专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI694310B 陶瓷元件之間力合連接的連接配置及力合連接的方法有权
简体标题：陶瓷组件之间力合连接的连接配置及力合连接的方法
公开(公告)号：TWI694310B
公开(公告)日：2020-05-21
申请号：TW104129837
申请日：2015-09-09
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：斯基曼斯忌卡斯滕 , SIEGMANSKI, KARSTEN , 戴福彼得 , DEUFEL, PETER , 維克托庫里茲基 , VIKTOR KULITZKI , 艾斯爾特斯特凡 , XALTER, STEFAN , 蓋爾理查伯恩哈德 , GELLRICH, BERNHARD
IPC分类号： G03F7/20

2. 发明专利

TWI692678B 用於確定對線寬波動微影光罩之結構無關貢獻的方法有权
简体标题：用于确定对线宽波动微影光罩之结构无关贡献的方法
公开(公告)号：TWI692678B
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：TW108105656
申请日：2019-02-20
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：寇奇馬庫斯 , KOCH, MARKUS , 海爾維格德克 , HELLWEG, DIRK , 坎培里倫佐 , CAPELLI, RENZO , 迪耶左馬汀 , DIETZEL, MARTIN
IPC分类号： G03F7/20 , G06F17/14

3. 发明专利

TWI688839B 用於微影裝置之定位系統有权
简体标题：用于微影设备之定位系统
公开(公告)号：TWI688839B
公开(公告)日：2020-03-21
申请号：TW108107198
申请日：2019-03-05
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V. , 德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：奇曼馬汀哈吉 , KIMMAN, MAARTEN HARTGER , 威斯琳喬漢斯 , WESSELINGH, JASPER
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20 , H02K41/03

4. 发明专利

TWI683125B 真空系統，特別是極紫外光微影系統及光學元件有权
简体标题：真空系统，特别是极紫外光微影系统及光学组件
公开(公告)号：TWI683125B
公开(公告)日：2020-01-21
申请号：TW104126367
申请日：2015-08-13
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：魯斯馬提亞 , ROOS, MATTHIAS , 弗卡尤傑 , FOCA, EUGEN
IPC分类号： G02B1/18 , G03F7/20 , G02B1/10

5. 发明专利

TW202004256A 用於將物場成像於像場的投影光學單元以及包含此投影光學單元的投影曝光裝置审中-公开
简体标题：用于将物场成像于像场的投影光学单元以及包含此投影光学单元的投影曝光设备
公开(公告)号：TW202004256A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108130203
申请日：2014-07-28
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：斯克瓦伯馬可斯 , SCHWAB, MARKUS
IPC分类号： G02B17/06 , G03F7/20 , G21K5/00
摘要：本發明揭示一種投影光學單元(7)，其適用於將物場(4)成像於像場(8)中。複數個反射鏡(M1至M8)適用於將來自物場(4)的成像光(3)引導至像場(8)。反射鏡(M1至M8)之至少兩者經體現為用於成像光(3)之入射角大於60°之掠入射的反射鏡(M2、M3；M5、M6)，其在成像光(3)的光束路徑中直接配置在彼此之後。這造成可成像場充分修正的成像光學單元，同時造成較高的成像光通量。
简体摘要：本发明揭示一种投影光学单元(7)，其适用于将物场(4)成像于像场(8)中。复数个反射镜(M1至M8)适用于将来自物场(4)的成像光(3)引导至像场(8)。反射镜(M1至M8)之至少两者经体现为用于成像光(3)之入射角大于60°之掠入射的反射镜(M2、M3；M5、M6)，其在成像光(3)的光束路径中直接配置在彼此之后。这造成可成像场充分修正的成像光学单元，同时造成较高的成像光通量。

6. 发明专利

TWI680355B 用於投影曝光裝置的照明光學總成有权
简体标题：用于投影曝光设备的照明光学总成
公开(公告)号：TWI680355B
公开(公告)日：2019-12-21
申请号：TW104128172
申请日：2015-08-27
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：安德烈斯馬丁 , ENDRES, MARTIN , 貝林史汀 , BIELING, STIG
IPC分类号： G03F7/20

