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1. 发明公开

KR1020130060323A 중합체-세정 조성물 无效
标题翻译：聚合物清洗组合物
公开(公告)号：KR1020130060323A
公开(公告)日：2013-06-07
申请号：KR1020137009532
申请日：2011-10-04
申请人： 아르끄마 프랑스
发明人： 보뜨랭멜라니 , 몽길롱베르나르 , 슈미트폴기욤
IPC分类号： C11D7/32 , C11D7/34 , C11D7/50 , C11D11/00
CPC分类号： C11D7/5009 , C11D3/2003 , C11D3/2068 , C11D3/2093 , C11D3/30 , C11D3/3445 , C11D7/3209 , C11D7/3218 , C11D7/3227 , C11D7/34 , C11D11/0041
摘要： 본 발명은 플라스틱 물질, 특히 폴리우레탄의 가공에 사용되는 장치 상에서 발견되는 중합체 잔사의 세정에 적합한 디메틸 술폭시드 조성물에 관한 것이다.

2. 发明公开

KR1020150070414A 중합체-세정 조성물 有权
标题翻译：聚合物清洗组合物
公开(公告)号：KR1020150070414A
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：KR1020157014417
申请日：2011-10-04
申请人： 아르끄마 프랑스
发明人： 보뜨랭멜라니 , 몽길롱베르나르 , 슈미트폴기욤
IPC分类号： C11D7/50 , C11D7/32 , C11D7/34 , C11D11/00
CPC分类号： C11D7/5009 , C11D3/2003 , C11D3/2068 , C11D3/2093 , C11D3/30 , C11D3/3445 , C11D7/3209 , C11D7/3218 , C11D7/3227 , C11D7/34 , C11D11/0041
摘要： 본발명은플라스틱물질, 특히폴리우레탄의가공에사용되는장치상에서발견되는중합체잔사의세정에적합한디메틸술폭시드조성물에관한것이다.

3. 发明授权

KR100808700B1 엔진 세정제 조성물 有权
标题翻译：发动机清洁剂组合物
公开(公告)号：KR100808700B1
公开(公告)日：2008-02-29
申请号：KR1020037007540
申请日：2001-04-11
申请人： 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니
发明人： 갯츠크,케네쓰,지.
IPC分类号： C11D7/50
CPC分类号： C11D7/261 , C11D3/18 , C11D3/2068 , C11D3/26 , C11D3/28 , C11D3/30 , C11D3/3445 , C11D3/43 , C11D7/24 , C11D7/263 , C11D7/266 , C11D7/32 , C11D7/3281 , C11D7/34 , C11D7/5013 , C11D7/5022 , C11D11/0041 , F01D25/002
摘要： Engine cleaner compositions are reported comprising a single phase solution comprising a polar solvent having a Hildebrand solubility parameter of about 10 cal½ cm-3/2 or greater; a non-polar solvent, immiscible with the polar solvent, having a Hildebrand solubility parameter of about 10 cal½ cm-3/2 or less; and a fugitive cosolvent having a higher evaporation rate than the polar solvent and the non-polar solvent. The engine cleaner compositions are suitable for cleaning internal combustion engines.

4. 发明公开

KR1020030060110A 엔진 세정제 조성물 有权
标题翻译： 엔진세정제조성물
公开(公告)号：KR1020030060110A
公开(公告)日：2003-07-12
申请号：KR1020037007540
申请日：2001-04-11
申请人： 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니
发明人： 갯츠크,케네쓰,지.
IPC分类号： C11D7/50
CPC分类号： C11D7/261 , C11D3/18 , C11D3/2068 , C11D3/26 , C11D3/28 , C11D3/30 , C11D3/3445 , C11D3/43 , C11D7/24 , C11D7/263 , C11D7/266 , C11D7/32 , C11D7/3281 , C11D7/34 , C11D7/5013 , C11D7/5022 , C11D11/0041 , F01D25/002
摘要： 힐데브란트 용해도 파라미터가 약 10 cal
1/2 cm
-3/2 이상인 극성 용매; 힐데브란트 용해도 파라미터가 약 10 cal
1/2 cm
-3/2 이하인, 극성 용매와 비혼화성인 비극성 용매, 및 극성 용매 및 비극성 용매보다 증발 속도가 큰 퓨저티브 공용매를 포함하는 단일상 용액을 포함하는 엔진 세정제 조성물이 제공된다. 상기 엔진 세정제 조성물은 내연 엔진 세정에 적합하다.
摘要翻译：据报道，发动机清洁剂组合物包含单相溶液，其包含Hildebrand溶解度参数为约10的极性溶剂; cm-3/2或更大; 与极性溶剂不混溶的非极性溶剂，其Hildebrand溶解度参数约为10℃; cm-3/2以下; 和具有比极性溶剂和非极性溶剂更高蒸发速率的短效共溶剂。发动机清洁剂组合物适用于清洁内燃机。

