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1. 发明公开

KR1020090128444A 색보호 세제 또는 세정제 无效
标题翻译：彩色保护剂或清洁剂
公开(公告)号：KR1020090128444A
公开(公告)日：2009-12-15
申请号：KR1020097020620
申请日：2008-04-03
申请人： 헨켈 아게 운트 코. 카게아아
发明人： 바르코트슈나디네 , 미델하우페비르기트 , 쉬에델마르크-슈테펜 , 아이팅토마스
IPC分类号： C11D3/37 , C11D3/22 , C11D3/32 , C11D11/00
CPC分类号： C11D3/0021 , C11D3/2096 , C11D3/227 , C11D3/28 , C11D3/32 , C11D3/3454 , C11D3/349 , C11D3/364 , C11D3/373 , C11D3/3742 , C11D3/3788 , C11D11/0017
摘要： The aim of the invention is to improve the color protection properties of detergents and cleaning agents during their utilization for washing or cleaning colored textile fabrics. To achieve this aim, specific polycarbonate-, polyurethane-and/or polyurea-polyorganosiloxane compounds or a precursor compound thereof containing specific reactive groups, which can be used for the production thereof, are utilized.
摘要翻译：本发明的目的是改善洗涤剂和清洁剂在用于洗涤或清洗有色织物时的颜色保护性能。为了实现该目的，可以使用可用于其生产的具体的聚碳酸酯，聚氨酯和/或聚脲 - 聚有机硅氧烷化合物或其含有特定反应性基团的前体化合物。

2. 发明公开

KR1020090128432A 경질 표면 처리용 생성물 无效
标题翻译：用于处理硬表面的产品
公开(公告)号：KR1020090128432A
公开(公告)日：2009-12-15
申请号：KR1020097020337
申请日：2008-02-14
申请人： 헨켈 아게 운트 코. 카게아아
发明人： 바르코트슈나디네 , 미델하우페비르기트 , 쉬에델마르크-슈테펜 , 뤼켄마티아스
IPC分类号： C11D3/37 , C11D3/28 , C11D3/20 , C11D11/00
CPC分类号： C11D11/0023 , C11D3/0036 , C11D3/2096 , C11D3/227 , C11D3/28 , C11D3/32 , C11D3/3454 , C11D3/349 , C11D3/364 , C11D3/37 , C11D3/3707 , C11D3/3723 , C11D3/373 , C11D3/3742 , C11D3/3788
摘要： The invention relates to the use of a product for treating hard surfaces. Said product comprises compounds of general formula I or II and polymers that are obtainable by reacting said compounds with polymeric substrates, said substrates having functional groups which are selected from hydroxy groups, primary and secondary amino groups. The treated surface is protected from soiling and/or soil release from the surface is facilitated.
摘要翻译：本发明涉及一种用于处理硬表面的产品的用途。所述产物包括通式I或II的化合物和通过使所述化合物与聚合物底物反应可获得的聚合物，所述底物具有选自羟基，伯和仲氨基的官能团。处理过的表面被防止污染，和/或从表面去除污垢是有利的。

3. 发明公开

KR1020140053003A 세정제 및 유리 기판의 세정 방법 无效
标题翻译：清洁剂和清洁玻璃基材的方法
公开(公告)号：KR1020140053003A
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：KR1020137030821
申请日：2012-05-24
申请人： 아사히 가라스 가부시키가이샤 , 가부시키가이샤 파카코포레이션
发明人： 에노모토히사오 , 사하라고지 , 가네코아이코 , 이시카와지아키 , 요코야마데츠시 , 마에야나기요시타카 , 다나카아키라
IPC分类号： C11D1/44 , C03C19/00 , C11D1/86 , C11D3/36
CPC分类号： C03C23/0075 , C11D1/44 , C11D3/1213 , C11D3/2082 , C11D3/3418 , C11D3/3454 , C11D3/362
摘要： 산화세륨 함유 연마제로 연마된 유리 기판의 평탄성을 저해하지 않고, 표면에 잔류·부착된 연마 지립을 분산시켜 제거한다.
산화세륨 함유 연마제로 연마된 유리 기판을 세정하기 위한, (A) 유기 포스폰산과, (B) 폴리카르복실산염과, (C) 방향족 술폰산과, (D) 아민-알킬렌옥사이드 부가물을 함유하는 수계 세정제. 유리 기판의 세정 방법은, 산화세륨을 함유하는 연마제를 사용하여 유리 기판을 연마하는 연마 공정과, 당해 연마 공정 후의 그 유리 기판을, 상기 세정제에 의해 세정하는 세정 공정을 갖는다.

