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1. 发明专利

TW200421025A 光阻組成物失效
简体标题：光阻组成物
公开(公告)号：TW200421025A
公开(公告)日：2004-10-16
申请号：TW092131287
申请日：2003-11-07
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：川口泰秀 KAWAGUCHI, YASUHIDE , 金子勇 KANEKO, ISAMU , 武部洋子 TAKEBE, YOKO , 岡田伸治 OKADA, SHINJI , 橫小路修 YOKOKOJI, OSAMU
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F14/18 , C08F36/16 , G03C1/492 , G03F7/0046 , G03F7/0392
摘要：本發明係提供對F2激元激光等真空紫外線具有透明性，且易形成具有優良敏感度、解像度、平坦性、耐熱性等之光阻圖案的光阻組成物。該光阻組成物之特徵係含有，具有環烷基，具有1個以上該環烷基之有機基或二環烷基等嵌段化基而嵌段化之酸性基的含氟聚合物(A)、及受光照射可產生酸之產酸化合物(B)及有機溶劑(C)。
简体摘要：本发明系提供对F2激元激光等真空紫外线具有透明性，且易形成具有优良敏感度、解像度、平坦性、耐热性等之光阻图案的光阻组成物。该光阻组成物之特征系含有，具有环烷基，具有1个以上该环烷基之有机基或二环烷基等嵌段化基而嵌段化之酸性基的含氟聚合物(A)、及受光照射可产生酸之产酸化合物(B)及有机溶剂(C)。

2. 发明专利

TW200415445A 含氟聚合物审中-公开
公开(公告)号：TW200415445A
公开(公告)日：2004-08-16
申请号：TW092131286
申请日：2003-11-07
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：川口泰秀 KAWAGUCHI, YASUHIDE , 岡田伸治 OKADA, SHINJI , 武部洋子 TAKEBE, YOKO , 橫小路修 YOKOKOJI, OSAMU , 金子勇 KANEKO, ISAMU
IPC分类号： C08F , G03F
CPC分类号： C08F214/18 , C08F36/20 , C08F2/60
摘要：本發明係提供對250nm以下激發雷射(excimerlaser)之抗蝕刻材料用基質聚合物為恰當之含氟聚合物。本發明係具有下記式(3)所示含氟二烯化合物為環化聚合之單體單位的含氟聚合物。CF2＝CFCF2－C(CF3)(R^5)－CH2CH＝CH2(3)但，R^5為–CHR^7–0–R^8所嵌段化之羥基或具有該羥基之有機基，R^8表示，可具有取代基之環烷基等之環式飽和烴，具有該環式飽和烴之有機基。
简体摘要：本发明系提供对250nm以下激发激光(excimerlaser)之抗蚀刻材料用基质聚合物为恰当之含氟聚合物。本发明系具有下记式(3)所示含氟二烯化合物为环化聚合之单体单位的含氟聚合物。CF2＝CFCF2－C(CF3)(R^5)－CH2CH＝CH2(3)但，R^5为–CHR^7–0–R^8所嵌段化之羟基或具有该羟基之有机基，R^8表示，可具有取代基之环烷基等之环式饱和烃，具有该环式饱和烃之有机基。

