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1. 发明专利

TWI649189B 鐵製地下管件的外塗層、塗層管件、以及沉積外塗層的方法有权
简体标题：铁制地下管件的外涂层、涂层管件、以及沉积外涂层的方法
公开(公告)号：TWI649189B
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：TW103129131
申请日：2014-08-25
申请人：聖戈班帕姆 , SAINT-GOBAIN PAM
发明人：邦迪爾奧立佛 , BONDIL, OLIVIER , 淖爾杰拉德 , NOUAIL, GERARD , 彼得烏特爾珍馬克 , PEDEUTOUR, JEAN-MARC
IPC分类号： B32B15/00 , B32B27/36 , B32B27/18 , B32B5/18 , B32B3/00 , C23C28/00 , C23C4/06 , C23C4/18 , F16L58/08 , F16L58/10

2. 发明专利

TW201621066A 電漿處理設備之內部構件以及其製造方法审中-公开
简体标题：等离子处理设备之内部构件以及其制造方法
公开(公告)号：TW201621066A
公开(公告)日：2016-06-16
申请号：TW104136931
申请日：2015-11-10
申请人：台灣高美可科技股份有限公司 , KOMICO TECHNOLOGY TAIWAN LTD.
发明人：李省勳 , LEE, SUNG HOON , 鄭東勳 , JEONG, DONG HUN , 高賢哲 , KO, HYUN CHUL
IPC分类号： C23C4/12 , C23C4/18 , C23C4/04
摘要：一種電漿處理設備之內部構件的製造方法，噴塗層使用第一陶瓷材料形成於真空腔室的內部部件上，真空腔室用於提供電漿處理空間。藉由熔融製程以熔融噴塗層的表面，而形成粒子分佈比噴塗層密集的表面熔融層。於熔融過程當中，形成的熱裂紋，藉由於表面熔融層上填補包括第二陶瓷材料的修補材料而修補。
简体摘要：一种等离子处理设备之内部构件的制造方法，喷涂层使用第一陶瓷材料形成于真空腔室的内部部件上，真空腔室用于提供等离子处理空间。借由熔融制程以熔融喷涂层的表面，而形成粒子分布比喷涂层密集的表面熔融层。于熔融过程当中，形成的热裂纹，借由于表面熔融层上填补包括第二陶瓷材料的修补材料而修补。

3. 发明专利

TW201319319A 熔射塗膜中的緻密化層的形成方法、及熔射塗膜包覆構件审中-公开
简体标题：熔射涂膜中的致密化层的形成方法、及熔射涂膜包覆构件
公开(公告)号：TW201319319A
公开(公告)日：2013-05-16
申请号：TW101122155
申请日：2012-06-21
申请人： TOCALO股份有限公司 , TOCALO CO., LTD.
发明人：稻葉光晴 , INABA, MITSUHARU , 横田博紀 , YOKOTA, HIROKI
IPC分类号： C23C4/18
CPC分类号： B05D3/06 , B23K26/0608 , B23K26/0853 , B23K26/34 , C23C4/10 , C23C4/18
摘要：本發明的課題為提供一種可一邊防止過大的裂痕的產生，一邊形成得到充分的效果的緻密化層，並且不招致成本上升的熔射塗膜中的緻密化層的形成方法、及熔射塗膜包覆構件。本發明的解決手段為藉由在掃描於Al2O3熔射塗膜5的表面5a時，朝掃描方向先使其掃描之居先雷射束20，和在與該居先雷射束20同一軌跡上追蹤並使其掃描之追蹤雷射束21構成使Al2O3熔射塗膜5的表層6的塗膜組成物再熔融、再凝固的高能束，一邊使居先雷射束20掃描於Al2O3熔射塗膜5的表面5a，一邊照射，並且一邊使追蹤雷射束21掃描於以該居先雷射束20掃描過的被照射區域22，一邊重複照射，使該被照射區域22的表層6緻密化。
简体摘要：本发明的课题为提供一种可一边防止过大的裂痕的产生，一边形成得到充分的效果的致密化层，并且不招致成本上升的熔射涂膜中的致密化层的形成方法、及熔射涂膜包覆构件。本发明的解决手段为借由在扫描于Al2O3熔射涂膜5的表面5a时，朝扫描方向先使其扫描之居先激光束20，和在与该居先激光束20同一轨迹上追踪并使其扫描之追踪激光束21构成使Al2O3熔射涂膜5的表层6的涂膜组成物再熔融、再凝固的高能束，一边使居先激光束20扫描于Al2O3熔射涂膜5的表面5a，一边照射，并且一边使追踪激光束21扫描于以该居先激光束20扫描过的被照射区域22，一边重复照射，使该被照射区域22的表层6致密化。