4. 发明公开

KR1020090128433A 경질 표면 처리용 생성물 无效
标题翻译：用于处理硬表面的产品
公开(公告)号：KR1020090128433A
公开(公告)日：2009-12-15
申请号：KR1020097020340
申请日：2008-04-03
申请人： 헨켈 아게 운트 코. 카게아아
发明人： 쉬에델마르크-슈테펜 , 바르코트슈나디네 , 미델하우페비르기트 , 뤼켄마티아스
IPC分类号： C11D3/37 , C11D3/36 , C11D3/20 , C11D11/00
CPC分类号： C11D3/3788 , C11D3/0036 , C11D3/2096 , C11D3/227 , C11D3/28 , C11D3/32 , C11D3/3454 , C11D3/349 , C11D3/364 , C11D3/37 , C11D3/3723 , C11D3/373 , C11D3/3742 , C11D11/0023
摘要： The invention relates to the use of polycarbonate-, polyurethane-and/or polyurea-polyorganosiloxane compounds, designed to treat hard surfaces, or a precursor compound thereof containing specific reactive groups, which can be used for the production thereof. The treated surface is protected from soiling and/or the removal of soiling from the surface is facilitated.
摘要翻译：本发明涉及设计用于处理硬表面的聚碳酸酯，聚氨酯和/或聚脲 - 聚有机硅氧烷化合物或其含有特定活性基团的前体化合物，其可用于其制备。被处理的表面被防止污染和/或便于从表面去除污物。

5. 发明公开

KR1020110109757A 곰팡이 제거 및 얼룩제거제 无效
标题翻译：模具去除和去污
公开(公告)号：KR1020110109757A
公开(公告)日：2011-10-06
申请号：KR1020100030038
申请日：2010-03-31
申请人： 조창희
发明人： 조창희
IPC分类号： C11D3/04 , C11D3/48 , C11D1/75 , C11D3/34 , C11D3/50 , A01N59/00 , A01N25/16
CPC分类号： C11D3/044 , A01N25/16 , A01N59/00 , C11D1/75 , C11D3/3454 , C11D3/48 , C11D3/50
摘要： .

6. 发明授权

KR100571602B1 술핀산 유도체 및 그들의 제조방법 및 용도 有权
标题翻译：亚磺酸衍生物，其制备方法及其用途
公开(公告)号：KR100571602B1
公开(公告)日：2006-04-17
申请号：KR1019997004774
申请日：1998-07-01
申请人： 엘. 브뤼게만 코만디트게젤샤프트
发明人： 베르그호페르,요세프 , 로트만,해리
IPC分类号： C07C313/04
CPC分类号： D06P1/62 , C07C313/04 , C08F4/40 , C11D3/0042 , C11D3/3454 , C11D3/3472 , C11D3/349 , D06P1/221 , D06P5/134 , D06P5/155 , D21C9/1084
摘要： 본 발명은 식(Ⅰ)의 술핀산 화합물에 관한 것이고, 여기서 치환체는 상세한 설명중에 정의된 바와 같다. 신규한 술핀산 화합물은 포름알데히드를 배출하지 않는 환원제로서 사용될 수 있다.

7. 发明公开

KR1020050019103A 산화제 및 유기 용매를 포함하는 마이크로일렉트로닉 세정조성물 有权
标题翻译：空值
公开(公告)号：KR1020050019103A
公开(公告)日：2005-02-28
申请号：KR1020047019578
申请日：2003-05-27
申请人： 아반토르 퍼포먼스 머티리얼스, 인크.
发明人： 슈,첸-핀,셔먼
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： C23G1/061 , C11D3/2068 , C11D3/245 , C11D3/28 , C11D3/33 , C11D3/3454 , C11D3/3947 , C11D7/06 , C11D7/261 , C11D7/28 , C11D7/3263 , C11D7/3281 , C11D7/34 , C11D7/5004 , C11D11/0047 , C23G1/18 , G03F7/423 , G03F7/425 , H01L21/02063 , H01L21/02071 , H01L21/31133
摘要： Cleaning compositions suitable for cleaning microelectronic structures having silicon dioxide, low-k or high-k dielectrics and copper or aluminum metallizations contain an oxidizing agent and a polar organic solvent selected from amides, sulfones, sulfolenes, selenones and saturated alcohols, and optionally other components.
摘要翻译：适用于清洁具有二氧化硅，低k或高k电介质和铜或铝金属化物的微电子结构的清洁组合物含有氧化剂和选自酰胺，砜，环丁砜，硒酮和饱和醇的极性有机溶剂，以及任选的其它组分。

