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1. 发明专利

TW200936714A 表面改質劑及具有含彼之塗膜的物件审中-公开
简体标题：表面改质剂及具有含彼之涂膜的对象
公开(公告)号：TW200936714A
公开(公告)日：2009-09-01
申请号：TW097149177
申请日：2008-12-17
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：上野勝也 UENO, KATSUYA , 山田和彥 YAMADA, KAZUHIKO , 川口泰秀 KAWAGUCHI, YASUHIDE
IPC分类号： C09D , C09K , B29C
CPC分类号： B29C33/62 , B29K2027/12 , C08G65/007 , C09D5/1625
摘要：本發明為提供一種物品,其可充分改質基材之表面,可形成對基材之表面接著性為良好之塗膜之表面改質劑,及表面可充分被改質,可長期保持該狀態之物品。含有以下式(1)所表示化合物之表面改質劑,及使用了該表面改質劑其表面被改質後之物品。
097149177P01.bmp
式中、R為Rf-X-、左右之R係為相同之基,Rf係碳數1-20之全氟烷基,X為-(OC3F6)-、-(OC2F4)-、及-(OCF2)-之單位之中之1種以上之重複,且該單位之個數之合計係為1以上之基,Y係碳數2以上之3價有機基,n之平均為2-100。
简体摘要：本发明为提供一种物品,其可充分改质基材之表面,可形成对基材之表面接着性为良好之涂膜之表面改质剂,及表面可充分被改质,可长期保持该状态之物品。含有以下式(1)所表示化合物之表面改质剂,及使用了该表面改质剂其表面被改质后之物品。 097149177P01.bmp 式中、R为Rf-X-、左右之R系为相同之基,Rf系碳数1-20之全氟烷基,X为-(OC3F6)-、-(OC2F4)-、及-(OCF2)-之单位之中之1种以上之重复,且该单位之个数之合计系为1以上之基,Y系碳数2以上之3价有机基,n之平均为2-100。

2. 发明专利

TW200932640A 板狀體收納容器审中-公开
简体标题：板状体收纳容器
公开(公告)号：TW200932640A
公开(公告)日：2009-08-01
申请号：TW097151051
申请日：2008-12-26
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：野瀨雄彥 NOSE, TAKEHIKO , 長井昭二 NAGAI, SHOJI
IPC分类号： B65D
CPC分类号： H01L21/67363 , B65D19/004 , B65D19/44 , B65D71/02 , B65D85/48 , B65D2519/00273 , B65D2519/00293 , B65D2519/00318 , B65D2519/00333 , B65D2519/00363 , B65D2519/00815 , B65D2519/0097 , B65G49/062 , H01L21/67369
摘要：本發明之板狀體收納容器係收納板狀體之平置型容器,包括:上表面為矩形之容器本體;蓋板材,其載置於容器本體上;緩衝材,其載置於蓋板材上;定位構件,其高度高於積載於緩衝材上之特定塊數之板狀體的積載高度,以大致平行於上述板狀體之側面之方式沿著構成上述容器本體上表面之端部之四邊中的一邊或者兩邊而配置;以及纏繞構件,其將容器本體、蓋板材、緩衝材、及積載於緩衝材上之板狀體纏繞而固定。
简体摘要：本发明之板状体收纳容器系收纳板状体之平置型容器,包括:上表面为矩形之容器本体;盖板材,其载置于容器本体上;缓冲材,其载置于盖板材上;定位构件,其高度高于积载于缓冲材上之特定块数之板状体的积载高度,以大致平行于上述板状体之侧面之方式沿着构成上述容器本体上表面之端部之四边中的一边或者两边而配置;以及缠绕构件,其将容器本体、盖板材、缓冲材、及积载于缓冲材上之板状体缠绕而固定。

3. 发明专利

TW200930648A 容器交換裝置及容器交換方法审中-公开
简体标题：容器交换设备及容器交换方法
公开(公告)号：TW200930648A
公开(公告)日：2009-07-16
申请号：TW097142256
申请日：2008-10-31
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：渡邊和也 WATANABE, KAZUYA , 杉田正人 SUGITA, MASATO
IPC分类号： B65G
CPC分类号： B65G49/067 , B65G49/061 , B65G49/068 , B65G49/069 , B65G2249/04
摘要：在容器交換裝置中,升降機構係使具備升降機構之行進台車之載置有容器之容器支撐部的下表面位置,上升到較另一方之行進台車之容器支撐部所載置之容器的上表面位置更高之位置;且移動機構係使第1及第2行進台車以相反方向,而且在俯視觀察時以同一路徑,且各自的容器位置在不同之高度交會之方式在將容器供給或搬出於容器交換裝置之位置、及在第1或第2行進台車之間配置有進行容器之交接之交接機構之位置之間移動,而置換第1容器與第2容器。
简体摘要：在容器交换设备中,直升电梯构系使具备直升电梯构之行进台车之载置有容器之容器支撑部的下表面位置,上升到较另一方之行进台车之容器支撑部所载置之容器的上表面位置更高之位置;且移动机构系使第1及第2行进台车以相反方向,而且在俯视观察时以同一路径,且各自的容器位置在不同之高度交会之方式在将容器供给或搬出于容器交换设备之位置、及在第1或第2行进台车之间配置有进行容器之交接之交接机构之位置之间移动,而置换第1容器与第2容器。