3. 发明专利

TW200619232A 硬化性組成物,微細結構物之製造方法及圖型之形成方法审中-公开
简体标题：硬化性组成物,微细结构物之制造方法及图型之形成方法
公开(公告)号：TW200619232A
公开(公告)日：2006-06-16
申请号：TW094129771
申请日：2005-08-30
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：川口泰秀 KAWAGUCHI, YASUHIDE , 淺川昭彥 ASAKAWA, AKIHIKO , 石關健二 ISHIZEKI, KENJI , 江里口武 ERIGUCHI, TAKESHI , 柏木王明 KASHIWAGI, KIMIAKI , 白川大祐 SHIRAKAWA, DAISUKE
IPC分类号： C08F , B81C , B82B
CPC分类号： C08F14/18 , C08F2/00
摘要：本發明有關硬化性組成物、微細結構物之製造方法以及圖型之形成方法。詳言之，本發明之硬化性組成物，係夾持於具有微細圖型的反轉圖型之塑模的該反轉圖型面與基材表面之間並按壓後使其硬化，以形成硬化物的微細圖型於基材表面之用的硬化性組成物，且必需具有含有氟原子之單體(A)，及含有氟原子之聚合引發劑(B)之硬化性組成物，而本發明之微細結構物之製造方法，係例如依序實施將該硬化性組成物，夾持於具有微細圖型的反轉圖型之塑模的該反轉圖型面與基材表面之間並按壓之過程，使硬化性組成物硬化以形成硬化物之過程，從該硬化物剝離塑模之過程，由表面形成有硬化性組成物的硬化物的微細圖型之基材所成微細結構物之製造方法。
简体摘要：本发明有关硬化性组成物、微细结构物之制造方法以及图型之形成方法。详言之，本发明之硬化性组成物，系夹持于具有微细图型的反转图型之塑模的该反转图型面与基材表面之间并按压后使其硬化，以形成硬化物的微细图型于基材表面之用的硬化性组成物，且必需具有含有氟原子之单体(A)，及含有氟原子之聚合引发剂(B)之硬化性组成物，而本发明之微细结构物之制造方法，系例如依序实施将该硬化性组成物，夹持于具有微细图型的反转图型之塑模的该反转图型面与基材表面之间并按压之过程，使硬化性组成物硬化以形成硬化物之过程，从该硬化物剥离塑模之过程，由表面形成有硬化性组成物的硬化物的微细图型之基材所成微细结构物之制造方法。

4. 发明专利

TWI240146B 光阻用組成物失效
简体标题：光阻用组成物
公开(公告)号：TWI240146B
公开(公告)日：2005-09-21
申请号：TW091102234
申请日：2002-02-07
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：金子勇 KANEKO, ISAMU , 岡田伸治 OKADA, SHINJI , 川口泰秀 KAWAGUCHI, YASUHIDE , 武部洋子 TAKEBE, YOKO , 兒玉俊一 KODAMA, SHUNICHI
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , Y10S430/114 , Y10S430/146 , Y10T428/3154
摘要：提供給予對放射性之透明性乾蝕性優越，再者靈敏度、解析度、平坦性、耐熱性等優越的光阻圖案之化學增幅型光阻用組成物。
以具有以式(1)表示的含氟二烯已環化聚合的重複單位之含氟聚合物，且於Q上具有嵌段化酸性基之含氟聚合物(A)，接受光照射且發生酸之酸發生化合物(B)及有機溶劑(C)為特徵之光阻用組成物。 CF2=CR1-Q-CR2=CH2 (1)(惟R1，R2係各自獨立的表示氫原子、氟原子、甲基或三氟甲基，Q表示二價之有機基且具有由酸顯現酸性基之嵌段化酸性基或該可轉換成嵌段化酸性基之基之有機基。)
简体摘要：提供给予对放射性之透明性干蚀性优越，再者灵敏度、分辨率、平坦性、耐热性等优越的光阻图案之化学增幅型光阻用组成物。以具有以式(1)表示的含氟二烯已环化聚合的重复单位之含氟聚合物，且于Q上具有嵌段化酸性基之含氟聚合物(A)，接受光照射且发生酸之酸发生化合物(B)及有机溶剂(C)为特征之光阻用组成物。 CF2=CR1-Q-CR2=CH2 (1)(惟R1，R2系各自独立的表示氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基，Q表示二价之有机基且具有由酸显现酸性基之嵌段化酸性基或该可转换成嵌段化酸性基之基之有机基。)

