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41. 发明专利

TWI671365B 皮膜及其形成方法有权
公开(公告)号：TWI671365B
公开(公告)日：2019-09-11
申请号：TW107107106
申请日：2018-03-02
申请人：日商IHI股份有限公司 , IHI CORPORATION , 日商都卡洛股份有限公司 , TOCALO CO.,LTD
发明人：佐藤直樹 , SATO, NAOKI , 久保田伸彦 , KUBOTA, NOBUHIKO , 濱田行貴 , HAMADA, KOKI , 水津竜夫 , SUIDZU, TATSUO , 竹內一浩 , TAKEUCHI, KAZUHIRO
IPC分类号： C09D1/00 , B05D3/02 , B05D5/08 , B05D7/24 , B08B17/02 , F23J3/00 , F22B37/10 , F28F19/02

42. 发明专利

TWI616558B 電漿處理裝置用的零件的製造方法有权
简体标题：等离子处理设备用的零件的制造方法
公开(公告)号：TWI616558B
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW104130520
申请日：2015-09-16
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED , 都卡洛股份有限公司 , TOCALO CO., LTD.
发明人：長山將之 , NAGAYAMA, NOBUYUKI , 三橋康至 , MITSUHASHI, KOJI , 虻川志向 , ABUKAWA, SHIKOU , 永井正也 , NAGAI, MASAYA , 金澤義典 , KANAZAWA, YOSHINORI , 仁矢鐵也 , NIYA, TETSUYA
IPC分类号： C23C4/12 , C23C4/06 , C23C4/08 , C23C4/10
CPC分类号： C23C4/06 , C23C4/01 , C23C4/02 , C23C4/11 , C23C4/131 , C23C28/042

43. 发明专利

TW201734223A 金屬陶瓷粉末、保護皮膜被覆構件及其製造方法、暨電鍍浴中輥及其製造方法审中-公开
简体标题：金属陶瓷粉末、保护皮膜被覆构件及其制造方法、暨电镀浴中辊及其制造方法
公开(公告)号：TW201734223A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW106105245
申请日：2017-02-17
申请人：杰富意鋼鐵股份有限公司 , JFE STEEL CORPORATION , 都卡洛股份有限公司 , TOCALO CO., LTD.
发明人：馬場雄也 , BABA, YUYA , 竹內純一 , TAKEUCHI, JUNICHI , 小林圭史 , KOBAYASHI, YOSHIFUMI
IPC分类号： C22C19/05 , C22C29/08 , C23C4/04 , C25D7/06 , C25D17/10
CPC分类号： C22C29/08 , C23C4/06 , C23C4/10 , C25D7/06
摘要：本發明提供一種可製作兼具較高之耐磨耗性及對pH未滿1之強酸較高之耐蝕性之金屬陶瓷皮膜的金屬陶瓷粉末。本發明之金屬陶瓷粉末之特徵在於包含40質量%以上之碳化鎢粒子、10~40質量%之碳化鉬粒子、及作為基質金屬之Ni或Ni合金，且進而含有8質量%以上之鉻作為碳化物或上述基質金屬中所包含之金屬或合金元素。
简体摘要：本发明提供一种可制作兼具较高之耐磨耗性及对pH未满1之强酸较高之耐蚀性之金属陶瓷皮膜的金属陶瓷粉末。本发明之金属陶瓷粉末之特征在于包含40质量%以上之碳化钨粒子、10~40质量%之碳化钼粒子、及作为基质金属之Ni或Ni合金，且进而含有8质量%以上之铬作为碳化物或上述基质金属中所包含之金属或合金元素。

44. 发明专利

TWI597773B 電漿處理裝置及電漿處理方法有权
简体标题：等离子处理设备及等离子处理方法
公开(公告)号：TWI597773B
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW101145748
申请日：2012-12-05
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED , 都卡洛股份有限公司 , TOCALO CO., LTD.
发明人：西野雅 , NISHINO, MASARU , 真壁正嗣 , MAKABE, MASATSUGU , 長山將之 , NAGAYAMA, NOBUYUKI , 半田達也 , HANDA, TATSUYA , 綠川良太郎 , MIDORIKAWA, RYOTARO , 小林啟悟 , KOBAYASHI, KEIGO , 仁矢鐵也 , NIYA, TETSUYA
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H05H1/46 , H01J37/32477 , H01J37/32495