4. 发明专利

TW200928605A EUVL用光學元件及其表面處理方法 OPTICAL MEMBER FOR EUVL AND SURFACE TREATMENT METHOD THEREOF 失效
简体标题： EUVL用光学组件及其表面处理方法 OPTICAL MEMBER FOR EUVL AND SURFACE TREATMENT METHOD THEREOF
公开(公告)号：TW200928605A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：TW097137533
申请日：2008-09-30
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：小池章夫 KOIKE, AKIO , 岩橋康臣 IWAHASHI, YASUTOMI , 菊川信也 KIKUGAWA, SHINYA , 岡村研治 OKAMURA, KENJI
IPC分类号： G03F , G02B
CPC分类号： G03F1/24 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03C3/06 , C03C15/02 , C03C2201/11 , C03C2201/12 , C03C2201/23 , C03C2201/42 , C03C2203/54 , C03C2204/08 , G03F7/70958 , H01J2237/0812
摘要：本發明提供一種EUVL用光學元件,其係用於EUVL用反射型光罩、鏡面等,且在其光學面具有極佳平面度及表面粗糙度且其中倒角部分阻止切削。本發明亦提供一種EUVL用光學元件之光學面的表面處理方法。本發明係關於一種EUVL用光學元件之表面處理方法,其包括使用含有氟及氯中之至少一者的源氣體對EUVL用光學元件之光學面施用GCIB蝕刻,其中該光學元件係包含具有100 ppm或100 ppm以上之OH濃度、含有TiO2、且含有SiO2作為主要組份之矽石玻璃材料。
简体摘要：本发明提供一种EUVL用光学组件,其系用于EUVL用反射型光罩、镜面等,且在其光学面具有极佳平面度及表面粗糙度且其中倒角部分阻止切削。本发明亦提供一种EUVL用光学组件之光学面的表面处理方法。本发明系关于一种EUVL用光学组件之表面处理方法,其包括使用含有氟及氯中之至少一者的源气体对EUVL用光学组件之光学面施用GCIB蚀刻,其中该光学组件系包含具有100 ppm或100 ppm以上之OH浓度、含有TiO2、且含有SiO2作为主要组份之硅石玻璃材料。

5. 发明专利

TW200927682A 玻璃板之製造方法审中-公开
简体标题：玻璃板之制造方法
公开(公告)号：TW200927682A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：TW097143249
申请日：2008-11-07
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：伊賀元一 IGA, MOTOICHI , 黑岩裕 KUROIWA, YUTAKA
IPC分类号： C03B , C03C
CPC分类号： C03B29/025 , C03B29/08 , C03B32/00 , C03C23/0025 , C03C23/007 , G03F1/60 , G03F7/70791
摘要：本發明可提供一種玻璃板之製造方法,其可製造出不會因雷射光線之照射而於玻璃板之表面產生局部性之突起形狀、玻璃板之內部表現出局部性之殘留應力及雙折射性等,且不存在會導致顯示器基板用玻璃板、尤其是平板顯示器基板用玻璃板、或者光罩用玻璃板使用上產生問題的泡的玻璃板。本發明係關於一種玻璃板之製造方法,其特徵在於:將含有泡之玻璃板(或者玻璃板製造步驟中之玻璃帶)置於該玻璃黏度為10^7~10^14.5 dPa.s之溫度下,將對上述玻璃板(或者玻璃帶)之吸收率為30%以上之波長的雷射光線照射至上述玻璃板(或者玻璃帶)中的泡,而使該泡縮小乃至消失。
简体摘要：本发明可提供一种玻璃板之制造方法,其可制造出不会因激光光线之照射而于玻璃板之表面产生局部性之突起形状、玻璃板之内部表现出局部性之残留应力及双折射性等,且不存在会导致显示器基板用玻璃板、尤其是平板显示器基板用玻璃板、或者光罩用玻璃板使用上产生问题的泡的玻璃板。本发明系关于一种玻璃板之制造方法,其特征在于:将含有泡之玻璃板(或者玻璃板制造步骤中之玻璃带)置于该玻璃黏度为10^7~10^14.5 dPa.s之温度下,将对上述玻璃板(或者玻璃带)之吸收率为30%以上之波长的激光光线照射至上述玻璃板(或者玻璃带)中的泡,而使该泡缩小乃至消失。

