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1. 发明专利

TW201406796A 含氟聚合物之製造方法审中-公开
简体标题：含氟聚合物之制造方法
公开(公告)号：TW201406796A
公开(公告)日：2014-02-16
申请号：TW102124142
申请日：2013-07-05
申请人：大金工業股份有限公司 , DAIKIN INDUSTRIES, LTD. , 日信化學工業股份有限公司 , NISSIN CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD.
发明人：原良輔 , HARA, RYOUSUKE , 川部留美 , KAWABE, RUMI , 山本育男 , YAMAMOTO, IKUO , 蒲祐二 , GAMA, YUJI , 高畑信之 , TAKAHATA, NOBUYUKI , 三田安啓 , MITTA, YASUHIRO
IPC分类号： C08F220/24 , C09K3/18 , D06M15/277
CPC分类号： D06M15/248 , C08F2/32 , C08F14/00 , C08F14/18 , C08F259/00 , C08L33/16 , C08L2201/02 , C09D133/16 , D06M13/217 , D06M13/2243 , D06M15/256 , D06M15/277 , Y10T442/2172
摘要：本發明係提供一種撥水撥油劑組成物，其賦予纖維製品等之基材優異的撥水撥油性，且於基材之加工處理中，可有效地防止聚合物對輥之附著。本發明係提供一種含氟聚合物之製法，該含氟聚合物包含由第1單體所形成之第1聚合物與由第2單體所形成之第2聚合物，該製法包含(I)聚合第1單體而得到第1聚合物之步驟，以及(II)在第1聚合物之存在下，藉由將第2單體饋入並聚合而得到第2聚合物之步驟，其中，第1單體及第2單體之至少一者包含含氟單體(a)，且該第1單體及該第2單體兩者皆包含鹵化烯烴(b)。
简体摘要：本发明系提供一种拨水拨油剂组成物，其赋予纤维制品等之基材优异的拨水拨油性，且于基材之加工处理中，可有效地防止聚合物对辊之附着。本发明系提供一种含氟聚合物之制法，该含氟聚合物包含由第1单体所形成之第1聚合物与由第2单体所形成之第2聚合物，该制法包含(I)聚合第1单体而得到第1聚合物之步骤，以及(II)在第1聚合物之存在下，借由将第2单体馈入并聚合而得到第2聚合物之步骤，其中，第1单体及第2单体之至少一者包含含氟单体(a)，且该第1单体及该第2单体两者皆包含卤化烯烃(b)。

2. 发明专利

TW201338240A 氧化還原液流二次電池及氧化還原液流二次電池用電解質膜审中-公开
简体标题：氧化还原液流二次电池及氧化还原液流二次电池用电解质膜
公开(公告)号：TW201338240A
公开(公告)日：2013-09-16
申请号：TW101150910
申请日：2012-12-28
申请人：旭化成電子材料股份有限公司 , ASAHI KASEI E-MATERIALS CORPORATION , 住友電氣工業股份有限公司 , SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD.
发明人：三宅直人 , MIYAKE, NAOTO , 森內清晃 , MORIUCHI, KIYOAKI , 久火田滿 , KUBATA, MICHIRU
IPC分类号： H01M10/38 , H01M10/056 , H01M2/16
CPC分类号： H01M8/102 , C08F14/18 , C08F214/18 , C08G65/007 , C08J5/2237 , C08J2327/12 , C08L71/12 , C08L81/02 , H01M8/02 , H01M8/1018 , H01M8/1025 , H01M8/1032 , H01M8/1039 , H01M8/18 , H01M8/188 , H01M8/20 , H01M2300/0082 , Y02E60/528
摘要：本發明是有關一種氧化還原液流二次電池用電解質膜及使用該電解質膜之氧化還原液流二次電池，含有具有下述式(1)所示結構之氟系高分子電解質聚合物的離子交換樹脂組成物，在25℃水中藉由小角X線法測定之離子簇群直徑是1.00至2.95nm，-[CF2-CX1X2]a-[CF2-CF((-O-CF2-CF(CF2X3))b-OC-(CFR1)d-(CFR2)e-(CF2)f-X4)]g- (1) (式(1)中，X1、X2及X3分別獨立表示選自鹵原子及碳數1至3的全氟烷基所成群組中1的種以上。X4表示COOZ、SO3Z、PO3Z2或是PO3HZ。Z表示氫原子、鹼金屬原子、鹼土族金屬原子、或是胺類。R1及R2分別獨立表示選自鹵原子、碳數1至10的全氟烷基及氟氯烷基所成群組中的1種以上。a及g滿足0≦a＜1，0＜g≦1，a+g=1之數。b是0至8的整數。c是0或是1。d、e及f是分別獨立，表示0至6的整數。(但是，d、e及f並不是同時為0)。)
简体摘要：本发明是有关一种氧化还原液流二次电池用电解质膜及使用该电解质膜之氧化还原液流二次电池，含有具有下述式(1)所示结构之氟系高分子电解质聚合物的离子交换树脂组成物，在25℃水中借由小角X线法测定之离子簇群直径是1.00至2.95nm，-[CF2-CX1X2]a-[CF2-CF((-O-CF2-CF(CF2X3))b-OC-(CFR1)d-(CFR2)e-(CF2)f-X4)]g- (1) (式(1)中，X1、X2及X3分别独立表示选自卤原子及碳数1至3的全氟烷基所成群组中1的种以上。X4表示COOZ、SO3Z、PO3Z2或是PO3HZ。Z表示氢原子、碱金属原子、碱土族金属原子、或是胺类。R1及R2分别独立表示选自卤原子、碳数1至10的全氟烷基及氟氯烷基所成群组中的1种以上。a及g满足0≦a＜1，0＜g≦1，a+g=1之数。b是0至8的整数。c是0或是1。d、e及f是分别独立，表示0至6的整数。(但是，d、e及f并不是同时为0)。)