4. 发明专利

TW201833347A 靜電吸座的新式修復方法审中-公开
简体标题：静电吸座的新式修复方法
公开(公告)号：TW201833347A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW106143521
申请日：2017-12-12
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：博德二世溫德爾格倫 , BOYD, JR., WENDELL GLEN
IPC分类号： C23C4/02 , C23C4/04 , C23C4/134 , C23C4/18 , H01L21/683
摘要：本揭示內容的實施例與翻新燒結或電漿噴塗的靜電吸座之方法有關。起初，將使用過之靜電吸座主體的一部分移除，以暴露基部表面。接著，使用懸浮漿料電漿噴塗製程，將新的介電材料層沉積至基部表面上。懸浮漿料電漿噴塗製程可將奈米尺寸的介電材料之懸浮漿料霧化成為滴粒流，且接著所述滴粒流被注入電漿放電內，以形成部分地熔融之液滴。將部分地熔融之液滴投射在基部表面上，以在基部表面上形成介電材料層。隨後，選擇性地移除所述新的介電材料層之材料，以形成台面。在清潔後，經翻新的靜電吸座已準備好恢復使用。
简体摘要：本揭示内容的实施例与翻新烧结或等离子喷涂的静电吸座之方法有关。起初，将使用过之静电吸座主体的一部分移除，以暴露基部表面。接着，使用悬浮浆料等离子喷涂制程，将新的介电材料层沉积至基部表面上。悬浮浆料等离子喷涂制程可将奈米尺寸的介电材料之悬浮浆料雾化成为滴粒流，且接着所述滴粒流被注入等离子放电内，以形成部分地熔融之液滴。将部分地熔融之液滴投射在基部表面上，以在基部表面上形成介电材料层。随后，选择性地移除所述新的介电材料层之材料，以形成台面。在清洁后，经翻新的静电吸座已准备好恢复使用。

5. 发明专利

TWI598466B 熔射用組成物及熔射層有权
简体标题：熔射用组成物及熔射层
公开(公告)号：TWI598466B
公开(公告)日：2017-09-11
申请号：TW106111103
申请日：2017-03-31
申请人：漢泰國際電子股份有限公司
发明人：張國欽 , 王家煒 , 黃俊壬 , 楊景勝
IPC分类号： C23C4/11 , C23C4/18 , G03F7/20 , H01L21/027

6. 发明专利

TW201623658A 爐輥及其製造方法审中-公开
简体标题：炉辊及其制造方法
公开(公告)号：TW201623658A
公开(公告)日：2016-07-01
申请号：TW104132529
申请日：2015-10-02
申请人：新日鐵住金股份有限公司 , NIPPON STEEL & SUMITOMO METAL CORPORATION , 托卡洛股份有限公司 , TOCALO CO., LTD.
发明人：栗栖泰 , KURISU, YASUSHI , 水津龍夫 , SUIDZU, TATSUO
IPC分类号： C23C4/18
CPC分类号： F27D3/026 , B65H27/00 , B65H2401/12 , B65H2401/13 , B65H2404/187 , B65H2404/5322 , B65H2701/173 , C21D9/56 , C21D9/563 , C22C29/005 , C22C29/02 , C22C29/06 , C22C29/12 , C23C4/06 , C23C4/10 , C23C4/18 , C23C22/24 , C23C28/00 , C23C28/30 , C23C28/321 , C23C28/345 , C23C28/36 , F27B9/28 , F27B9/30
摘要：一種爐輥，係具備：爐輥基材；熔射皮膜，其係形成在前述爐輥基材上；改質皮膜，其係形成在前述熔射皮膜上，且係藉由對前述熔射皮膜的表面的一部分或全面照射能量射束，使前述熔射皮膜熔融、凝固且使前述熔射皮膜部分或全面地改質而成；前述改質皮膜的厚度為2~20μm，前述改質皮膜的維氏硬度HV係前述熔射皮膜的維氏硬度HV之1.2~1.4倍。
简体摘要：一种炉辊，系具备：炉辊基材；熔射皮膜，其系形成在前述炉辊基材上；改质皮膜，其系形成在前述熔射皮膜上，且系借由对前述熔射皮膜的表面的一部分或全面照射能量射束，使前述熔射皮膜熔融、凝固且使前述熔射皮膜部分或全面地改质而成；前述改质皮膜的厚度为2~20μm，前述改质皮膜的维氏硬度HV系前述熔射皮膜的维氏硬度HV之1.2~1.4倍。

