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1. 发明专利

TWI647336B 複合多孔結構之製備方法及複合多孔結構有权
简体标题：复合多孔结构之制备方法及复合多孔结构
公开(公告)号：TWI647336B
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：TW107108292
申请日：2018-03-12
申请人：承鴻工業股份有限公司
发明人：李雨霖 , 康朝翔
IPC分类号： C23C4/02 , C23C4/12 , C08J9/00 , B01D69/02 , B01D69/10

2. 发明专利

TWI616558B 電漿處理裝置用的零件的製造方法有权
简体标题：等离子处理设备用的零件的制造方法
公开(公告)号：TWI616558B
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW104130520
申请日：2015-09-16
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED , 都卡洛股份有限公司 , TOCALO CO., LTD.
发明人：長山將之 , NAGAYAMA, NOBUYUKI , 三橋康至 , MITSUHASHI, KOJI , 虻川志向 , ABUKAWA, SHIKOU , 永井正也 , NAGAI, MASAYA , 金澤義典 , KANAZAWA, YOSHINORI , 仁矢鐵也 , NIYA, TETSUYA
IPC分类号： C23C4/12 , C23C4/06 , C23C4/08 , C23C4/10
CPC分类号： C23C4/06 , C23C4/01 , C23C4/02 , C23C4/11 , C23C4/131 , C23C28/042

3. 发明专利

TWI576464B 使熱電活性材料以電漿塗覆鎳與錫的方法有权
简体标题：使热电活性材料以等离子涂覆镍与锡的方法
公开(公告)号：TWI576464B
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW104131632
申请日：2015-09-24
申请人：贏創德固賽有限責任公司 , EVONIK DEGUSSA GMBH
发明人：巴希詹斯 , BUSSE, JENS , 浩克莎夏 , HOCH, SASCHA , 肯恩梅達莉娜 , KERN, MAGDALENA , 蓋斯勒瑪瑞可 , GIESSELER, MAREIKE , 舒茲索斯丹 , SCHULTZ, THORSTEN , 史坦納派翠克 , STENNER, PATRIK
IPC分类号： C23C4/06 , C23C4/12
CPC分类号： C23C4/08 , C23C4/134 , H01L35/08 , H01L35/34

4. 发明专利

TW201704504A 塗佈表面之方法审中-公开
简体标题：涂布表面之方法
公开(公告)号：TW201704504A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW105105354
申请日：2016-02-24
申请人：蘭姆研究公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：黃麗華李 , HUANG, LIHUA LI , 巴頓伊凡 E , PATTON, EVAN E. , 波皮歐卡瓦斯基亞倫 , POPIOLKOWSKI, ALAN , 理察森貝瑞特 C , RICHARDSON, BRETT C. , 石洪 , SHIH, HONG
IPC分类号： C23C4/10 , C23C4/12 , H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32495 , C23C4/04 , C23C4/11 , C23C4/18
摘要：提供在基材範圍設置保護層的方法。在基材的範圍沉積陶瓷層，其中該陶瓷層具有多孔性。對陶瓷層的一區域提供局域化加熱，達到導致該陶瓷層熔融而不損傷該基材的溫度，其中該陶瓷層的熔融使孔隙率降低、或密封件裂紋、或柱狀晶界。在該陶瓷層的範圍，對藉由該局域化加熱而受熱之該陶瓷層的該區域進行掃描。
简体摘要：提供在基材范围设置保护层的方法。在基材的范围沉积陶瓷层，其中该陶瓷层具有多孔性。对陶瓷层的一区域提供局域化加热，达到导致该陶瓷层熔融而不损伤该基材的温度，其中该陶瓷层的熔融使孔隙率降低、或密封件裂纹、或柱状晶界。在该陶瓷层的范围，对借由该局域化加热而受热之该陶瓷层的该区域进行扫描。

5. 发明专利

TW201634714A 审中-公开
公开(公告)号：TW201634714A
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW104108909
申请日：2015-03-20
申请人： AEROSPACE IND DEV CORP
发明人： TSAI CHEN-HUEI
IPC分类号： C23C4/00 , B05B1/24 , B05B1/34 , B05B15/00 , C23C4/02 , C23C4/10 , C23C4/12