3. 发明专利

TW200806698A 新穎之聚氟化二烯、其製造方法、及新穎之含氟聚合物审中-公开
简体标题：新颖之聚氟化二烯、其制造方法、及新颖之含氟聚合物
公开(公告)号：TW200806698A
公开(公告)日：2008-02-01
申请号：TW096120559
申请日：2007-06-07
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：武部洋子 TAKEBE, YOKO , 金子勇 KANEKO, ISAMU , 橫小路修 YOKOKOJI, OSAMU
IPC分类号： C08F
CPC分类号： C07C17/23 , C07C17/263 , C07C17/278 , C07C21/19 , C08F14/18 , C08F2/00
摘要：本發明為提供一種新穎之聚氟化二烯、其製造方法、及新穎之含氟聚合物。式CF2=CFCH2CHR(CH2)mCX=CH2所示化合物,含有使該化合物聚合以該化合物聚合所形成之重複單位的聚合物,及,含有下式(A)所示重複單位之聚合物(其中,R為碳數1至12之烷基或碳數1至12之氟烷基,m為0、1或2,X為氫原子或碳數1至12之烷基)。
096120559P01.bmp
简体摘要：本发明为提供一种新颖之聚氟化二烯、其制造方法、及新颖之含氟聚合物。式CF2=CFCH2CHR(CH2)mCX=CH2所示化合物,含有使该化合物聚合以该化合物聚合所形成之重复单位的聚合物,及,含有下式(A)所示重复单位之聚合物(其中,R为碳数1至12之烷基或碳数1至12之氟烷基,m为0、1或2,X为氢原子或碳数1至12之烷基)。 096120559P01.bmp

