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    • 2. 发明公开
    • 하전 입자선 장치 및 주사 전자 현미경
    • 带电粒子线装置和扫描电子显微镜
    • KR1020170108996A
    • 2017-09-27
    • KR1020177023838
    • 2015-12-03
    • 마쯔사다 프리지션 인코포레이티드
    • 쿠마모토카즈야마쯔다사다요시
    • H01J37/141H01J37/20H01J37/28
    • H01J37/21H01J37/141H01J37/20H01J37/244H01J37/28
    • 본발명은, 하전입자선장치의성능향상을도모한다. 하전입자선장치는, 하전입자원(11)과, 하전입자원(11)으로부터방출되는하전입자선(12)을가속하기위해설치되는, 하전입자원(11)에접속된가속전원(14)과, 하전입자선(12)을시료(23)에집속시키는대물렌즈(26)를가진다. 대물렌즈(26)는시료(23)에대하여하전입자선(12)이입사하는측의반대측에설치되고, 대물렌즈(26)를형성하는자극은하전입자선(12)의이상광축과중심축이일치한중심자극(26a)과, 상부자극(26b)과, 통형의측면자극(26c)과, 원반형상의하부자극(26d)을가지고, 중심자극(26a)의시료(23) 측에가까운상부는, 상기상부일수록직경이작아지게되는형상이며, 중심자극(26a)의하부는원기둥형상이며, 상부자극(26b)은, 중심에원형의개구부가형성된자극이며, 중심을향해테이퍼형으로중심자극의중심에가까운측이얇아지는원반형상이다.
    • 本发明改进了带电粒子束装置的性能。 带电粒子束装置包括带电粒子源11和连接到带电粒子源11的加速电源14,该带电粒子源11被安装以加速从带电粒子源11发射的带电粒子束12, 以及用于将带电粒子束12会聚到样本23上的物镜26。 物镜26设置在与带电粒子束12进入样本23的一侧相反的一侧,并且形成物镜26的刺激光束传输线12的理想光轴和中心轴 靠近中心磁极26a的样本23侧的上部具有中心中央磁极26a,上部磁极26b,圆柱形侧部磁极26c和盘形下部磁极26d 中央磁极26a的下部为圆筒状,上侧磁极26b为中央具有圆形开口且朝向中央逐渐变细的磁极, 在靠近光盘中心的一侧变薄。
    • 9. 发明公开
    • 만곡 봉자석에 의해 이온빔을 조절하는 장치
    • 用于通过弯曲棒磁体调节离子束的装置
    • KR1020120085633A
    • 2012-08-01
    • KR1020110047244
    • 2011-05-19
    • 어드밴스드 이온 빔 테크놀로지 인크.
    • 젠고-추안완즈민
    • H01J37/317H01J31/08H01J37/141
    • H01J37/3171H01J37/141H01J2237/24542
    • PURPOSE: An apparatus for controlling an ion beam is provided to satisfy a construction progress demand by individually or simultaneously controlling a current passing through a curved rod magnet. CONSTITUTION: An ion source generates an ion beam. An incidence ion beam(67) is a transformed emission ion beam. A substrate holder loads a work-piece to be injected by the ion beam. A first curved rod magnet(61) comprises one or more first coils arranged on a first curved support rod. One or more first currents flow in the first coil. A second curved rod magnet(62) comprises one or more second coils arranged on a second curved support rod. One or more second currents flow in the second coil. Control assembly controls the ion beam in a control space between a mass spectrometer and the substrate holder.
    • 目的:提供一种用于控制离子束的装置,以通过单独或同时控制通过弯曲杆状磁体的电流来满足施工进度要求。 构成:离子源产生离子束。 入射离子束(67)是转变的发射离子束。 衬底支架装载由离子束注入的工件。 第一弯曲杆状磁体(61)包括布置在第一弯曲支撑杆上的一个或多个第一线圈。 一个或多个第一电流在第一线圈中流动。 第二弯曲杆状磁体(62)包括布置在第二弯曲支撑杆上的一个或多个第二线圈。 一个或多个第二电流在第二线圈中流动。 控制组件控制离子束在质谱仪和衬底保持器之间的控制空间中。