5. 发明公开

KR1020000008103A 포토레지스트용스트리퍼조성물 有权
标题翻译：剥离剂化合物
公开(公告)号：KR1020000008103A
公开(公告)日：2000-02-07
申请号：KR1019980027782
申请日：1998-07-10
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김진석 , 길준잉 , 박동진 , 박상오 , 이춘득 , 임석영 , 김양선
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： C11D11/0047 , C11D1/42 , C11D3/2068 , C11D3/3445 , C11D3/3454 , C11D7/263 , C11D7/3218 , C11D7/3227 , C11D7/34
摘要： PURPOSE: A stripper compound for a photoresist is to prevent a generation of an impurity particle in the case that separating a photoresist. CONSTITUTION: A stripper compound for a photoresist comprises: an alkaneolamine with 5 to 15 weight percent, wherein the alkaneolamine is compounds selected from a group having a monoisopropanolamine and a monoethanolamine; a sulfoxide or a sulfon compound with 35 to 55 weight percent wherein the sulfoxide compound is compounds selected from a group having a dimethylsulfoxide and a diethylesulfoside, and the sulfon compound is compounds selected from a group having a diethylesulfon and a dimethylesulfon; and glycolether with 35 to 55 weight percent. A boundary tension is improved and an evaporation loss is decreased such that a using time is increased.
摘要翻译：目的：用于光致抗蚀剂的剥离剂化合物是在分离光致抗蚀剂的情况下防止产生杂质颗粒。构成：用于光致抗蚀剂的剥离剂化合物包括：具有5至15重量％的链烷醇胺，其中链烷醇胺是选自具有单异丙醇胺和单乙醇胺的化合物; 具有35至55重量％的亚砜或磺化合物，其中所述亚砜化合物是选自具有二甲基亚砜和二乙基亚磺酰基的基团的化合物，并且所述磺化合物是选自具有二乙基乙烷和二甲基磺酸的化合物; 和35-55重量％的糖醇醚。边界张力提高，蒸发损失降低，使用时间增加。

6. 发明授权

KR101660199B1 중합체-세정 조성물 有权
标题翻译： - 聚合物清洁组合物
公开(公告)号：KR101660199B1
公开(公告)日：2016-09-26
申请号：KR1020157014417
申请日：2011-10-04
申请人： 아르끄마 프랑스
发明人： 보뜨랭멜라니 , 몽길롱베르나르 , 슈미트폴기욤
IPC分类号： C11D7/50 , C11D7/32 , C11D7/34 , C11D11/00
CPC分类号： C11D7/5009 , C11D3/2003 , C11D3/2068 , C11D3/2093 , C11D3/30 , C11D3/3445 , C11D7/3209 , C11D7/3218 , C11D7/3227 , C11D7/34 , C11D11/0041
摘要： 본발명은플라스틱물질, 특히폴리우레탄의가공에사용되는장치상에서발견되는중합체잔사의세정에적합한디메틸술폭시드조성물에관한것이다.

7. 发明公开

KR1020070026246A 페인트에 대한 접착제 및 씰런트의 접착력을 증가시키기위한 수계 접착력 개선 클리너 조성물 无效
标题翻译：水性粘合促进清洁剂组合物，用于增加粘合剂和密封剂对涂料的粘合
公开(公告)号：KR1020070026246A
公开(公告)日：2007-03-08
申请号：KR1020060084362
申请日：2006-09-01
申请人： 시카 테크놀러지 아게
发明人： 후크,볼프-뤼디게르 , 브라운,안드레아스
IPC分类号： C11D3/34 , C11D7/34 , C11D7/08
CPC分类号： C11D3/042 , C09J5/02 , C11D1/004 , C11D3/2003 , C11D3/2068 , C11D3/28 , C11D3/3418 , C11D3/3445
摘要： An aqueous adhesion promoting cleaner composition is provided to contain no organic solvent, thereby being produced without environmental pollution and to improve an adhesion of adhesives and sealants to paints. The aqueous adhesion promoting cleaner composition comprises at least one acid containing at least one sulfur atom and having pKa
摘要翻译：提供含水粘附促进清洁剂组合物以不含有机溶剂，从而在没有环境污染的情况下生产并改善粘合剂和密封剂对涂料的粘合性。含水粘附促进清洁剂组合物包含至少一种含有至少一个硫原子并具有pKa <2的酸，水和至少一种润湿助剂。该酸的含水粘附促进清洁剂组合物的重量为0.1重量％。润湿助剂包括表面活性剂。表面活性剂是烷氧基化非离子氟化表面活性剂，烷氧基化醇，烷氧基化烷基酚或具有烷基苄基的有机铵。