4. 发明专利

TW200619232A 硬化性組成物,微細結構物之製造方法及圖型之形成方法审中-公开
简体标题：硬化性组成物,微细结构物之制造方法及图型之形成方法
公开(公告)号：TW200619232A
公开(公告)日：2006-06-16
申请号：TW094129771
申请日：2005-08-30
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：川口泰秀 KAWAGUCHI, YASUHIDE , 淺川昭彥 ASAKAWA, AKIHIKO , 石關健二 ISHIZEKI, KENJI , 江里口武 ERIGUCHI, TAKESHI , 柏木王明 KASHIWAGI, KIMIAKI , 白川大祐 SHIRAKAWA, DAISUKE
IPC分类号： C08F , B81C , B82B
CPC分类号： C08F14/18 , C08F2/00
摘要：本發明有關硬化性組成物、微細結構物之製造方法以及圖型之形成方法。詳言之，本發明之硬化性組成物，係夾持於具有微細圖型的反轉圖型之塑模的該反轉圖型面與基材表面之間並按壓後使其硬化，以形成硬化物的微細圖型於基材表面之用的硬化性組成物，且必需具有含有氟原子之單體(A)，及含有氟原子之聚合引發劑(B)之硬化性組成物，而本發明之微細結構物之製造方法，係例如依序實施將該硬化性組成物，夾持於具有微細圖型的反轉圖型之塑模的該反轉圖型面與基材表面之間並按壓之過程，使硬化性組成物硬化以形成硬化物之過程，從該硬化物剝離塑模之過程，由表面形成有硬化性組成物的硬化物的微細圖型之基材所成微細結構物之製造方法。
简体摘要：本发明有关硬化性组成物、微细结构物之制造方法以及图型之形成方法。详言之，本发明之硬化性组成物，系夹持于具有微细图型的反转图型之塑模的该反转图型面与基材表面之间并按压后使其硬化，以形成硬化物的微细图型于基材表面之用的硬化性组成物，且必需具有含有氟原子之单体(A)，及含有氟原子之聚合引发剂(B)之硬化性组成物，而本发明之微细结构物之制造方法，系例如依序实施将该硬化性组成物，夹持于具有微细图型的反转图型之塑模的该反转图型面与基材表面之间并按压之过程，使硬化性组成物硬化以形成硬化物之过程，从该硬化物剥离塑模之过程，由表面形成有硬化性组成物的硬化物的微细图型之基材所成微细结构物之制造方法。

5. 发明专利

TW200609240A 用於光學材料之化合物及其製備方法 COMPOUND FOR OPTICAL MATERIALS AND METHODS OF FABRICATION 审中-公开
简体标题：用于光学材料之化合物及其制备方法 COMPOUND FOR OPTICAL MATERIALS AND METHODS OF FABRICATION
公开(公告)号：TW200609240A
公开(公告)日：2006-03-16
申请号：TW094109810
申请日：2005-03-29
申请人：奇異電器公司 GENERAL ELECTRIC COMPANY
发明人：克利斯多弗喬治伊爾班 ERBEN, CHRISTOPH GEORG , 愛力克麥可希萊多 BREITUNG, ERIC MICHAEL , 玉城亮 TAMAKI, RYO
IPC分类号： C07F , C08F , C09K , C07C
CPC分类号： C07F7/21 , C08F14/18 , Y10T428/10
摘要：本發明提供一種多環或單環全氟乙烯系化合物，其包含選自由式I及式II所組成之群的至少一結構單元：其中，M在每次出現時獨立為一選自元素週期表之第14族之金屬；且R在每次出現時獨立為一鍵、氫、脂族基、環脂族基或芳族基。該多環或單環化合物包含至少兩個全氟乙烯基。本發明亦提供一種用於製造所揭示之化合物之光學膜之方法、一種包含由所揭示之化合物而製備之聚合物之電光裝置、及一種由所揭示之化合物而製備之聚合物。
简体摘要：本发明提供一种多环或单环全氟乙烯系化合物，其包含选自由式I及式II所组成之群的至少一结构单元：其中，M在每次出现时独立为一选自元素周期表之第14族之金属；且R在每次出现时独立为一键、氢、脂族基、环脂族基或芳族基。该多环或单环化合物包含至少两个全氟乙烯基。本发明亦提供一种用于制造所揭示之化合物之光学膜之方法、一种包含由所揭示之化合物而制备之聚合物之电光设备、及一种由所揭示之化合物而制备之聚合物。