45. 发明专利

TW201633839A 面狀發熱體及具備面狀發熱體的半導體製造裝置审中-公开
简体标题：面状发热体及具备面状发热体的半导体制造设备
公开(公告)号：TW201633839A
公开(公告)日：2016-09-16
申请号：TW104111552
申请日：2015-04-10
申请人： TOCALO股份有限公司 , TOCALO CO., LTD.
发明人：山崎良 , YAMASAKI, RYO , 稻葉光晴 , INABA, MITSUHARU , 山野英明 , YAMANO, HIDEAKI , 田口研良 , TAGUCHI, KENSUKE
IPC分类号： H05B3/20 , H01L21/3065
CPC分类号： H05B3/20
摘要：本發明的課題為提供一種可使對象物的加熱時的電阻發熱體的彎曲部中的溫度分布均勻，並且升溫時及降溫時的響應性也良好之面狀發熱體及使用面狀發熱體的半導體製造裝置。本發明的解決手段為一種面狀發熱體，將電阻發熱體31-1配置成圖案狀，在配置成圖案狀的電阻發熱體的彎曲部配設沿著該電阻發熱體的延伸方向延伸的至少一條開縫32-1。【代表圖】
简体摘要：本发明的课题为提供一种可使对象物的加热时的电阻发热体的弯曲部中的温度分布均匀，并且升温时及降温时的响应性也良好之面状发热体及使用面状发热体的半导体制造设备。本发明的解决手段为一种面状发热体，将电阻发热体31-1配置成图案状，在配置成图案状的电阻发热体的弯曲部配设沿着该电阻发热体的延伸方向延伸的至少一条开缝32-1。【代表图】

46. 发明专利

TW201631182A 熔射用粉末、熔射皮膜、皮膜及熔融金屬浴中輥审中-公开
简体标题：熔射用粉末、熔射皮膜、皮膜及熔融金属浴中辊
公开(公告)号：TW201631182A
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW104135431
申请日：2015-10-28
申请人：都卡洛股份有限公司 , TOCALO CO., LTD. , 福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：水津竜夫 , SUIDZU, TATSUO , 安尾典之 , YASUO, NORIYUKI , 高畠剛 , TAKABATAKE, TAKESHI , 水野宏昭 , MIZUNO, HIROAKI , 益田敬也 , MASUDA, TAKAYA , 久野達也 , KUNO, TATSUYA
IPC分类号： C23C4/06 , C23C4/10 , C25D17/06
CPC分类号： F16C13/00 , C22C1/1084 , C22C29/08 , C23C4/06 , C23C4/067 , C23C4/10 , C23C4/12
摘要：本發明之熔射用粉末，含有：選自W及Mo的第1元素、選自Co、Ni及Fe的第2元素、選自C及B的第3元素、以及選自Al及Mg的第4元素的構成元素，且所含的第2元素之量為20莫耳%以上。同時相對於熔射用粉末中的第2元素之第4元素的莫耳比為0.05以上0.5以下。熔射用粉末，並具有含有Co、Ni或Fe、與W、與C的結晶相，或者，含有Co、Ni或Fe、與W或Mo、與B的結晶相。而且熔射用粉末的X射線繞射光譜上屬於Co、Ni或Fe的波峰之強度，為在相同之X射線繞射光譜上所出現的最大波峰強度的0.1倍以下。
简体摘要：本发明之熔射用粉末，含有：选自W及Mo的第1元素、选自Co、Ni及Fe的第2元素、选自C及B的第3元素、以及选自Al及Mg的第4元素的构成元素，且所含的第2元素之量为20莫耳%以上。同时相对于熔射用粉末中的第2元素之第4元素的莫耳比为0.05以上0.5以下。熔射用粉末，并具有含有Co、Ni或Fe、与W、与C的结晶相，或者，含有Co、Ni或Fe、与W或Mo、与B的结晶相。而且熔射用粉末的X射线绕射光谱上属于Co、Ni或Fe的波峰之强度，为在相同之X射线绕射光谱上所出现的最大波峰强度的0.1倍以下。

47. 发明专利

TW201623658A 爐輥及其製造方法审中-公开
简体标题：炉辊及其制造方法
公开(公告)号：TW201623658A
公开(公告)日：2016-07-01
申请号：TW104132529
申请日：2015-10-02
申请人：新日鐵住金股份有限公司 , NIPPON STEEL & SUMITOMO METAL CORPORATION , 托卡洛股份有限公司 , TOCALO CO., LTD.
发明人：栗栖泰 , KURISU, YASUSHI , 水津龍夫 , SUIDZU, TATSUO
IPC分类号： C23C4/18
CPC分类号： F27D3/026 , B65H27/00 , B65H2401/12 , B65H2401/13 , B65H2404/187 , B65H2404/5322 , B65H2701/173 , C21D9/56 , C21D9/563 , C22C29/005 , C22C29/02 , C22C29/06 , C22C29/12 , C23C4/06 , C23C4/10 , C23C4/18 , C23C22/24 , C23C28/00 , C23C28/30 , C23C28/321 , C23C28/345 , C23C28/36 , F27B9/28 , F27B9/30
摘要：一種爐輥，係具備：爐輥基材；熔射皮膜，其係形成在前述爐輥基材上；改質皮膜，其係形成在前述熔射皮膜上，且係藉由對前述熔射皮膜的表面的一部分或全面照射能量射束，使前述熔射皮膜熔融、凝固且使前述熔射皮膜部分或全面地改質而成；前述改質皮膜的厚度為2~20μm，前述改質皮膜的維氏硬度HV係前述熔射皮膜的維氏硬度HV之1.2~1.4倍。
简体摘要：一种炉辊，系具备：炉辊基材；熔射皮膜，其系形成在前述炉辊基材上；改质皮膜，其系形成在前述熔射皮膜上，且系借由对前述熔射皮膜的表面的一部分或全面照射能量射束，使前述熔射皮膜熔融、凝固且使前述熔射皮膜部分或全面地改质而成；前述改质皮膜的厚度为2~20μm，前述改质皮膜的维氏硬度HV系前述熔射皮膜的维氏硬度HV之1.2~1.4倍。

