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1. 发明专利

TWI647540B 光學組件有权
简体标题：光学组件
公开(公告)号：TWI647540B
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：TW103124502
申请日：2014-07-17
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：包爾斯華特 , PAULS, WALTER , 瓦格納漢立克 , WAGNER, HENDRIK , 艾爾斯弗洛瑞恩 , AHLES, FLORIAN , 沃德克里斯汀 , WALD, CHRISTIAN , 費茲榭史蒂芬 , FRITZSCHE, STEFFEN , 瓦伯拉諾伯特 , WABRA, NORBERT , 畢特納鮑瑞斯 , BITTNER, BORIS , 舒納德桑賈 , SCHNEIDER, SONJA , 舒納德瑞卡達 , SCHNEIDER, RICARDA
IPC分类号： G03F7/20

2. 发明专利

TWI666523B 光學元件及其光學配置有权
简体标题：光学组件及其光学配置
公开(公告)号：TWI666523B
公开(公告)日：2019-07-21
申请号：TW104106971
申请日：2015-03-05
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：保羅漢斯喬成 , PAUL, HANS-JOCHEN , 畢特納鮑瑞斯 , BITTNER, BORIS , 瓦伯拉諾伯特 , WABRA, NORBERT , 斯奇凱坦茲湯瑪士 , SCHICKETANZ, THOMAS
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/08 , G02B1/113 , G21K1/06

3. 发明专利

TW202004367A 投影透鏡、投影曝光裝置、與ＥＵＶ微影的投影曝光方法审中-公开
简体标题：投影透镜、投影曝光设备、与ＥＵＶ微影的投影曝光方法
公开(公告)号：TW202004367A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108134443
申请日：2015-09-14
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：安德烈史蒂芬 , ANDRE, STEPHAN , 戈登丹尼爾 , GOLDE, DANIEL , 葛納托拉夫 , GRUNER, TORALF , 勞夫喬哈尼斯 , ROUFF, JOHANNES , 瓦伯拉諾伯特 , WABRA, NORBERT , 舒納德瑞卡達 , SCHNEIDER, RICARDA , 舒納德桑賈 , SCHNEIDER, SONJA
IPC分类号： G03F7/20
摘要：一種藉助具有來自極紫外光範圍(EUV)之操作波長λ的電磁輻射，將設置於投影透鏡之物件平面(OS)上的圖案成像至投影透鏡之影像平面(IS)上的投影透鏡(PO)，包含大量反射鏡(M1-M6)，其具有以設置於該物件平面上的光罩(M)之圖案可藉助該等反射鏡成像至該影像平面上的方式，設置於介於該物件平面與該影像平面之間的投影射束路徑中的反射鏡表面。在延伸平行於掃描方向的第一方向(y方向)上的第一成像比例，就絕對值而論小於在垂直於該第一方向的第二方向(x方向)上的第二成像比例。提供(provision)係由一種用於校正由倍縮光罩位移所造成像散波前像差部分的動態波前操縱系統所構成。
简体摘要：一种借助具有来自极紫外光范围(EUV)之操作波长λ的电磁辐射，将设置于投影透镜之对象平面(OS)上的图案成像至投影透镜之影像平面(IS)上的投影透镜(PO)，包含大量反射镜(M1-M6)，其具有以设置于该对象平面上的光罩(M)之图案可借助该等反射镜成像至该影像平面上的方式，设置于介于该对象平面与该影像平面之间的投影射束路径中的反射镜表面。在延伸平行于扫描方向的第一方向(y方向)上的第一成像比例，就绝对值而论小于在垂直于该第一方向的第二方向(x方向)上的第二成像比例。提供(provision)系由一种用于校正由倍缩光罩位移所造成像散波前像差部分的动态波前操纵系统所构成。