6. 发明专利

TW200417551A 光阻劑用含氟聚合物之製造方法审中-公开
简体标题：光阻剂用含氟聚合物之制造方法
公开(公告)号：TW200417551A
公开(公告)日：2004-09-16
申请号：TW093100926
申请日：2004-01-14
申请人：大金工業股份有限公司 DAIKIN INDUSTRIES, LTD.
发明人：荒木孝之 , 石川卓司 , 鳥海實
IPC分类号： C08F
CPC分类号： C08F14/18
摘要：本發明系提供含氟聚合物之新穎的製造方法，更詳細係有關在真空紫外領域，特別是F2雷射光(157nm)下為透明，且對於鹼顯像液之溶解性優異之光阻用之含氟聚合物的製造方法及含有該光阻用之含氟聚合物的光阻組成物。該製造方法為製造在聚合物主鏈上具有脂肪族環結構之重複單位(M2)的含氟聚合物，且聚合物中具有利用酸進行反應之酸反應性基Y^1或可轉變為酸反應性基Y^1之基Y^2的光阻用含氟聚合物時，將含有可將脂肪族環結構供給聚合物主鏈之單體(m2)之單體混合物在自由基聚合引發劑的存在下，同時在下述式(1)：R–(X)n(式中，R為選自碳數1～20之可含有醚鍵的烴基者，氫原子之一部分可被氟原子取代之烴基；X係選自由含氧原子之官能基及取代或非取代之胺基所成群之至少一種的官能基；n為1～4之整數)表示之連鏈移動劑之共同存在下，進行自由基聚合為特徵之對顯影液之溶解性優異之光阻用含氟聚合物之製造方法。
简体摘要：本发明系提供含氟聚合物之新颖的制造方法，更详细系有关在真空紫外领域，特别是F2激光光(157nm)下为透明，且对于碱显像液之溶解性优异之光阻用之含氟聚合物的制造方法及含有该光阻用之含氟聚合物的光阻组成物。该制造方法为制造在聚合物主链上具有脂肪族环结构之重复单位(M2)的含氟聚合物，且聚合物中具有利用酸进行反应之酸反应性基Y^1或可转变为酸反应性基Y^1之基Y^2的光阻用含氟聚合物时，将含有可将脂肪族环结构供给聚合物主链之单体(m2)之单体混合物在自由基聚合引发剂的存在下，同时在下述式(1)：R–(X)n(式中，R为选自碳数1～20之可含有醚键的烃基者，氢原子之一部分可被氟原子取代之烃基；X系选自由含氧原子之官能基及取代或非取代之胺基所成群之至少一种的官能基；n为1～4之整数)表示之连链移动剂之共同存在下，进行自由基聚合为特征之对显影液之溶解性优异之光阻用含氟聚合物之制造方法。

7. 发明专利

TWI609891B 導電性聚合物用高分子化合物及其製造方法有权
简体标题：导电性聚合物用高分子化合物及其制造方法
公开(公告)号：TWI609891B
公开(公告)日：2018-01-01
申请号：TW104123253
申请日：2015-07-17
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：畠山潤 , HATAKEYAMA, JUN , 長澤賢幸 , NAGASAWA, TAKAYUKI , 長谷川幸士 , HASEGAWA, KOJI , 大橋正樹 , OHASHI, MASAKI , 提箸正義 , SAGEHASHI, MASAYOSHI
IPC分类号： C08F20/38 , C08F12/30 , C08F8/36 , H01B1/12 , H01M8/02
CPC分类号： C08F28/02 , C08F14/18 , C08F14/185 , C08F128/02 , C08F214/18 , C08F214/182 , C08F214/186 , C08F228/02 , C08F218/14

8. 发明专利

TW201714901A 含氟聚合物、其製造方法及含氟聚合物之硬化物审中-公开
简体标题：含氟聚合物、其制造方法及含氟聚合物之硬化物
公开(公告)号：TW201714901A
公开(公告)日：2017-05-01
申请号：TW105127668
申请日：2016-08-29
申请人：旭硝子股份有限公司 , ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：杉山德英 , SUGIYAMA, TOKUHIDE , 大倉雅博 , OHKURA, MASAHIRO
IPC分类号： C08F216/14 , C08F214/28 , H01L33/56
CPC分类号： C08F216/1458 , C08F8/30 , C08F14/18 , C08F16/28 , C08F214/287 , C08F2800/10 , C08J3/28 , C08J2327/22 , C08J2329/10 , H01L33/56
摘要：提供一種對醇溶解性優異且可硬化的含氟聚合物、其製造方法及含氟聚合物之硬化物。一種含氟聚合物，含有下式(1)所示單元且式(1)所示單元之至少一部分的Z1為NR1NR2H或NR3OR4；(式(1)中，X1及X2分別獨立為氫原子或氟原子； Q1為單鍵或醚性氧原子； Rf1為氟伸烷基或碳-碳原子間具有醚性氧原子之碳數2以上之氟伸烷基； Z1為NR1NR2H、NR3OR4或OR5； R1、R2、R3及R4分別獨立為氫原子或烷基； R5為烷基)。
简体摘要：提供一种对醇溶解性优异且可硬化的含氟聚合物、其制造方法及含氟聚合物之硬化物。一种含氟聚合物，含有下式(1)所示单元且式(1)所示单元之至少一部分的Z1为NR1NR2H或NR3OR4；(式(1)中，X1及X2分别独立为氢原子或氟原子； Q1为单键或醚性氧原子； Rf1为氟伸烷基或碳-碳原子间具有醚性氧原子之碳数2以上之氟伸烷基； Z1为NR1NR2H、NR3OR4或OR5； R1、R2、R3及R4分别独立为氢原子或烷基； R5为烷基)。