5. 发明专利

TW200936714A 表面改質劑及具有含彼之塗膜的物件审中-公开
简体标题：表面改质剂及具有含彼之涂膜的对象
公开(公告)号：TW200936714A
公开(公告)日：2009-09-01
申请号：TW097149177
申请日：2008-12-17
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：上野勝也 UENO, KATSUYA , 山田和彥 YAMADA, KAZUHIKO , 川口泰秀 KAWAGUCHI, YASUHIDE
IPC分类号： C09D , C09K , B29C
CPC分类号： B29C33/62 , B29K2027/12 , C08G65/007 , C09D5/1625
摘要：本發明為提供一種物品,其可充分改質基材之表面,可形成對基材之表面接著性為良好之塗膜之表面改質劑,及表面可充分被改質,可長期保持該狀態之物品。含有以下式(1)所表示化合物之表面改質劑,及使用了該表面改質劑其表面被改質後之物品。
097149177P01.bmp
式中、R為Rf-X-、左右之R係為相同之基,Rf係碳數1-20之全氟烷基,X為-(OC3F6)-、-(OC2F4)-、及-(OCF2)-之單位之中之1種以上之重複,且該單位之個數之合計係為1以上之基,Y係碳數2以上之3價有機基,n之平均為2-100。
简体摘要：本发明为提供一种物品,其可充分改质基材之表面,可形成对基材之表面接着性为良好之涂膜之表面改质剂,及表面可充分被改质,可长期保持该状态之物品。含有以下式(1)所表示化合物之表面改质剂,及使用了该表面改质剂其表面被改质后之物品。 097149177P01.bmp 式中、R为Rf-X-、左右之R系为相同之基,Rf系碳数1-20之全氟烷基,X为-(OC3F6)-、-(OC2F4)-、及-(OCF2)-之单位之中之1种以上之重复,且该单位之个数之合计系为1以上之基,Y系碳数2以上之3价有机基,n之平均为2-100。

6. 发明专利

TWI300882B 光阻組成物 RESIST COMPOSITION 失效
简体标题：光阻组成物 RESIST COMPOSITION
公开(公告)号：TWI300882B
公开(公告)日：2008-09-11
申请号：TW092104432
申请日：2003-03-03
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：岡田伸治 OKADA, SHINJI , 川口泰秀 KAWAGUCHI, YASUHIDE , 武部洋子 TAKEBE, YOKO , 金子勇 KANEKO, ISAMU , 兒玉俊一 KODAMA, SHUNICHI
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/0046 , G03F7/0395 , Y10S430/115 , Y10S430/146
摘要：一種光阻組成物,其包含以下各者:氟聚合物(A),
於照光之下可產生酸的酸產生化合物(B)及有機溶劑(C):
氟聚合物(A):帶有封端的酸性基團之氟聚合物,此
氟聚合物帶有由式(1)的氟化二烯之環聚合所形成的單體單
元,及由式(2)的丙烯酸單體之聚合所形成的單體單元,且
當聚合式(1)的氟化二烯與式(2)的丙烯酸單體而得到的共
聚物,不帶有封端的酸性基團時,其係藉由在該共聚物中
形成封端的酸性基團而:
CF2=CR1-Q-CR2=CH2(1)
其中各個R1與R2係相互獨立為氫原子、氟原子、甲基基
團或三氟甲基基團,且Q為二價有機基團,其係為能藉酸
形成酸性基團之封端酸性基團、酸性基團、或可轉化為封
端酸性基團之非酸性基團;
CH2=CR3-CO2R4(2)
其中R3為氫原子、氟原子、甲基基團或三氟甲基基團,
且R4為氫原子、烴基團、帶有酸性基團的有機基團、帶
有能藉由酸而形成酸性基團之封端酸性基團之有機基團、
或內含可轉化為封端酸性基團之非酸性基團的有機基團。
简体摘要：一种光阻组成物,其包含以下各者:氟聚合物(A), 于照光之下可产生酸的酸产生化合物(B)及有机溶剂(C): 氟聚合物(A):带有封端的酸性基团之氟聚合物,此氟聚合物带有由式(1)的氟化二烯之环聚合所形成的单体单元,及由式(2)的丙烯酸单体之聚合所形成的单体单元,且当聚合式(1)的氟化二烯与式(2)的丙烯酸单体而得到的共聚物,不带有封端的酸性基团时,其系借由在该共聚物中形成封端的酸性基团而: CF2=CR1-Q-CR2=CH2(1) 其中各个R1与R2系相互独立为氢原子、氟原子、甲基基团或三氟甲基基团,且Q为二价有机基团,其系为能藉酸形成酸性基团之封端酸性基团、酸性基团、或可转化为封端酸性基团之非酸性基团; CH2=CR3-CO2R4(2) 其中R3为氢原子、氟原子、甲基基团或三氟甲基基团, 且R4为氢原子、烃基团、带有酸性基团的有机基团、带有能借由酸而形成酸性基团之封端酸性基团之有机基团、或内含可转化为封端酸性基团之非酸性基团的有机基团。