4. 发明专利

TWI681258B 投影透鏡、投影曝光裝置、與ＥＵＶ微影的投影曝光方法有权
简体标题：投影透镜、投影曝光设备、与ＥＵＶ微影的投影曝光方法
公开(公告)号：TWI681258B
公开(公告)日：2020-01-01
申请号：TW104130274
申请日：2015-09-14
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：安德烈史蒂芬 , 戈登丹尼爾 , GOLDE, DANIEL , 葛納托拉夫 , GRUNER, TORALF , 勞夫喬哈尼斯 , ROUFF, JOHANNES , 瓦伯拉諾伯特 , WABRA, NORBERT , 舒納德瑞卡達 , SCHNEIDER, RICARDA , 舒納德桑賈 , SCHNEIDER, SONJA
IPC分类号： G03F7/20

5. 发明专利

TW201921161A 投影曝光方法及用於微影之投影曝光裝置审中-公开
简体标题：投影曝光方法及用于微影之投影曝光设备
公开(公告)号：TW201921161A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107143462
申请日：2014-10-01
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：畢特納鮑瑞斯 , BITTNER, BORIS , 瓦伯拉諾伯特 , WABRA, NORBERT , 哈登伯格馬丁凡 , HODENBERG, MARTIN VON , 舒納德桑賈 , SCHNEIDER, SONJA
IPC分类号： G03F7/20
摘要：本發明提供一種用佈局圖樣中至少一個圖像曝光輻射敏感基板(W)的投影曝光方法，包含下列步驟：以該佈局圖樣設置於該投影透鏡之物平面(OS)區域內並可藉由該投影透鏡成像至該投影透鏡之像平面(IS)中的方式，在照明系統(ILL)與投影曝光裝置(WSC)之投影透鏡(PO)之間提供該佈局圖樣，前述像平面相對於該物平面光學共軛，其中該佈局圖樣之成像相關特性可由佈局圖樣數據表示特徵；用根據特定於採用案例並可由照明設定數據表示特徵的照明設定的該照明系統(ILL)所提供的照明輻射照射該佈局圖樣之照明區域；其特徵在於：決定特定於該採用案例並包含佈局圖樣數據及/或照明設定數據的採用案例數據；使用該採用案例數據決定成像規格數據；為對該採用案例調適該投影透鏡之成像表現之目的，以依該成像規格數據而定的方式藉由該投影透鏡之控制單元(CU)控制該投影透鏡(PO)之可控制光學元件；借助於對該採用案例調適的投影透鏡將該佈局圖樣成像至該基板上。
简体摘要：本发明提供一种用布局图样中至少一个图像曝光辐射敏感基板(W)的投影曝光方法，包含下列步骤：以该布局图样设置于该投影透镜之物平面(OS)区域内并可借由该投影透镜成像至该投影透镜之像平面(IS)中的方式，在照明系统(ILL)与投影曝光设备(WSC)之投影透镜(PO)之间提供该布局图样，前述像平面相对于该物平面光学共轭，其中该布局图样之成像相关特性可由布局图样数据表示特征；用根据特定于采用案例并可由照明设置数据表示特征的照明设置的该照明系统(ILL)所提供的照明辐射照射该布局图样之照明区域；其特征在于：决定特定于该采用案例并包含布局图样数据及/或照明设置数据的采用案例数据；使用该采用案例数据决定成像规格数据；为对该采用案例调适该投影透镜之成像表现之目的，以依该成像规格数据而定的方式借由该投影透镜之控制单元(CU)控制该投影透镜(PO)之可控制光学组件；借助于对该采用案例调适的投影透镜将该布局图样成像至该基板上。