6. 发明专利

TW200923023A 導電膜形成用油墨及印刷配線板之製造方法审中-公开
简体标题：导电膜形成用油墨及印刷配线板之制造方法
公开(公告)号：TW200923023A
公开(公告)日：2009-06-01
申请号：TW096145140
申请日：2007-11-28
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：中西啓 NAKANISHI, KEI , 平社英之 HIRAKOSO, HIDEYUKI , 阿部啓介 ABE, KEISUKE , 真田恭宏 SANADA, YASUHIRO , 小林一志 KOBAYASHI, KAZUSHI , 安齋潤子 ANZAI, JUNKO
IPC分类号： C09D , H01B , H05K
摘要：本發明提供可形成與含聚醯亞胺的電絕緣體層之間的密著性優異的導電膜之導電性形成用油墨、可用較少的步驟製造具有與含聚醯亞胺的電絕緣體層之間的密著性優異的導電膜的印刷配線板之印刷配線板之製造方法。導電膜形成用油墨,係含有:在氣壓0.1MPa的狀態下沸點為150~350℃之非水溶性有機溶劑、與分散於有機溶劑中之金屬微粒子及/或氫化金屬微粒子、與依據JIS K7237的規定之胺價為10~190mgKOH/g之胺化合物。該油墨塗佈於電絕緣體層12的表面而形成塗膜,燒成該塗膜而形成導電膜14。
简体摘要：本发明提供可形成与含聚酰亚胺的电绝缘体层之间的密着性优异的导电膜之导电性形成用油墨、可用较少的步骤制造具有与含聚酰亚胺的电绝缘体层之间的密着性优异的导电膜的印刷配线板之印刷配线板之制造方法。导电膜形成用油墨,系含有:在气压0.1MPa的状态下沸点为150~350℃之非水溶性有机溶剂、与分散于有机溶剂中之金属微粒子及/或氢化金属微粒子、与依据JIS K7237的规定之胺价为10~190mgKOH/g之胺化合物。该油墨涂布于电绝缘体层12的表面而形成涂膜,烧成该涂膜而形成导电膜14。

7. 发明专利

TW200920751A 拒水拒油劑組成物之製造方法及物品审中-公开
简体标题：拒水拒油剂组成物之制造方法及物品
公开(公告)号：TW200920751A
公开(公告)日：2009-05-16
申请号：TW097126489
申请日：2008-07-11
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：廣野高生 HIRONO, TAKAO , 杉山和典 SUGIYAMA, KAZUNORI , 大森勇一 OHMORI, YUICHI , 島田三奈子 SHIMADA, MINAKO
IPC分类号： C08F , C09K , D06M
CPC分类号： C08F220/24 , C08F14/18 , C08F214/06 , C08F214/18 , C08F220/36 , C08F220/58 , C08F2220/1891 , D06M15/263 , D06M15/277 , D06M15/3566 , D06M2200/11 , D06M2200/12 , C08F2/04
摘要：本發明係提供一種可賦予物品之表面拒水拒油性且耐久性(洗滌耐久性及豪雨耐久性)優異之拒水拒油劑組成物之製造方法,以及具有拒水拒油性且因洗滌及豪雨所致之拒水拒油性降低變化少之物品。上述拒水拒油劑組成物之製造方法,係於界面活性劑及聚合起始劑之存在下,在媒介物中使含有單體(a)之單體成分於化合物(x)之共存下進行聚合。單體(a):(Z-Y)nX所示之化合物。惟,Z為碳數1-20之聚氟烷基等;Y為2價有機基或單鍵;n為1或2、X為聚合性不飽和基。化合物(x):R^f1-(CH2)b-Q-(CH2)a-SH所示之化合物。惟,R^f1係碳數為1-30之聚氟烷基、Q係2價有機基或單鍵、a係1-20之整數、b係0-20之整數。
简体摘要：本发明系提供一种可赋予物品之表面拒水拒油性且耐久性(洗涤耐久性及豪雨耐久性)优异之拒水拒油剂组成物之制造方法,以及具有拒水拒油性且因洗涤及豪雨所致之拒水拒油性降低变化少之物品。上述拒水拒油剂组成物之制造方法,系于界面活性剂及聚合起始剂之存在下,在媒介物中使含有单体(a)之单体成分于化合物(x)之共存下进行聚合。单体(a):(Z-Y)nX所示之化合物。惟,Z为碳数1-20之聚氟烷基等;Y为2价有机基或单键;n为1或2、X为聚合性不饱和基。化合物(x):R^f1-(CH2)b-Q-(CH2)a-SH所示之化合物。惟,R^f1系碳数为1-30之聚氟烷基、Q系2价有机基或单键、a系1-20之整数、b系0-20之整数。