7. 发明专利

TW201339367A 白色氟化物噴塗皮膜之黑化方法及於表面具有黑色層之氟化物噴塗皮膜被覆構件审中-公开
简体标题：白色氟化物喷涂皮膜之黑化方法及于表面具有黑色层之氟化物喷涂皮膜被覆构件
公开(公告)号：TW201339367A
公开(公告)日：2013-10-01
申请号：TW102103867
申请日：2013-02-01
申请人：東華隆股份有限公司 , TOCALO CO., LTD
发明人：原田良夫 , HARADA, YOSHIO , 寺谷武馬 , TERATANI, TAKEMA , 三木真哉 , MIKI, SHINYA , 戶越健一郎 , TOGOE, KENICHIRO
IPC分类号： C23C4/18 , C23C4/10 , C23C14/48
CPC分类号： C23C14/48 , C23C4/04 , C23C4/18 , Y10T428/24802
摘要：本發明之課題係提供一種構件，其係具有優越之特性，該特性為氟化物噴塗皮膜所特有之優越之耐鹵素腐蝕性或對耐電漿侵蝕性等(化學/物理特性)之特性；及提案一種”黑化”技術，其係使文字或數字、圖形、圖樣、或是公司名稱或製造編號等之識別記號等顯示，藉此而使作為各種構件之工業製品的品質保證或設計性提高。本發明之解決手段係藉由針對在基材表面所形成的白色氟化物噴塗皮膜注入由含F氣體、氧氣體及惰性氣體所選出的任1種以上之注入氣體離子，而使該白色氟化物噴塗皮膜表面至少一部分變成黑色後形成黑色之離子注入層。
简体摘要：本发明之课题系提供一种构件，其系具有优越之特性，该特性为氟化物喷涂皮膜所特有之优越之耐卤素腐蚀性或对耐等离子侵蚀性等(化学/物理特性)之特性；及提案一种”黑化”技术，其系使文本或数字、图形、图样、或是公司名称或制造编号等之识别记号等显示，借此而使作为各种构件之工业制品的品质保证或设计性提高。本发明之解决手段系借由针对在基材表面所形成的白色氟化物喷涂皮膜注入由含F气体、氧气体及惰性气体所选出的任1种以上之注入气体离子，而使该白色氟化物喷涂皮膜表面至少一部分变成黑色后形成黑色之离子注入层。

8. 发明专利

TWI647321B 表面改質構件的製造方法有权
简体标题：表面改质构件的制造方法
公开(公告)号：TWI647321B
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：TW105120246
申请日：2016-06-28
申请人： TOCALO股份有限公司 , TOCALO CO., LTD.
发明人：横田博紀 , YOKOTA, HIROKI , 福士達也 , FUKUSHI, TATSUYA , 水津竜夫 , SUIDZU, TATSUO
IPC分类号： C22F3/00 , H01L21/302 , C23C4/18

9. 发明专利

TWI628371B 改質煞車碟盤之製造方法有权
简体标题：改质煞车碟盘之制造方法
公开(公告)号：TWI628371B
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW105112977
申请日：2016-04-26
申请人：國立雲林科技大學
发明人：張世穎 , 劉至曜 , 黃彥樺 , 梁宸睿 , 陳銘均
IPC分类号： F16D65/12 , C23C4/08 , C23C4/18

10. 发明专利

TWI591210B 電漿處理設備之內部構件以及其製造方法有权
简体标题：等离子处理设备之内部构件以及其制造方法
公开(公告)号：TWI591210B
公开(公告)日：2017-07-11
申请号：TW104136931
申请日：2015-11-10
申请人：台灣高美可科技股份有限公司 , KOMICO TECHNOLOGY TAIWAN LTD.
发明人：李省勳 , LEE, SUNG HOON , 鄭東勳 , JEONG, DONG HUN , 高賢哲 , KO, HYUN CHUL
IPC分类号： C23C4/12 , C23C4/18 , C23C4/04

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