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1. 发明专利

TW201732456A 基板處理裝置、處理裝置及元件製造方法审中-公开
简体标题：基板处理设备、处理设备及组件制造方法
公开(公告)号：TW201732456A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW106116099
申请日：2013-03-08
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70366 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/24 , G03F7/42 , G03F7/70 , G03F7/70641 , G03F7/70758 , G03F7/70775 , G03F7/70791 , G03F9/00
摘要：基板處理裝置具備：旋轉圓筒構件(DR)，其具有自特定之中心線(AX2)以固定半徑彎曲之圓筒狀之支持面，且沿基板之長邊方向傳送基板(P)；處理機構，其於基板之一部分之特定位置(PA、EL2)，對基板實施特定處理；標尺構件(SD)，其具有標尺部(GP)，該標尺部(GP)與旋轉圓筒構件一併繞中心線旋轉，並且刻設為環狀，以測量旋轉圓筒構件於支持面之周方向上之位置變化、或旋轉圓筒構件於中心線之方向上之位置變化；及讀取機構(EN1、EN2)，其與標尺部對向，並且於自中心線觀察時配置成與特定位置大致相同之方向，且對標尺部進行讀取。
简体摘要：基板处理设备具备：旋转圆筒构件(DR)，其具有自特定之中心线(AX2)以固定半径弯曲之圆筒状之支持面，且沿基板之长边方向发送基板(P)；处理机构，其于基板之一部分之特定位置(PA、EL2)，对基板实施特定处理；标尺构件(SD)，其具有标尺部(GP)，该标尺部(GP)与旋转圆筒构件一并绕中心线旋转，并且刻设为环状，以测量旋转圆筒构件于支持面之周方向上之位置变化、或旋转圆筒构件于中心线之方向上之位置变化；及读取机构(EN1、EN2)，其与标尺部对向，并且于自中心线观察时配置成与特定位置大致相同之方向，且对标尺部进行读取。

2. 发明专利

TW201721301A 移動體裝置、曝光裝置、元件製造方法、平板顯示器之製造方法、及物體交換方法审中-公开
简体标题：移动体设备、曝光设备、组件制造方法、平板显示器之制造方法、及物体交换方法
公开(公告)号：TW201721301A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：TW106104674
申请日：2011-09-13
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：青木保夫 , AOKI, YASUO
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/7075 , G03F7/70791
摘要：於支承搬出對象之基板(Pa)之第1空氣懸浮單元(69)之+X側配置支承搬入對象之基板(Pa)之第2空氣懸浮單元(70)，於第2空氣懸浮單元(70)下方將第3空氣懸浮單元(75)於θy方向傾斜配置。第1空氣懸浮單元(69)配合第3空氣懸浮單元(75)而於θy方向傾斜，在基板(Pa)從第1空氣懸浮單元(69)上搬送至第3空氣懸浮單元(75)上後，第1空氣懸浮單元(69)成為水平，基板(Pa)從第2空氣懸浮單元(70)上搬送至第1空氣懸浮單元(69)上。亦即，對第1空氣懸浮單元(69)之基板搬入路徑與搬出路徑相異。是以，能迅速地進行第1空氣懸浮單元(69)上之基板交換。
简体摘要：于支承搬出对象之基板(Pa)之第1空气悬浮单元(69)之+X侧配置支承搬入对象之基板(Pa)之第2空气悬浮单元(70)，于第2空气悬浮单元(70)下方将第3空气悬浮单元(75)于θy方向倾斜配置。第1空气悬浮单元(69)配合第3空气悬浮单元(75)而于θy方向倾斜，在基板(Pa)从第1空气悬浮单元(69)上搬送至第3空气悬浮单元(75)上后，第1空气悬浮单元(69)成为水平，基板(Pa)从第2空气悬浮单元(70)上搬送至第1空气悬浮单元(69)上。亦即，对第1空气悬浮单元(69)之基板搬入路径与搬出路径相异。是以，能迅速地进行第1空气悬浮单元(69)上之基板交换。

3. 发明专利

TWI557840B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI557840B
公开(公告)日：2016-11-11
申请号：TW104118584
申请日：2011-02-11
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI
IPC分类号： H01L21/677
CPC分类号： G03F7/70791 , G03F7/70991

4. 发明专利

TWI538148B 曝光方法及曝光裝置有权
简体标题：曝光方法及曝光设备
公开(公告)号：TWI538148B
公开(公告)日：2016-06-11
申请号：TW100108446
申请日：2011-03-14
申请人： V科技股份有限公司 , V TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：梶山康一 , KAJIYAMA, KOICHI , 水村通伸 , MIZUMURA, MICHINOBU
IPC分类号： H01L23/544 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/2035 , G03F7/70791 , G03F9/00 , G03F9/7003

5. 发明专利

TWI520173B 曝光方法及裝置、以及元件製造方法有权
简体标题：曝光方法及设备、以及组件制造方法
公开(公告)号：TWI520173B
公开(公告)日：2016-02-01
申请号：TW099114884
申请日：2010-05-11
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：畑田仁志 , HATADA, HITOSHI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70358 , G03F7/70216 , G03F7/70275 , G03F7/70791