8. 发明授权

KR100541300B1 개선된 수성 스트립핑 조성물 有权
标题翻译：水溶性组合物的改进
公开(公告)号：KR100541300B1
公开(公告)日：2006-01-10
申请号：KR1020007003936
申请日：1998-10-13
申请人： 에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 인코오포레이티드
发明人： 워드,얼,이. , 미셀로티,프랜크,더블유.
IPC分类号： C09D9/00
CPC分类号： C09D9/005 , C09D9/00 , C11D3/2086 , C11D3/30 , C11D3/3445 , C11D3/43 , C11D7/265 , C11D7/5009 , C11D7/5013 , C11D11/0023 , C11D11/0035 , C11D11/0047 , C23G5/036 , G03F7/425
摘要： 본 발명은 극성 아민, 유기 또는 무기 아민 및 갈산, 그의 에스테르 또는 유사물인 부식 억제제의 혼합물을 포함함을 특징으로 하는 수성 스트립핑 조성물에 관한 것이다. 스트립핑 조성물은 저온에서 실질적인 양의 금속 이온의 재침착없이 유기 포토레지스트 필름과 함께 또는 없이 포토레지스트, 유기, 금속-유기 재료, 무기 염, 산화물 수산화물 또는 착물로부터 생성되는 플라스마 방법으로부터의 잔류물을 스트립핑하는 데 효과적이다.
스트립핑, 극성 유기 용매, 부식 억제제, 코팅물, 포토레지스트, 아민, 갈산, 갈산 에스테르, 물

9. 发明公开

KR1020010024483A 개선된 수성 스트립핑 조성물 有权
标题翻译：改进的含水汽提组合物
公开(公告)号：KR1020010024483A
公开(公告)日：2001-03-26
申请号：KR1020007003936
申请日：1998-10-13
申请人： 에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 인코오포레이티드
发明人： 워드,얼,이. , 미셀로티,프랜크,더블유.
IPC分类号： C09D9/00
CPC分类号： C09D9/005 , C09D9/00 , C11D3/2086 , C11D3/30 , C11D3/3445 , C11D3/43 , C11D7/265 , C11D7/5009 , C11D7/5013 , C11D11/0023 , C11D11/0035 , C11D11/0047 , C23G5/036 , G03F7/425 , C08K5/053 , C08K5/09 , C08K5/16 , C08K5/17 , C08K5/41
摘要： 본발명은극성아민, 유기또는무기아민및 갈산, 그의에스테르또는유사물인부식억제제의혼합물을포함함을특징으로하는수성스트립핑조성물에관한것이다. 스트립핑조성물은저온에서실질적인양의금속이온의재침착없이유기포토레지스트필름과함께또는없이포토레지스트, 유기, 금속-유기재료, 무기염, 산화물수산화물또는착물로부터생성되는플라스마방법으로부터의잔류물을스트립핑하는데 효과적이다.

10. 发明公开

KR20180059650A 세정 조성물, 세정 장치, 및 그를 이용한 반도체 소자의 제조 방법 审中-公开
公开(公告)号：KR20180059650A
公开(公告)日：2018-06-05
申请号：KR20160158658
申请日：2016-11-25
IPC分类号： C11D1/00 , C11D3/48 , C11D11/00 , H01L21/02 , H01L21/321 , H01L21/67 , H01L29/66
CPC分类号： H01L21/67051 , C11D1/12 , C11D1/146 , C11D1/29 , C11D3/201 , C11D3/2017 , C11D3/2044 , C11D3/2068 , C11D3/28 , C11D3/32 , C11D3/3445 , C11D3/43 , C11D11/0047 , H01L21/02065 , H01L21/02074 , H01L21/28123 , H01L21/31053 , H01L21/67017 , H01L29/66545 , H01L29/66803
摘要： 본발명은유기물세정조성물, 세정장치, 및그를이용한반도체소자의제조방법을개시한다. 그의조성물은계면활성제, 탈이온수, 및유기용매를포함한다. 상기계면활성제는 0.03 M 내지 0.003M의농도를가질수 있다.

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