8. 发明专利

TW200916429A 光學元件被覆用玻璃、玻璃被覆之發光元件及玻璃被覆之發光裝置审中-公开
简体标题：光学组件被覆用玻璃、玻璃被覆之发光组件及玻璃被覆之发光设备
公开(公告)号：TW200916429A
公开(公告)日：2009-04-16
申请号：TW097120256
申请日：2008-05-30
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：松本修治 MATSUMOTO, SYUJI , 大崎康子 OSAKI, YASUKO , 中村伸宏 NAKAMURA, NOBUHIRO
IPC分类号： C03C , H01L
CPC分类号： C03C3/16 , C03C3/17 , C03C3/19 , C03C8/24 , H01L33/56 , H01L2224/16225 , H01L2924/181 , H01L2924/00012
摘要：本發明係提供與發光元件之熱膨脹率差小、可控制玻璃轉移點為低之玻璃所被覆之玻璃被覆發光元件及玻璃被覆之發光裝置。玻璃被覆發光元件係含具有主表面之半導體發光元件與被覆半導體發光元件之主表面的P2O5-ZnO-SnO系之玻璃,玻璃以氧化物為基準,以莫耳%表示,實質上由P2O5:20-45%、ZnO:20-50%、SnO:20-40%所成,玻璃轉移點在290℃以上450℃以下、且熱膨脹係數係105�10^-7/℃以下。
简体摘要：本发明系提供与发光组件之热膨胀率差小、可控制玻璃转移点为低之玻璃所被覆之玻璃被覆发光组件及玻璃被覆之发光设备。玻璃被覆发光组件系含具有主表面之半导体发光组件与被覆半导体发光组件之主表面的P2O5-ZnO-SnO系之玻璃,玻璃以氧化物为基准,以莫耳%表示,实质上由P2O5:20-45%、ZnO:20-50%、SnO:20-40%所成,玻璃转移点在290℃以上450℃以下、且热膨胀系数系105�10^-7/℃以下。

9. 发明专利

TWI308108B 載體膜及其製造方法 CARRIER FILM AND METHOD FOR ITS PRODUCTION 失效
简体标题：载体膜及其制造方法 CARRIER FILM AND METHOD FOR ITS PRODUCTION
公开(公告)号：TWI308108B
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：TW093101659
申请日：2004-01-20
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：賀屋政德 KAYA, SEITOKU , 富宿勉 FUSYUKU, TUTOMU
IPC分类号： B32B
CPC分类号： B32B27/08 , B32B27/322 , B32B27/36 , B32B2038/0028 , B32B2307/412 , B32B2307/748 , Y10S428/91 , Y10T428/24975 , Y10T428/269 , Y10T428/3154 , Y10T428/31786
摘要：一種載體膜,其為一種積層膜,具有經積層在聚酯樹脂拉伸膜的每一側面上之四氟乙烯/乙烯共聚物,其中該積層膜的濁度為根據JIS K7105測量之至多5%。
简体摘要：一种载体膜,其为一种积层膜,具有经积层在聚酯树脂拉伸膜的每一侧面上之四氟乙烯/乙烯共聚物,其中该积层膜的浊度为根据JIS K7105测量之至多5%。

10. 发明专利

TW200915004A 具有撥水性領域之圖型的處理基材,其製造方法及形成由功能性材料膜所成圖型之構件的製造方法审中-公开
简体标题：具有拨水性领域之图型的处理基材,其制造方法及形成由功能性材料膜所成图型之构件的制造方法
公开(公告)号：TW200915004A
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：TW097107115
申请日：2008-02-29
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：古川豐 FURUKAWA, YUTAKA
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/0757 , G03F7/40 , Y10T428/24802
摘要：本發明係提供表面具有高對比之撥水性區域的處理基材,其製造方法。本發明之處理基材係在基材表面具有撥水性區域之圖型的處理基材,其特徵為撥水性區域係由含有:具有與矽原子鍵結之氫原子與光硬化性基的有機聚矽氧烷(A1)或具有與矽原子鍵結之氫原子,不具有光硬化性基的有機聚矽氧烷(A2),與具有光硬化性基的化合物(B),再任意含有光硬化促進化合物(C)之硬化性組成物硬化而成的撥水性硬化膜所構成者。
简体摘要：本发明系提供表面具有高对比之拨水性区域的处理基材,其制造方法。本发明之处理基材系在基材表面具有拨水性区域之图型的处理基材,其特征为拨水性区域系由含有:具有与硅原子键结之氢原子与光硬化性基的有机聚硅氧烷(A1)或具有与硅原子键结之氢原子,不具有光硬化性基的有机聚硅氧烷(A2),与具有光硬化性基的化合物(B),再任意含有光硬化促进化合物(C)之硬化性组成物硬化而成的拨水性硬化膜所构成者。

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