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    • 1. 发明专利
    • 晶粒之光電特性及外觀檢測系統
    • 晶粒之光电特性及外观检测系统
    • TW202011035A
    • 2020-03-16
    • TW107131042
    • 2018-09-04
    • 駿曦股份有限公司大陸商河北聖源光電股份有限公司
    • 徐榮祥楊勇峰薛永亮
    • G01R31/01G01R31/26H01S5/00
    • 本發明提供一種晶粒之光電特性及外觀檢測系統,包含有第一外觀檢測裝置進行晶粒正面檢測,移動裝置提取晶粒進行移動,第二外觀檢測裝置進行晶粒背面檢測,第一電性檢測裝置設置在滑軌裝置,以進行晶粒的第一電性檢測,第二電性檢測裝置進行晶粒的第二電性檢測,第三外觀檢測裝置設在滑軌裝置,以使第二電性檢測裝置位在第一、第三外觀檢測裝置間,第三外觀檢測裝置進行晶粒的側面檢測,檢測後將晶粒移至分類。本發明結合光學檢測及電性檢測,藉此一併檢測晶粒的光電特性及外觀,以增加檢測的速度。
    • 本发明提供一种晶粒之光电特性及外观检测系统,包含有第一外观检测设备进行晶粒正面检测,移动设备提取晶粒进行移动,第二外观检测设备进行晶粒背面检测,第一电性检测设备设置在滑轨设备,以进行晶粒的第一电性检测,第二电性检测设备进行晶粒的第二电性检测,第三外观检测设备设在滑轨设备,以使第二电性检测设备位在第一、第三外观检测设备间,第三外观检测设备进行晶粒的侧面检测,检测后将晶粒移至分类。本发明结合光学检测及电性检测,借此一并检测晶粒的光电特性及外观,以增加检测的速度。
    • 6. 发明专利
    • 週期性奈米孔洞狀結構陣列之製造方法及其用途
    • 周期性奈米孔洞状结构数组之制造方法及其用途
    • TW201345832A
    • 2013-11-16
    • TW101117045
    • 2012-05-14
    • 國立台灣大學NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
    • 傅柏翰FU, PO HAN林冠中LIN, GUAN JHONG賴昆佑LAI, KUN YU何志浩HE, JR HAU
    • B82Y20/00B82B3/00H01L33/00H01S5/00
    • 本發明提供一種週期性奈米孔洞狀結構陣列之製造方法,包括:於一基材上形成一氧化物薄膜;將該氧化物薄膜進行一親水性處理;於該氧化物薄膜上形成一奈米球陣列;在第一蝕刻條件中,對該奈米球陣列進行第一蝕刻;以及在第二蝕刻條件中,以該奈米球陣列作為光罩,對該氧化物薄膜進行第二蝕刻,其中第一蝕刻條件與第二蝕刻條件之蝕刻參數已最佳化,俾使製程簡化且成本低廉。本發明亦提供一種抗反射層,藉由以前述之方法所製造之週期性奈米孔洞狀結構陣列,來更有效抑制各種波長範圍中的表面反射,應用於光電元件上可增加其效能。
    • 本发明提供一种周期性奈米孔洞状结构数组之制造方法,包括:于一基材上形成一氧化物薄膜;将该氧化物薄膜进行一亲水性处理;于该氧化物薄膜上形成一奈米球数组;在第一蚀刻条件中,对该奈米球数组进行第一蚀刻;以及在第二蚀刻条件中,以该奈米球数组作为光罩,对该氧化物薄膜进行第二蚀刻,其中第一蚀刻条件与第二蚀刻条件之蚀刻参数已最优化,俾使制程简化且成本低廉。本发明亦提供一种抗反射层,借由以前述之方法所制造之周期性奈米孔洞状结构数组,来更有效抑制各种波长范围中的表面反射,应用于光电组件上可增加其性能。