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    • 5. 发明专利
    • 用於創造位在玻璃之帶狀物其中一面上之一結構的方法與裝置 METHOD AND DEVICE FOR CREATING A STRUCTURE ON ONE OF THE FACES OF A RIBBON OF GLASS
    • 用于创造位在玻璃之带状物其中一面上之一结构的方法与设备 METHOD AND DEVICE FOR CREATING A STRUCTURE ON ONE OF THE FACES OF A RIBBON OF GLASS
    • TW201008885A
    • 2010-03-01
    • TW098123767
    • 2009-07-14
    • 法孚 斯坦因公司
    • 庫恩 沃夫 史堤法史崔克 柏崔德帕莫爾 弗科斯布萊塞特 艾瑞克
    • C03B
    • C03B23/02C03B29/08C03B32/00C03C17/002
    • 本發明提供一種連續地執行之用於在一玻璃帶狀物其中一面上使用一壓印裝置創造一結構的方法,其中:-該壓印裝置(8)係定位於該帶狀物(B)在其處處於一平均溫度T1的一區域(A)中,根據待銘刻之圖案的性質、該壓印裝置與該帶狀物之間的壓力以及該帶狀物與該壓印裝置之間接觸的持續時間,該平均溫度T1不足以將該壓印裝置上之圖案壓印至該帶狀物上;-在該壓印裝置(8)上游加熱該待銘刻之面以便將該帶狀物之一有限且足夠的厚度升高至一大於T1之溫度T2,而同時使該帶狀物之剩餘部分保持於一接近於T1之溫度,該溫度T2為根據該待銘刻之圖案的該性質及該壓印裝置與該帶狀物之間的該壓力以及該帶狀物與該壓印裝置之間接觸的該持續時間將來自該壓印裝置之該圖案壓印至該帶狀物上所需的溫度;-由加熱裝置傳輸至該帶狀物的熱通量使得「壓印數」在0.05 mm -1 與2.00 mm -1 之間的範圍內且較佳為0.3 mm -1 。
    • 本发明提供一种连续地运行之用于在一玻璃带状物其中一面上使用一压印设备创造一结构的方法,其中:-该压印设备(8)系定位于该带状物(B)在其处处于一平均温度T1的一区域(A)中,根据待铭刻之图案的性质、该压印设备与该带状物之间的压力以及该带状物与该压印设备之间接触的持续时间,该平均温度T1不足以将该压印设备上之图案压印至该带状物上;-在该压印设备(8)上游加热该待铭刻之面以便将该带状物之一有限且足够的厚度升高至一大于T1之温度T2,而同时使该带状物之剩余部分保持于一接近于T1之温度,该温度T2为根据该待铭刻之图案的该性质及该压印设备与该带状物之间的该压力以及该带状物与该压印设备之间接触的该持续时间将来自该压印设备之该图案压印至该带状物上所需的温度;-由加热设备传输至该带状物的热通量使得“压印数”在0.05 mm -1 与2.00 mm -1 之间的范围内且较佳为0.3 mm -1 。
    • 6. 发明专利
    • 偏極光折射性玻璃 POLARIZING PHOTOREFRACTIVE GLASS
    • 偏极光折射性玻璃 POLARIZING PHOTOREFRACTIVE GLASS
    • TW201004888A
    • 2010-02-01
    • TW098103136
    • 2009-01-23
    • 康寧公司
    • 包銳里 尼可法西史勞德 約塞法希司希握德 湯姆保
    • C03CG02BC03B
    • G02B1/08C03B23/047C03B32/00C03C3/11C03C4/04G02B27/283
    • 本發明係關於玻璃組成份以及由組成份製造出物體,其具有偏極以及光折射性兩者特性。玻璃組成份實質上以重量百分比表示(“wt.%”)包含70-73SiO2,13-17%B2O3,8-10%Na2O,2-4%Al2O3,0.005-0.1%CuO,<0.4%Cl,0.1-0.5%Ag,0.1-0.3%Br。在另一實施例中組成份實質上包含70-77%SiO2,13-18%B2O3,8-10%Na2O,2-4%Al2O3,0.005-0.1%CuO,<0.4%Cl,0.1-0.5%Ag,0.1-0.3%Br。玻璃能夠使用來製造物體或元件,其能夠呈現出光折射性效應以及偏極效應兩者特性於單元件或物品內,以及能夠使用來製造各種光學元件,包括布拉格光柵,濾波元件,及光束成形元件以及光線收集元件以使用於示器,安全,防衛,量測,形成影像以及通訊應用中。
    • 本发明系关于玻璃组成份以及由组成份制造出物体,其具有偏极以及光折射性两者特性。玻璃组成份实质上以重量百分比表示(“wt.%”)包含70-73SiO2,13-17%B2O3,8-10%Na2O,2-4%Al2O3,0.005-0.1%CuO,<0.4%Cl,0.1-0.5%Ag,0.1-0.3%Br。在另一实施例中组成份实质上包含70-77%SiO2,13-18%B2O3,8-10%Na2O,2-4%Al2O3,0.005-0.1%CuO,<0.4%Cl,0.1-0.5%Ag,0.1-0.3%Br。玻璃能够使用来制造物体或组件,其能够呈现出光折射性效应以及偏极效应两者特性於单组件或物品内,以及能够使用来制造各种光学组件,包括布拉格光栅,滤波组件,及光束成形组件以及光线收集组件以使用于示器,安全,防卫,量测,形成影像以及通信应用中。
    • 9. 发明专利
    • 感光性玻璃基板之製造方法
    • 感光性玻璃基板之制造方法
    • TW201507989A
    • 2015-03-01
    • TW103128731
    • 2014-08-21
    • HOYA股份有限公司HOYA CORPORATION
    • 伏江隆FUSHIE, TAKASHI
    • C03C4/04C03C15/00C03C23/00
    • C03C4/04C03B32/00C03C3/095C03C15/00C03C23/0025G03F7/2051G03F7/36G03F7/38
    • 提供一種考量起因於熱處理之感光性玻璃的尺寸變化量,而藉由直接修正能量束之照射位置,來使得貫通孔之形成位置等微細加工之精度容易上升的方法。 一種感光性玻璃基板之製造方法,係具有:照射工序,係將能量束直接地照射至由感光性玻璃所構成之板狀基材,以形成潛影;結晶化工序,係藉由第1熱處理來將潛影結晶化,以得到結晶化部分;以及微細加工工序,係將結晶化部分溶解去除而進行微細加工,以得到感光性玻璃基板;照射工序中,至少係基於起因於包含第1熱處理的熱處理之感光性玻璃的尺寸變化量,來修正能量束之照射位置。
    • 提供一种考量起因于热处理之感光性玻璃的尺寸变化量,而借由直接修正能量束之照射位置,来使得贯通孔之形成位置等微细加工之精度容易上升的方法。 一种感光性玻璃基板之制造方法,系具有:照射工序,系将能量束直接地照射至由感光性玻璃所构成之板状基材,以形成潜影;结晶化工序,系借由第1热处理来将潜影结晶化,以得到结晶化部分;以及微细加工工序,系将结晶化部分溶解去除而进行微细加工,以得到感光性玻璃基板;照射工序中,至少系基于起因于包含第1热处理的热处理之感光性玻璃的尺寸变化量,来修正能量束之照射位置。