05K1/0373

9. 发明专利

TW201711253A 彎曲電極組件的製造方法审中-公开
简体标题：弯曲电极组件的制造方法
公开(公告)号：TW201711253A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：TW105119714
申请日：2016-06-23
申请人： LG化學股份有限公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：崔舜炯 , CHOI, SOON-HYUNG , 崔正錫 , CHOI, JUNG-SEOK
IPC分类号： H01M4/139 , H01M4/36
CPC分类号： H01M4/0435 , B32B37/0053 , B32B37/06 , B32B37/10 , B32B2457/10 , H01M4/04 , H01M4/0471 , H01M10/04 , H01M10/0585
摘要：本發明係關於一種用於製造供電化學裝置用之電極組件的方法。更特定言之，本發明係關於一種用於製造具有曲率半徑均一之彎曲段的彎曲電極組件的方法。根據本發明，因為彎曲電極組件是藉由堆疊多個具有均一曲率半徑R之彎曲單位電池製造的，所以相比於藉由使扁平電極組件彎曲製造之電極組件，初始形狀之恢復率低且形狀穩定性高。此外，因為電極組件中所含單位電池藉由輥式層壓製程在均一條件下製造以具有彎曲段且其具有相同曲率半徑R或曲率半徑R之差異小，所以有可能易於在單位電池不過度變形的情況下製造出具有所要曲率半徑R之電極組件。
简体摘要：本发明系关于一种用于制造供电化学设备用之电极组件的方法。更特定言之，本发明系关于一种用于制造具有曲率半径均一之弯曲段的弯曲电极组件的方法。根据本发明，因为弯曲电极组件是借由堆栈多个具有均一曲率半径R之弯曲单位电池制造的，所以相比于借由使扁平电极组件弯曲制造之电极组件，初始形状之恢复率低且形状稳定性高。此外，因为电极组件中所含单位电池借由辊式层压制程在均一条件下制造以具有弯曲段且其具有相同曲率半径R或曲率半径R之差异小，所以有可能易于在单位电池不过度变形的情况下制造出具有所要曲率半径R之电极组件。

10. 发明专利

TWI572339B 吸收性物品及其製造方法有权
简体标题：吸收性物品及其制造方法
公开(公告)号：TWI572339B
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW101150548
申请日：2012-12-27
申请人：優你嬌美股份有限公司 , UNI-CHARM CORPORATION
发明人：野田祐樹 , NODA, YUUKI , 田村竜也 , TAMURA, TATSUYA , 橋野央 , HASHINO, AKIRA
IPC分类号： A61F13/472 , A61F13/536 , A61L15/20 , A61L15/48
CPC分类号： A61F13/47218 , A61F13/15699 , A61F13/4756 , A61L15/20 , A61L15/34 , A61L15/44 , B32B37/02 , B32B37/10 , B32B37/16 , B32B2307/70 , B32B2307/726 , B32B2535/00 , Y10T156/10

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