7. 发明专利

TWI276918B 光阻組成物失效
简体标题：光阻组成物
公开(公告)号：TWI276918B
公开(公告)日：2007-03-21
申请号：TW092131287
申请日：2003-11-07
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：川口泰秀 KAWAGUCHI, YASUHIDE , 金子勇 KANEKO, ISAMU , 武部洋子 TAKEBE, YOKO , 岡田伸治 OKADA, SHINJI , 橫小路修 YOKOKOJI, OSAMU
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F14/18 , C08F36/16 , G03C1/492 , G03F7/0046 , G03F7/0392
摘要：本發明係提供對F2準分子雷射等真空紫外線具有透明性，且易形成具有優良敏感度、解像度、平坦性、耐熱性等之光阻圖案的光阻組成物。
該光阻組成物之特徵係含有，具有環烷基，具有1個以上該環烷基之有機基或二環烷基等嵌段化基而嵌段化之酸性基的含氟聚合物(A)、及受光照射可產生酸之產酸化合物(B)及有機溶劑(C)。
简体摘要：本发明系提供对F2准分子激光等真空紫外线具有透明性，且易形成具有优良敏感度、解像度、平坦性、耐热性等之光阻图案的光阻组成物。该光阻组成物之特征系含有，具有环烷基，具有1个以上该环烷基之有机基或二环烷基等嵌段化基而嵌段化之酸性基的含氟聚合物(A)、及受光照射可产生酸之产酸化合物(B)及有机溶剂(C)。

8. 发明专利

TW200404818A 含氟化合物,含氟聚合物及其製造方法审中-公开
简体标题：含氟化合物,含氟聚合物及其制造方法
公开(公告)号：TW200404818A
公开(公告)日：2004-04-01
申请号：TW092123051
申请日：2003-08-21
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：兒玉俊一 KODAMA, SHUNICHI , 金子勇 KANEKO, ISAMU , 橫小路修 YOKOKOJI, OSAMU , 岡田伸治 OKADA, SHINJI , 武部洋子 TAKEBE, YOKO , 川口泰秀 KAWAGUCHI, YASUHIDE
IPC分类号： C08F
CPC分类号： C08F36/20 , C08F36/16 , C08F214/18 , C08F2/60
摘要：本發明係提供一種可取得高官能基濃度之充足的官能基特性者，且，不降低Tg之含氟聚合物者。式(1)所示官能基含有含氟二烯藉由環化聚合後形成具有單體單位之含氟聚合物。CFR^1＝CR^2–Q–CR^3＝CHR^4(1)(式中，R^1～R^4互為獨立之氫原子、氟原子、碳數8以下之烷基，或環狀脂肪族烴基，至少1個為環狀脂肪族烴基者。烷基及環狀脂肪族烴基中氫原子亦可被氟原子、烷基或氟烷基取代之。Q為2價有機基，且，藉由酸可發現酸性基之嵌段化酸性基或具有可變換呈嵌段化酸性基之有機基者。)
简体摘要：本发明系提供一种可取得高官能基浓度之充足的官能基特性者，且，不降低Tg之含氟聚合物者。式(1)所示官能基含有含氟二烯借由环化聚合后形成具有单体单位之含氟聚合物。CFR^1＝CR^2–Q–CR^3＝CHR^4(1)(式中，R^1～R^4互为独立之氢原子、氟原子、碳数8以下之烷基，或环状脂肪族烃基，至少1个为环状脂肪族烃基者。烷基及环状脂肪族烃基中氢原子亦可被氟原子、烷基或氟烷基取代之。Q为2价有机基，且，借由酸可发现酸性基之嵌段化酸性基或具有可变换呈嵌段化酸性基之有机基者。)