48. 发明专利

TWI500817B 氟化物熱噴塗皮膜的形成方法及氟化物熱噴塗皮膜被覆構件有权
简体标题：氟化物热喷涂皮膜的形成方法及氟化物热喷涂皮膜被覆构件
公开(公告)号：TWI500817B
公开(公告)日：2015-09-21
申请号：TW101147973
申请日：2012-12-18
申请人：東華隆股份有限公司 , TOCALO CO., LTD
发明人：原田良夫 , HARADA, YOSHIO , 戶越健一郎 , TOGOE, KENICHIRO
IPC分类号： C23C4/04
CPC分类号： C23C4/10 , C23C4/02 , C23C4/04 , C23C4/129 , C23C4/134 , Y10T428/24413

49. 发明专利

TWI470702B 基板處理裝置及用於基板處理裝置中之反應管的表面之塗佈膜之形成方法有权
简体标题：基板处理设备及用于基板处理设备中之反应管的表面之涂布膜之形成方法
公开(公告)号：TWI470702B
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：TW101108590
申请日：2012-03-14
申请人：日立國際電氣股份有限公司 , HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. , 都卡洛股份有限公司 , TOCALO CO., LTD.
发明人：西谷英輔 , NISHITANI, EISUKE , 國井泰夫 , KUNII, YASUO , 豐田一行 , TOYODA, KAZUYUKI , 檜山耕作 , HIYAMA, KOSAKU , 中筋智博 , NAKASUJI, TOMOHIRO , 濱口龍哉 , HAMAGUCHI, TATSUYA , 宮島生欣 , MIYAJIMA, KIYOSHI
IPC分类号： H01L21/365 , H01L31/04
CPC分类号： H01L21/67109 , H01L21/67754 , H01L31/18 , Y02E10/541 , Y02P70/521

50. 发明专利

TW201347079A 靜電吸盤及靜電吸盤的製造方法审中-公开
简体标题：静电吸盘及静电吸盘的制造方法
公开(公告)号：TW201347079A
公开(公告)日：2013-11-16
申请号：TW102109959
申请日：2013-03-21
申请人： TOCALO股份有限公司 , TOCALO CO., LTD.
发明人：山崎良 , YAMASAKI, RYO , 稻葉光晴 , INABA, MITSUHARU , 田口研良 , TAGUCHI, KENSUKE
IPC分类号： H01L21/683
CPC分类号： H01L21/6833 , C23C4/01 , C23C4/11 , C23C4/12 , H01L21/67103 , H01L21/6831 , H02N13/00
摘要：本發明的課題為提供一種不存在使用接著劑的情形下的缺點，並且設計的自由度高之靜電吸盤及靜電吸盤的製造方法。本發明的解決手段為一種靜電吸盤1，包含:構成吸盤本體之基部材2；形成於基部材2的表面2a之由熔射塗膜構成的第一絕緣層3；將導電性糊塗佈於第一絕緣層3的表面3a而形成之由導體構成的加熱器部4；形成於第一絕緣層3的表面3a以覆蓋加熱器部4之由熔射塗膜構成的第二絕緣層5，熔射於第二絕緣層5的表面5a而形成之電極部6；形成於第二絕緣層5的表面5a以覆蓋電極部6之由熔射塗膜構成的介電層7，不使用接著劑而降低加熱器部4的體積電阻率。
简体摘要：本发明的课题为提供一种不存在使用接着剂的情形下的缺点，并且设计的自由度高之静电吸盘及静电吸盘的制造方法。本发明的解决手段为一种静电吸盘1，包含:构成吸盘本体之基部材2；形成于基部材2的表面2a之由熔射涂膜构成的第一绝缘层3；将导电性煳涂布于第一绝缘层3的表面3a而形成之由导体构成的加热器部4；形成于第一绝缘层3的表面3a以覆盖加热器部4之由熔射涂膜构成的第二绝缘层5，熔射于第二绝缘层5的表面5a而形成之电极部6；形成于第二绝缘层5的表面5a以覆盖电极部6之由熔射涂膜构成的介电层7，不使用接着剂而降低加热器部4的体积电阻率。

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