8. 发明公开

KR1020000069201A 술핀산 유도체 및 그들의 제조방법 및 용도 有权
标题翻译：亚磺酸衍生物，其制备方法及其用途
公开(公告)号：KR1020000069201A
公开(公告)日：2000-11-25
申请号：KR1019997004774
申请日：1998-07-01
申请人： 엘. 브뤼게만 코만디트게젤샤프트
发明人： 베르그호페르,요세프 , 로트만,해리
IPC分类号： C07C313/04
CPC分类号： D06P1/62 , C07C313/04 , C08F4/40 , C11D3/0042 , C11D3/3454 , C11D3/3472 , C11D3/349 , D06P1/221 , D06P5/134 , D06P5/155 , D21C9/1084
摘要： The invention relates to sulphinic acid derivatives of formula (I) wherein the substituents have the meanings given in the Description. The inventive sulphinic acid compounds can be used as reducing agents which do not release formaldehyde.
摘要翻译：本发明涉及式（I）的亚磺酸衍生物，其中取代基具有在说明书中给出的含义。本发明的亚磺酸化合物可用作不释放甲醛的还原剂。

9. 发明公开

KR1020000008103A 포토레지스트용스트리퍼조성물 有权
标题翻译：剥离剂化合物
公开(公告)号：KR1020000008103A
公开(公告)日：2000-02-07
申请号：KR1019980027782
申请日：1998-07-10
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김진석 , 길준잉 , 박동진 , 박상오 , 이춘득 , 임석영 , 김양선
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： C11D11/0047 , C11D1/42 , C11D3/2068 , C11D3/3445 , C11D3/3454 , C11D7/263 , C11D7/3218 , C11D7/3227 , C11D7/34
摘要： PURPOSE: A stripper compound for a photoresist is to prevent a generation of an impurity particle in the case that separating a photoresist. CONSTITUTION: A stripper compound for a photoresist comprises: an alkaneolamine with 5 to 15 weight percent, wherein the alkaneolamine is compounds selected from a group having a monoisopropanolamine and a monoethanolamine; a sulfoxide or a sulfon compound with 35 to 55 weight percent wherein the sulfoxide compound is compounds selected from a group having a dimethylsulfoxide and a diethylesulfoside, and the sulfon compound is compounds selected from a group having a diethylesulfon and a dimethylesulfon; and glycolether with 35 to 55 weight percent. A boundary tension is improved and an evaporation loss is decreased such that a using time is increased.
摘要翻译：目的：用于光致抗蚀剂的剥离剂化合物是在分离光致抗蚀剂的情况下防止产生杂质颗粒。构成：用于光致抗蚀剂的剥离剂化合物包括：具有5至15重量％的链烷醇胺，其中链烷醇胺是选自具有单异丙醇胺和单乙醇胺的化合物; 具有35至55重量％的亚砜或磺化合物，其中所述亚砜化合物是选自具有二甲基亚砜和二乙基亚磺酰基的基团的化合物，并且所述磺化合物是选自具有二乙基乙烷和二甲基磺酸的化合物; 和35-55重量％的糖醇醚。边界张力提高，蒸发损失降低，使用时间增加。

10. 发明公开

KR1020140082816A 비-아민 CMP-후 조성물 및 사용 방법 审中-实审
标题翻译：非胺后CMP组合物及其使用方法
公开(公告)号：KR1020140082816A
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：KR1020147013154
申请日：2011-10-21
申请人： 엔테그리스, 아이엔씨.
发明人： 바네스제프리에이 , 리우준 , 장펑
IPC分类号： C11D7/10 , C11D7/60 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/02057 , C11D3/044 , C11D3/2041 , C11D3/2065 , C11D3/2068 , C11D3/3454 , C11D3/43 , C11D7/06 , C11D7/261 , C11D7/263 , C11D7/34 , C11D7/5009 , C11D7/5022 , C11D11/0047 , H01L21/02063 , H01L21/02074
摘要： 화학적 기계적 폴리싱(CMP)-후 잔여물 및 오염물질이 상부에 있는 마이크로전자 장치로부터 이러한 잔여물 및 오염물질을 세정하기 위한 세정 조성물 및 방법이 개시된다. 상기 세정 조성물에는 아민 및 암모늄-함유 화합물, 예를 들어, 4차 암모늄 염기가 실질적으로 존재하지 않는다. 이 조성물은 낮은-k 유전 물질 또는 구리 상호접속 물질을 포함하지 않고도 마이크로전자 장치의 표면으로부터의 CMP-후 잔여물 및 오염물질의 매우 효과적인 세정을 달성한다.

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