9. 发明专利

TW200916488A 光硬化性組成物及表面具有微細圖型之成形體的製造方法审中-公开
简体标题：光硬化性组成物及表面具有微细图型之成形体的制造方法
公开(公告)号：TW200916488A
公开(公告)日：2009-04-16
申请号：TW097111181
申请日：2008-03-28
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：川口泰秀 KAWAGUCHI, YASUHIDE , 角崎健太郎 TSUNOZAKI, KENTARO
IPC分类号： C08F , B29C , H01L
CPC分类号： C08F220/20 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C08F220/18 , C08F220/22 , G02B5/1852 , G02B5/1857 , G03F7/0002 , G03F7/0046 , G03F7/0048 , G03F7/027 , G03F7/033 , C08F222/1006
摘要：本發明係提供可得到脫模性及機械强度優異之硬化物的光硬化性組成物及可製造表面具有模具之反轉圖型被精密轉印之微細圖型之耐久性優異之成形體的方法。本發明使用光硬化性組成物20,其係含有:具有2個環以上之芳香族化合物或具有2個環以上之脂環族化合物,且具有2個(甲基)丙烯醯氧基之化合物(A)15-60質量%,具有氟原子,且具有1個以上之碳-碳不飽和雙鍵之化合物(B)(但是化合物(A)除外)5-40質量%,具有1個(甲基)丙烯醯氧基之化合物(C)(但是化合物(B)除外)10-55質量%,光聚合引發劑(D)1-12質量%(但是(A)+(B)+(C)+(D)=100質量%)。
简体摘要：本发明系提供可得到脱模性及机械强度优异之硬化物的光硬化性组成物及可制造表面具有模具之反转图型被精密转印之微细图型之耐久性优异之成形体的方法。本发明使用光硬化性组成物20,其系含有:具有2个环以上之芳香族化合物或具有2个环以上之脂环族化合物,且具有2个(甲基)丙烯酰氧基之化合物(A)15-60质量%,具有氟原子,且具有1个以上之碳-碳不饱和双键之化合物(B)(但是化合物(A)除外)5-40质量%,具有1个(甲基)丙烯酰氧基之化合物(C)(但是化合物(B)除外)10-55质量%,光聚合引发剂(D)1-12质量%(但是(A)+(B)+(C)+(D)=100质量%)。

10. 发明专利

TW200911498A 模具、其製造方法及具有轉印微細圖型之基材的製造方法审中-公开
简体标题：模具、其制造方法及具有转印微细图型之基材的制造方法
公开(公告)号：TW200911498A
公开(公告)日：2009-03-16
申请号：TW097118909
申请日：2008-05-22
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：角崎健太郎 TSUNOZAKI, KENTARO , 川口泰秀 KAWAGUCHI, YASUHIDE , 根好彥 SAKANE, YOSHIHIKO , 庄子習一 SHOJI, SHUICHI , 水野潤 MIZUNO, JUN , 片座慎吾 KATAZA, SHINGO
IPC分类号： B29C
CPC分类号： B29C59/02 , B29C33/40 , B29C33/424 , B29C33/56 , B29C35/0888 , B29C59/005 , B29L2011/00
摘要：本發明係提供一種含有光透過性、脫模性、機械强度、尺寸安定性、高精度之微細圖型,且微細圖型之變形較少的模具;可以高尺寸精度轉印模具之微細圖型,且具有轉印微細圖型之變形較少之轉印微細圖型之基材的製造方法。模具(10)係具有:在形成中間層(C)(14)之表面具有依據官能基(x)之化學鍵,與含氟聚合物(I)之線膨脹係數之線膨脹係數之差(絕對値)未達30ppm/℃,且熱變形溫度為100~300℃之透明基體(A)(12)、主鏈具有含氟脂肪族環構造,具有官能基(x)與反應性之反應性基(y)之含氟聚合物(II)所構成之中間層(C)(14)、主鏈具有含氟脂肪族環構造,實質上不具有反應性基(y)之含氟聚合物(I)所構成,表面具有微細圖型(18)之表面層(B)(16)。
简体摘要：本发明系提供一种含有光透过性、脱模性、机械强度、尺寸安定性、高精度之微细图型,且微细图型之变形较少的模具;可以高尺寸精度转印模具之微细图型,且具有转印微细图型之变形较少之转印微细图型之基材的制造方法。模具(10)系具有:在形成中间层(C)(14)之表面具有依据官能基(x)之化学键,与含氟聚合物(I)之线膨胀系数之线膨胀系数之差(绝对値)未达30ppm/℃,且热变形温度为100~300℃之透明基体(A)(12)、主链具有含氟脂肪族环构造,具有官能基(x)与反应性之反应性基(y)之含氟聚合物(II)所构成之中间层(C)(14)、主链具有含氟脂肪族环构造,实质上不具有反应性基(y)之含氟聚合物(I)所构成,表面具有微细图型(18)之表面层(B)(16)。

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