7. 发明专利

TW201523165A 投影曝光方法及用於微影之投影曝光裝置审中-公开
简体标题：投影曝光方法及用于微影之投影曝光设备
公开(公告)号：TW201523165A
公开(公告)日：2015-06-16
申请号：TW103134168
申请日：2014-10-01
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：畢特納鮑瑞斯 , BITTNER, BORIS , 瓦伯拉諾伯特 , WABRA, NORBERT , 哈登伯格馬丁凡 , HODENBERG, MARTIN VON , 舒納德桑賈 , SCHNEIDER, SONJA
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70083 , G03F7/70258 , G03F7/70525 , G03F7/706 , G03F7/70891
摘要：本發明提供一種用佈局圖樣中至少一個圖像曝光輻射敏感基板(W)的投影曝光方法，包含下列步驟：以該佈局圖樣設置於該投影透鏡之物平面(OS)區域內並可藉由該投影透鏡成像至該投影透鏡之像平面(IS)中的方式，在照明系統(ILL)與投影曝光裝置(WSC)之投影透鏡(PO)之間提供該佈局圖樣，前述像平面相對於該物平面光學共軛，其中該佈局圖樣之成像相關特性可由佈局圖樣數據表示特徵；用根據特定於採用案例並可由照明設定數據表示特徵的照明設定的該照明系統(ILL)所提供的照明輻射照射該佈局圖樣之照明區域；其特徵在於：決定特定於該採用案例並包含佈局圖樣數據及/或照明設定數據的採用案例數據；使用該採用案例數據決定成像規格數據；為對該採用案例調適該投影透鏡之成像表現之目的，以依該成像規格數據而定的方式藉由該投影透鏡之控制單元(CU)控制該投影透鏡(PO)之可控制光學元件；借助於對該採用案例調適的投影透鏡將該佈局圖樣成像至該基板上。
简体摘要：本发明提供一种用布局图样中至少一个图像曝光辐射敏感基板(W)的投影曝光方法，包含下列步骤：以该布局图样设置于该投影透镜之物平面(OS)区域内并可借由该投影透镜成像至该投影透镜之像平面(IS)中的方式，在照明系统(ILL)与投影曝光设备(WSC)之投影透镜(PO)之间提供该布局图样，前述像平面相对于该物平面光学共轭，其中该布局图样之成像相关特性可由布局图样数据表示特征；用根据特定于采用案例并可由照明设置数据表示特征的照明设置的该照明系统(ILL)所提供的照明辐射照射该布局图样之照明区域；其特征在于：决定特定于该采用案例并包含布局图样数据及/或照明设置数据的采用案例数据；使用该采用案例数据决定成像规格数据；为对该采用案例调适该投影透镜之成像表现之目的，以依该成像规格数据而定的方式借由该投影透镜之控制单元(CU)控制该投影透镜(PO)之可控制光学组件；借助于对该采用案例调适的投影透镜将该布局图样成像至该基板上。

8. 发明专利

TW201504769A 具有高彈性操作器的投影曝光裝置审中-公开
简体标题：具有高弹性操作器的投影曝光设备
公开(公告)号：TW201504769A
公开(公告)日：2015-02-01
申请号：TW103108991
申请日：2014-03-13
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：渥夫亞歷安卓 , WOLF, ALEXANDER , 葛納托拉夫 , GRUNER, TORALF , 畢特納鮑瑞斯 , BITTNER, BORIS , 瓦伯拉諾伯特 , WABRA, NORBERT
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/706 , G03F7/70266 , G03F7/70308 , G03F7/70891
摘要：本發明關於一種用於半導體微影的投影曝光裝置(1)，包括至少一操作器(10)，其用於減少影像像差，其中該操作器(10)具有可彼此相對定位的至少兩光學元件(101,102)，其中該等光學元件(101,102)之至少一者在其通過其間的光學波前的效應方面是空間相依性，使得在該光學系統中傳遞的波前之局部相位變化在該等光學元件(101,102)相對於彼此之一相對移動的情況下產生。在此，該至少一光學元件(101,102)之空間相依性效應能以可逆動態方式設定。
简体摘要：本发明关于一种用于半导体微影的投影曝光设备(1)，包括至少一操作器(10)，其用于减少影像像差，其中该操作器(10)具有可彼此相对定位的至少两光学组件(101,102)，其中该等光学组件(101,102)之至少一者在其通过其间的光学波前的效应方面是空间相依性，使得在该光学系统中传递的波前之局部相位变化在该等光学组件(101,102)相对于彼此之一相对移动的情况下产生。在此，该至少一光学组件(101,102)之空间相依性效应能以可逆动态方式设置。