6. 发明专利

TWI498671B 大型薄膜之框體及該框體之取持方法有权
简体标题：大型薄膜之框体及该框体之取持方法
公开(公告)号：TWI498671B
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：TW097125456
申请日：2008-07-04
申请人：旭化成電子材料元件股份有限公司 , ASAHI KASEI EMD CORPORATION
发明人：谷村彰浩 , TANIMURA, AKIHIRO , 前田拓郎 , MAEDA, TAKURO
IPC分类号： G03F1/64
CPC分类号： G03F1/64 , G03F7/70783 , G03F7/70791 , G03F7/70983

7. 发明专利

TW201514629A 曝光裝置、曝光方法审中-公开
简体标题：曝光设备、曝光方法
公开(公告)号：TW201514629A
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：TW103111034
申请日：2014-03-25
申请人：三榮技研股份有限公司 , SANEI GIKEN CO., LTD.
发明人：三宅健 , MIYAKE, KEN , 高木俊博 , TAKAGI, TOSHIHIRO
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/677
CPC分类号： G03F7/707 , G03F7/70791
摘要：提供一種能夠以簡單的構成而穩定地成像於基板之曝光面全區域的曝光技術。對可撓性帶狀之基板進行曝光的曝光裝置，係具備有：第1及第2挾持部，具有由光透性的構件所形成且具有平坦面的透過部，並可藉由各個平坦面來挾持基板；第1移動部，使第2挾持部朝向2個挾持部靠近的方向及遠離的方向移動；第1曝光部，固定地位於第1挾持部之側；第2曝光部，配置於第2挾持部之側；及第2移動部，在基板之挾持狀態下，使2個挾持部與2個曝光部相對移動。曝光裝置，係於挾持狀態下，將2個挾持部之各個平坦面與2個曝光部及第2曝光部的距離保持固定且使第1及第2挾持部移動，進而將基板送至長邊方向，並經由2個挾持部的透過部，同時對基板的兩面進行曝光。
简体摘要：提供一种能够以简单的构成而稳定地成像于基板之曝光面全区域的曝光技术。对可挠性带状之基板进行曝光的曝光设备，系具备有：第1及第2挟持部，具有由光透性的构件所形成且具有平坦面的透过部，并可借由各个平坦面来挟持基板；第1移动部，使第2挟持部朝向2个挟持部靠近的方向及远离的方向移动；第1曝光部，固定地位于第1挟持部之侧；第2曝光部，配置于第2挟持部之侧；及第2移动部，在基板之挟持状态下，使2个挟持部与2个曝光部相对移动。曝光设备，系于挟持状态下，将2个挟持部之各个平坦面与2个曝光部及第2曝光部的距离保持固定且使第1及第2挟持部移动，进而将基板送至长边方向，并经由2个挟持部的透过部，同时对基板的两面进行曝光。

8. 发明专利

TWI468846B 照明裝置、曝光裝置以及元件製造方法有权
简体标题：照明设备、曝光设备以及组件制造方法
公开(公告)号：TWI468846B
公开(公告)日：2015-01-11
申请号：TW098140358
申请日：2009-11-26
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：菊池孝幸 , KIKUCHI, TAKAYUKI , 阿部文彦 , ABE, FUMIHIKO
IPC分类号： G03B27/54 , H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70791 , G03F7/7005 , G03F7/70275

9. 发明专利

TW201447502A 曝光裝置审中-公开
简体标题：曝光设备
公开(公告)号：TW201447502A
公开(公告)日：2014-12-16
申请号：TW103112963
申请日：2014-04-09
申请人：奧克製作所股份有限公司 , ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：奧山隆志 , OKUYAMA, TAKASHI
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F9/00 , G03F7/70291 , G03F7/70725 , G03F7/70775 , G03F7/70791
摘要：本發明的目的是使無光罩曝光裝置正確地檢測出圖樣形成位置。將第1光感測器群128A、128B以相對於主掃描方向分別傾斜+45°/-45°的方式配置，傾斜方向朝向彼此相反的方向。然後對第1光感測器群128A投影出傾斜於與第1光感測器群128A的排列方向垂直的方向上的第1位置檢測圖樣列HP，對第2光感測器群128B投影出傾斜於與第1光感測器群128A的排列方向垂直的方向上的第2位置檢測圖樣列IP。
简体摘要：本发明的目的是使无光罩曝光设备正确地检测出图样形成位置。将第1光传感器群128A、128B以相对于主扫描方向分别倾斜+45°/-45°的方式配置，倾斜方向朝向彼此相反的方向。然后对第1光传感器群128A投影出倾斜于与第1光传感器群128A的排列方向垂直的方向上的第1位置检测图样列HP，对第2光传感器群128B投影出倾斜于与第1光传感器群128A的排列方向垂直的方向上的第2位置检测图样列IP。

10. 发明专利

TWI457718B 對準方法、曝光方法、電子元件之製造方法、對準裝置及曝光裝置有权
简体标题：对准方法、曝光方法、电子组件之制造方法、对准设备及曝光设备
公开(公告)号：TWI457718B
公开(公告)日：2014-10-21
申请号：TW099102198
申请日：2010-01-27
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：福井達雄 , FUKUI, TATSUO
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70775 , G03F7/70791 , G03F9/7015 , G03F9/7088

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