6. 发明专利

TW201617220A 金屬與樹脂的複合體的製備方法审中-公开
简体标题：金属与树脂的复合体的制备方法
公开(公告)号：TW201617220A
公开(公告)日：2016-05-16
申请号：TW103137135
申请日：2014-10-28
申请人：富智康(香港)有限公司 , FIH (HONG KONG) LIMITED
发明人：姜傳華 , CHIANG, CHWAN-HWA , 王杰祥 , WANG, CHIEH-HSIANG
IPC分类号： B32B15/04 , C23C28/00 , C23C4/12 , C23C24/08 , C23C26/02
CPC分类号： B32B15/08 , B29C45/14008 , B29C45/14311 , B29C45/14778 , B29C2045/14868 , B29C2045/14885 , B29K2705/00 , B29L2009/003 , B29L2009/005 , B32B15/082 , B32B15/09 , B32B15/18 , B32B15/20 , B32B27/285 , B32B27/286 , B32B27/288 , B32B27/304 , B32B27/36 , B32B27/365 , B32B2255/06 , B32B2255/20 , B32B2255/28 , B32B2264/10 , B32B2264/105 , B32B2264/107 , B32B2305/026 , B32B2307/538 , B32B2509/00 , B32B2605/08
摘要：一種金屬與樹脂的複合體，包括金屬件與形成於金屬件表面的樹脂件，該金屬件的表面形成有一噴塗層，該噴塗層的表面具有若干微孔，該樹脂件面向該金屬件的部分樹脂流入至該噴塗層的微孔中而與金屬件結合為一體，該噴塗層的材質為無機材料。本發明還提供一種該金屬與樹脂的複合體的製備方法。
简体摘要：一种金属与树脂的复合体，包括金属件与形成于金属件表面的树脂件，该金属件的表面形成有一喷涂层，该喷涂层的表面具有若干微孔，该树脂件面向该金属件的部分树脂流入至该喷涂层的微孔中而与金属件结合为一体，该喷涂层的材质为无机材料。本发明还提供一种该金属与树脂的复合体的制备方法。

7. 发明专利

TW201500583A 噴塗用漿料、噴塗被膜、及噴塗被膜之形成方法审中-公开
简体标题：喷涂用浆料、喷涂被膜、及喷涂被膜之形成方法
公开(公告)号：TW201500583A
公开(公告)日：2015-01-01
申请号：TW103108410
申请日：2014-03-11
申请人：福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：北村順也 , KITAMURA, JUNYA , 水野宏昭 , MIZUNO, HIROAKI , 佐藤和人 , SATO, KAZUTO , 都築一志 , TSUZUKI, KAZUYUKI
IPC分类号： C23C4/10 , C23C4/12 , B05D7/24 , B05D1/08 , B05D1/02 , B28B1/32
CPC分类号： C09D133/02 , C08K3/22 , C08K5/05 , C08K5/06 , C08K2003/221 , C08K2003/2227 , C23C4/11
摘要：本發明之噴塗用漿料，係以10質量%以上、85質量%以下之量來含有陶瓷粒子，且具有3000mPa．s以下之黏度。陶瓷粒子具有例如1nm以上、5μm以下之平均粒子徑。噴塗用漿料亦可進一步含有分散劑。噴塗用漿料亦可進一步含有黏度調整劑。噴塗用漿料亦可進一步含有凝集劑。
简体摘要：本发明之喷涂用浆料，系以10质量%以上、85质量%以下之量来含有陶瓷粒子，且具有3000mPa．s以下之黏度。陶瓷粒子具有例如1nm以上、5μm以下之平均粒子径。喷涂用浆料亦可进一步含有分散剂。喷涂用浆料亦可进一步含有黏度调整剂。喷涂用浆料亦可进一步含有凝集剂。