9. 发明专利

TWI610141B 微影投射曝光裝置及改變此類裝置之反射透鏡中光波前的方法有权
简体标题：微影投射曝光设备及改变此类设备之反射透镜中光波前的方法
公开(公告)号：TWI610141B
公开(公告)日：2018-01-01
申请号：TW102124555
申请日：2013-07-09
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：畢特納鮑瑞斯 , BITTNER, BORIS , 瓦伯拉諾伯特 , WABRA, NORBERT , 哈登伯格馬丁凡 , HODENBERG, MARTIN VON , 舒納德瑞卡達 , SCHNEIDER, RICARDA , 舒納德桑賈 , SCHNEIDER, SONJA
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/70233 , B82Y10/00 , G02B5/0816 , G02B26/06 , G03F7/70591 , G03F7/706 , G03F7/70958 , G21K1/062

10. 发明专利

TW201516577A 光學組件审中-公开
简体标题：光学组件
公开(公告)号：TW201516577A
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW103124502
申请日：2014-07-17
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：包爾斯華特 , PAULS, WALTER , 瓦格納漢立克 , WAGNER, HENDRIK , 艾爾斯弗洛瑞恩 , AHLES, FLORIAN , 沃德克里斯汀 , WALD, CHRISTIAN , 費茲榭史蒂芬 , FRITZSCHE, STEFFEN , 瓦伯拉諾伯特 , WABRA, NORBERT , 畢特納鮑瑞斯 , BITTNER, BORIS , 舒納德桑賈 , SCHNEIDER, SONJA , 舒納德瑞卡達 , SCHNEIDER, RICARDA
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70058 , G03F7/70258 , G03F7/7085
摘要：本發明揭示一種光學組件(100)，尤其是用於成像微影微結構或奈米結構之微影系統，其包含：至少兩個光學元件(101、103)，其連續配置在該光學組件(100)之一光束路徑中；一獲取裝置(110)，其經設計以自至少兩個光學元件(101、103)處之標記元件(414、424、720、721、722、723)獲取輻射信號(131)，該等標記元件(414、424)裝配在該至少兩個光學元件(101、103)的光學作用區(102、104)外，其中該獲取裝置(110)配置在該至少兩個光學元件(101、103)的一第一光學元件(101)及一最後光學元件(103)之間的一光束路徑(132)外，其中該等輻射信號(131)含有關於該至少兩個光學元件(101、103)之一光學作用表面(102、104)的一或複數個性質的資訊；及一控制裝置(120)，其耦合至該獲取裝置(110)，且其經設計以依據源自該等標記元件之該等輻射信號(131)中含有的資訊，決定該至少兩個光學元件(101、103)之該光學作用表面(102、104)的該複數個性質。本發明另外揭示一種用於操作光學組件(100)的方法。
简体摘要：本发明揭示一种光学组件(100)，尤其是用于成像微影微结构或奈米结构之微影系统，其包含：至少两个光学组件(101、103)，其连续配置在该光学组件(100)之一光束路径中；一获取设备(110)，其经设计以自至少两个光学组件(101、103)处之标记组件(414、424、720、721、722、723)获取辐射信号(131)，该等标记组件(414、424)装配在该至少两个光学组件(101、103)的光学作用区(102、104)外，其中该获取设备(110)配置在该至少两个光学组件(101、103)的一第一光学组件(101)及一最后光学组件(103)之间的一光束路径(132)外，其中该等辐射信号(131)含有关于该至少两个光学组件(101、103)之一光学作用表面(102、104)的一或复数个性质的信息；及一控制设备(120)，其耦合至该获取设备(110)，且其经设计以依据源自该等标记组件之该等辐射信号(131)中含有的信息，决定该至少两个光学组件(101、103)之该光学作用表面(102、104)的该复数个性质。本发明另外揭示一种用于操作光学组件(100)的方法。

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