9. 发明专利

TWI490236B 苯乙烯含氟聚合物之配製方法有权
简体标题：苯乙烯含氟聚合物之配制方法
公开(公告)号：TWI490236B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW102105570
申请日：2013-02-18
申请人：亞克朗聚合物系統公司 , AKRON POLYMER SYSTEMS, INC.
发明人：鄭孝亮 , ZHENG, XIAOLIANG , 張棟 , ZHANG, DONG , 金交凱 , JING, JIAOKAI , 傑姆洛斯泰德C , GERMROTH, TED C. , 哈里斯法蘭克W , HARRIS, FRANK W. , 郭少明 , KUO, THAUMING , 王賓 , WANG, BIN , 麥克威廉斯道格拉斯S , MCWILLIAMS, DOUGLAS S.
IPC分类号： C08F2/24 , C08F12/20
CPC分类号： C08F12/20 , C08F2/08 , C08F2/10 , C08F2/26 , C08F2/28 , C08F2/30 , C08F14/18 , C08F112/14 , C08F212/14 , C08F214/18 , C08F212/08

10. 发明专利

TW201035065A 具有環狀縮醛構造之含氟單體、高分子化合物、光阻保護膜材料、光阻材料、圖型之形成方法 FLUORINATED MONOMER OF CYCLIC ACETAL STRUCTURE, POLYMER, RESIST PROTECTIVE COATING COMPOSITION, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS 审中-公开
简体标题：具有环状缩醛构造之含氟单体、高分子化合物、光阻保护膜材料、光阻材料、图型之形成方法 FLUORINATED MONOMER OF CYCLIC ACETAL STRUCTURE, POLYMER, RESIST PROTECTIVE COATING COMPOSITION, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
公开(公告)号：TW201035065A
公开(公告)日：2010-10-01
申请号：TW098136701
申请日：2009-10-29
申请人：信越化學工業股份有限公司
发明人：渡邊武 , 品地敏 , 金生剛 , 長谷川幸士 , 原田裕次 , 畠山潤 , 前田和規 , 小林知洋
IPC分类号： C07D , C08F , G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/11 , C07D307/04 , C07D307/77 , C07D315/00 , C07D319/06 , C08F14/18 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , C08F2/00
摘要：本發明其解決手段係式（1）所表示之具有環狀縮醛構造的含氟單體。
（R為氫原子的一部分可被鹵素原子取代，或，甲撐基的一部分可被氧原子或羰基取代之碳數1~20的直鏈狀、分支狀或環狀的烷基；Z係與兩端所鍵結的烷撐基氧基一起形成五員環或六員環，含聚合性不飽和基之二價的有機基）藉由本發明，提供適合作為光機能性材料、塗佈材料等之原料的具有環狀縮醛構造之新穎含氟單體。其中，使用該單體的聚合物係相對於波長200nm以下的放射線具有優異的透明性，又具有優異的撥水性，同時藉由構造的選擇而可調整撥水性、脂溶性、酸分解性、水解性等各種性能。
简体摘要：本发明其解决手段系式（1）所表示之具有环状缩醛构造的含氟单体。（R为氢原子的一部分可被卤素原子取代，或，甲撑基的一部分可被氧原子或羰基取代之碳数1~20的直链状、分支状或环状的烷基；Z系与两端所键结的烷撑基氧基一起形成五员环或六员环，含聚合性不饱和基之二价的有机基）借由本发明，提供适合作为光机能性材料、涂布材料等之原料的具有环状缩醛构造之新颖含氟单体。其中，使用该单体的聚合物系相对于波长200nm以下的放射线具有优异的透明性，又具有优异的拨水性，同时借由构造的选择而可调整拨水性、脂溶性、酸分解性、水解性等各种性能。

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