7. 发明专利

TWI675252B 用於特徵化微影光罩的方法與裝置有权
简体标题：用于特征化微影光罩的方法与设备
公开(公告)号：TWI675252B
公开(公告)日：2019-10-21
申请号：TW107120049
申请日：2018-06-11
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：塞茨霍傑 , SEITZ, HOLGER , 布特格雷特尤特 , BUTTGEREIT, UTE , 泰勒湯瑪士 , THALER, THOMAS , 法蘭克湯瑪士 , FRANK, THOMAS , 馬泰卡尤瑞奇 , MATEJKA, ULRICH , 帝俊瑟馬可斯 , DEGUENTHER, MARKUS , 伯克尼羅伯持 , BIRKNER, ROBERT , 葛歐多明尼克 , GRAU, DOMINIK
IPC分类号： G03F1/82 , G03F7/20

8. 发明专利

TWI663479B 光學系統、特別是微影投影曝光設備的次組件有权
简体标题：光学系统、特别是微影投影曝光设备的次组件
公开(公告)号：TWI663479B
公开(公告)日：2019-06-21
申请号：TW104105435
申请日：2015-02-16
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：舒威特能堤曼 , SCHWERTNER, TILMAN , 費格里多史黛西 , FIGUEREDO, STACY
IPC分类号： G03F7/20

9. 发明专利

TW201921134A 光學裝置及操作光學裝置的方法审中-公开
简体标题：光学设备及操作光学设备的方法
公开(公告)号：TW201921134A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107127153
申请日：2018-08-03
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：貝克莫里茲 , BECKER, MORITZ , 舒密特史帝夫渥夫岡 , SCHMIDT, STEFAN-WOLFGANG
IPC分类号： G03F7/20
摘要：一種用以操作一光學裝置(100A,100B,200)的方法，其包含配置於裝置(100A,100B,200)的一殘餘氣體氣氛(RGA)中且至少部分地由一元件材料形成，該元件材料由存在於殘餘氣體氣氛(RGA)中的一電漿成分(PK)進行一化學還原程序及/或一蝕刻程序，，將執行以下步驟：根據偵測到的抑制程度(UM)，提供至少部分地抑制還原程序的一氣體成分(GK)，用以藉由在殘餘氣體氣氛(RGA)中的抑制氣體成分(GK)來抑制還原程序及/或蝕刻程序；以及在配置於殘餘氣體氣氛(RGA)中的一感測器單元(208)的協助下偵測(S1)抑制程度(UM)，該感測器單元包含由一感測器材料組成的一感測器材料部分(211)，其中感測器材料部份(211)具有在抑制氣體成分(GK)的影響下可量測的一感測器部分特性。
简体摘要：一种用以操作一光学设备(100A,100B,200)的方法，其包含配置于设备(100A,100B,200)的一残余气体气氛(RGA)中且至少部分地由一组件材料形成，该组件材料由存在于残余气体气氛(RGA)中的一等离子成分(PK)进行一化学还原进程及/或一蚀刻进程，，将运行以下步骤：根据侦测到的抑制程度(UM)，提供至少部分地抑制还原进程的一气体成分(GK)，用以借由在残余气体气氛(RGA)中的抑制气体成分(GK)来抑制还原进程及/或蚀刻进程；以及在配置于残余气体气氛(RGA)中的一传感器单元(208)的协助下侦测(S1)抑制程度(UM)，该传感器单元包含由一传感器材料组成的一传感器材料部分(211)，其中传感器材料部份(211)具有在抑制气体成分(GK)的影响下可量测的一传感器部分特性。

10. 发明专利

TWI647540B 光學組件有权
简体标题：光学组件
公开(公告)号：TWI647540B
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：TW103124502
申请日：2014-07-17
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：包爾斯華特 , PAULS, WALTER , 瓦格納漢立克 , WAGNER, HENDRIK , 艾爾斯弗洛瑞恩 , AHLES, FLORIAN , 沃德克里斯汀 , WALD, CHRISTIAN , 費茲榭史蒂芬 , FRITZSCHE, STEFFEN , 瓦伯拉諾伯特 , WABRA, NORBERT , 畢特納鮑瑞斯 , BITTNER, BORIS , 舒納德桑賈 , SCHNEIDER, SONJA , 舒納德瑞卡達 , SCHNEIDER, RICARDA
IPC分类号： G03F7/20

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式