会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 10. 发明公开
    • 광 여기 프로세스용 장치 및 방법
    • 用于光激励过程的装置和方法
    • KR20180030256A
    • 2018-03-21
    • KR20187007125
    • 2014-02-24
    • APPLIED MATERIALS INC
    • MOFFATT STEPHEN
    • H01L21/02C23C16/28C23C16/455C23C16/48C30B25/02C30B25/16C30B30/00
    • C23C16/483C23C16/28C23C16/45504C30B25/02C30B25/165C30B30/00H01L21/02521H01L21/0262
    • 본발명의실시예들은기판상에층을증착하는방법및 장치를제공한다. 일실시예에서, 이방법은프로세싱챔버내에배치된기판의표면을유체전구체에노출하는단계, 재료층이형성되는기판의표면에걸쳐전자기방사가편향및 스캔되도록방사원으로부터생성된전자기방사를광 스캐닝유닛으로지향시키는단계, 기판의표면상에재료층을증착하도록유체전구체의광분해해리를위해선택된파장을갖는전자기방사를사용하여증착프로세스를개시하는단계를포함한다. 방사원은레이저소스, 휘도(bright) 발광다이오드(light emitting diode; LED) 소스, 또는열 소스를포함할수 있다. 일예에서, 방사원은자외선(UV) 파장범위에서출력을발생시키는광섬유레이저이다.
    • 本发明的实施例提供了用于在衬底上沉积层的方法和设备。 在一个实施例中,该方法包括将布置在处理室内的衬底的表面暴露于流体前体,将从辐射源产生的电磁辐射引导至光扫描单元,使得电磁辐射偏转并扫描穿过 在其上将形成材料层的基板,并且利用具有选定的波长的电磁辐射来引发沉积过程,以便使流体前体光解离解以将材料层沉积到基板的表面上。 辐射源可以包括激光源,明亮的发光二极管(LED)源或热源。 在一个示例中,辐射源是在紫外(UV)波长范围内产生输出的光纤激光器。