8. 发明专利

TW201325729A 電漿成膜裝置审中-公开
简体标题：等离子成膜设备
公开(公告)号：TW201325729A
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW100148722
申请日：2011-12-26
申请人：鴻海精密工業股份有限公司 , HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.
发明人：裴紹凱 , PEI, SHAO KAI
IPC分类号： B05B15/04 , B05B7/22 , C23C4/12
CPC分类号： C23C14/228 , C23C14/32 , H01J37/3244 , H01J37/32669
摘要：本發明公開一種電漿成膜裝置，其包括成膜室、設置於該成膜室內之電漿發生器及向該成膜室提供氣體之供氣系統。電漿發生器噴出電漿射流並形成電漿射流區域。電漿成膜裝置還包括轉動地設置於電漿發生器周圍之複數氣體載流板，供氣系統給氣體載流板提供氣體，氣體經由氣體載流板射向電漿射流區域。藉由轉動氣體載流板能夠改變電漿射流區域之形狀。
简体摘要：本发明公开一种等离子成膜设备，其包括成膜室、设置于该成膜室内之等离子发生器及向该成膜室提供气体之供气系统。等离子发生器喷出等离子射流并形成等离子射流区域。等离子成膜设备还包括转动地设置于等离子发生器周围之复数气体载流板，供气系统给气体载流板提供气体，气体经由气体载流板射向等离子射流区域。借由转动气体载流板能够改变等离子射流区域之形状。

9. 发明专利

TWI392768B 塗覆基材表面之方法及經塗覆的產品有权
简体标题：涂覆基材表面之方法及经涂覆的产品
公开(公告)号：TWI392768B
公开(公告)日：2013-04-11
申请号：TW095115826
申请日：2006-05-04
申请人： H.C.史達克有限公司 , H. C. STARCK GMBH
发明人：史帝芬 , ZIMMERMANN, STEFAN , 玉派普 , PAPP, UWE , 韓瑞奇 , KREYE, HEINRICH , 托比斯 , SCHMIDT, TOBIAS
IPC分类号： C23C4/12 , C23C4/06 , C23C24/04
CPC分类号： C23C24/04 , C22C14/00 , C22C27/02 , C22C27/04 , C22C30/00 , C23C4/06 , C23C4/137 , Y10T428/12014 , Y10T428/12028 , Y10T428/13 , Y10T428/31678

10. 发明专利

TW202007781A 電漿噴塗系統及方法审中-公开
简体标题：等离子喷涂系统及方法
公开(公告)号：TW202007781A
公开(公告)日：2020-02-16
申请号：TW108126551
申请日：2019-07-26
申请人：美商萊登股份有限公司 , LYTEN, INC.
发明人：史托威爾麥可 W , STOWELL, MICHAEL W. , 庫克丹尼爾 , COOK, DANIEL , 庫茲喬伊 G , CRUZ, JOE GRIFFITH , 里索湯瑪斯 , RISO, THOMAS
IPC分类号： C23C4/12 , H05H1/34 , B05B7/18
摘要：電漿噴塗系統包含多個區，其中可獨立地控制該等系統內之不同製程所需的能量。在一些實施例中，一種電漿噴塗系統包含一第一區，其中使用一第一能量輸入自靶材料產生離子物質，且該等離子物質在該第一區中結合以形成複數個微粒，或在輸入至該第一區中之複數個輸入微粒上形成塗層。該電漿噴塗系統可進一步包含一第二區，該第二區包含耦合至一微波能量源之一腔室，該微波能量源使該複數個微粒離子化以形成複數個離子化微粒且形成一電漿噴流。該電漿噴塗系統可進一步包含一第三區，該第三區包含一電場以使該複數個離子化微粒加速且形成一電漿噴塗物。
简体摘要：等离子喷涂系统包含多个区，其中可独立地控制该等系统内之不同制程所需的能量。在一些实施例中，一种等离子喷涂系统包含一第一区，其中使用一第一能量输入自靶材料产生离子物质，且该等离子物质在该第一区中结合以形成复数个微粒，或在输入至该第一区中之复数个输入微粒上形成涂层。该等离子喷涂系统可进一步包含一第二区，该第二区包含耦合至一微波能量源之一腔室，该微波能量源使该复数个微粒离子化以形成复数个离子化微粒且形成一等离子喷流。该等离子喷涂系统可进一步包含一第三区，该第三区包含一电场以使该复数个离子化微粒加速且形成一等离子喷涂物。

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