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1. 发明公开

KR1020170070100A 활성화 장치를 포함하는 세탁기에서 텍스타일을 세척하기 위한 방법 审中-实审
标题翻译：用于清洗包括活化装置的洗衣机中的织物的方法
公开(公告)号：KR1020170070100A
公开(公告)日：2017-06-21
申请号：KR1020177012220
申请日：2015-09-30
申请人： 헨켈 아게 운트 코. 카게아아
发明人： 헤트첼트,안드레 , 스필,이보나 , 욥,마라일레
IPC分类号： C11D3/39 , D06F35/00 , D06L4/50 , C11D11/00 , C11D3/00
CPC分类号： C11D3/28 , C11D3/0021 , C11D3/26 , C11D3/30 , C11D3/3917 , C11D3/392 , C11D3/3927 , C11D11/0017 , C11D11/007 , D06F35/00 , D06F35/003 , D06F37/04 , D06F39/14 , D06L4/50
摘要： 본발명은, 세척액및 세정하고자하는텍스타일을수용하기위한세척챔버(2) 및활성화장치(3)를포함하며, 상기활성화장치(3)는세척챔버(2)로부터의세척액을상기활성화장치(3) 내로공급하기위한유입구(4) 및세척액을활성화장치(3)에서부터상기세척챔버(2) 내로안내하기위한유출구(5)를포함하며, 상기활성화장치(3)는상기활성화장치(3) 내에서세척액중 자유라디칼의형성을위한프로세스를촉발시키기에적합한적어도하나의활성화제를또한포함하고, 상기세척액은아실히드라존을함유하는것인세탁기(1)에서텍스타일을세척하기위한방법에관한것이다.
摘要翻译：本发明包括清洁溶液和清洗室（2）和用于接收所述纺织品激活要被清洁（3），所述有源器件3洗涤室2 robuteoui洗涤液到有源装置3 以及用于将清洁液体从激活装置（3）导入清洁腔室（2）中的出口（5），激活装置（3）布置在激活装置（3）中，还包括至少一种活性jereul适合合适的触发的过程的洗涤液的自由基的形成，并且其中，所述洗涤液是针对一种方法，用于洗涤织物在洗衣机（1）含有haneungeot酰基腙。

2. 发明公开

KR1020100121474A 양쪽성 계면활성제 및 히아루론산을 갖는 안과용 조성물 有权
标题翻译：具有AMPHOTERIC表面活性剂和羟丙酸的眼科组合物
公开(公告)号：KR1020100121474A
公开(公告)日：2010-11-17
申请号：KR1020107017151
申请日：2008-10-10
申请人： 보오슈 앤드 롬 인코포레이팃드
发明人： 시아,어닝 , 버크,수잔,이. , 벤카테쉬,스리니 , 바니악,비키,엘.
IPC分类号： A61K31/155 , A61K31/14 , A61K31/728 , A61P27/02
CPC分类号： C11D3/48 , A01N33/12 , A01N47/44 , A61K9/0048 , A61K31/155 , A61K31/728 , A61K45/06 , A61L12/14 , A61L12/141 , A61L12/142 , A61L12/143 , C11D1/88 , C11D1/92 , C11D3/0078 , C11D3/227 , C11D3/26 , Y10S514/912 , A01N25/30 , A01N2300/00 , A61K2300/00
摘要： 본 발명은, 비구아니드, 중합체성 비구아니드, 4차 암모늄 화합물 및 이들의 임의의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된, 0.1 내지 10 ppm의 양이온성 항균 성분; 0.005 내지 0.15 중량％의 히아루론산; 및 0.01 내지 1.0 중량％의 화학식 I의 양쪽성 계면활성제(여기서 R
1 은 R 또는 -(CH
2 )
n -NHC(O)R이고, 여기서 R은 임의로 히드록실에 의해 치환된 C
8 -C
16 알킬이고, n은 2, 3 또는 4이고; R
2 및 R
3 는 메틸, 에틸, 프로필 또는 이소-프로필 중에서 각각 독립적으로 선택되고; R
4 는 임의로 히드록실에 의해 치환된 C
2 -C
8 알킬렌임)를 포함하는 안과용 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 또한 콘택트렌즈, 특히 연질 실리콘 히드로겔 콘택트렌즈의 세정 및 살균에 있어서의 상기 안과용 조성물의 용도에 관한 것이다.

3. 发明公开

KR1020090082252A 포토레지스트를 제거하기 위한 동적 다용도 조성물 无效
标题翻译：用于去除光电的动态多用途组合物
公开(公告)号：KR1020090082252A
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：KR1020097010581
申请日：2007-04-06
申请人： 다이나로이 엘엘씨
发明人： 페니스마이클티. , 챤레이몬드 , 폴라드킴벌리도나
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： C11D1/004 , C11D3/26 , C11D3/30 , C11D3/43 , C11D7/32 , C11D7/3218 , C11D7/5009 , C11D11/0047 , G03F7/425 , G03F7/426
摘要： Improved dry stripper solutions for removing one, two or more photoresist layers from substrates are provided. The stripper solutions comprise dimethyl sulfoxide, a quaternary ammonium hydroxide, and an alkanolamine, an optional secondary solvent and less than about 3 wt.% water and/or a dryness coefficient of at least about 1. Methods for the preparation and use of the improved dry stripping solutions are additionally provided. Advantageous solution methods are provided for the use of the novel stripper solutions to prepare an electronic interconnect structure by removing a plurality of resist layers to expose an underlying dielectric and related substrate without imparting damage to any of the underlying structure.
摘要翻译：提供了用于从基底去除一个，两个或更多个光致抗蚀剂层的改进的干燥剥离剂溶液。汽提溶液包括二甲基亚砜，季铵氢氧化物和链烷醇胺，任选的第二溶剂和小于约3重量％的水和/或至少约1的干燥系数。制备和使用改进的方法还提供了干脱皮溶液。提供了有利的解决方案，用于使用新颖的剥离剂溶液来通过去除多个抗蚀剂层以暴露下面的电介质和相关的衬底来制备电子互连结构，而不会对任何下面的结构造成损害。

4. 发明公开

KR1020080066322A 레지스트 박리액 조성물 및 이를 이용한 레지스트의박리방법 有权
标题翻译：耐腐蚀组合物和剥离方法
公开(公告)号：KR1020080066322A
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：KR1020070003593
申请日：2007-01-12
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 윤효중 , 김태희 , 박면규
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/425 , C11D3/2068 , C11D3/26 , G03F7/34 , G03F7/422 , G03F7/423 , G03F7/426
摘要： A composition for stripping a resist, and a method for stripping a resist by using the composition are provided to improve the removing power or a cured resist and dry and wet etching residue on a substrate and the corrosion resistance of aluminum or aluminum alloy wiring on a substrate. A composition for stripping a resist comprises 5-30 wt% of an alkanolamine compound; 50-90 wt% of a glycol ether compound; and 0.1-10 wt% of a corrosion inhibitor selected from gallic acid and a gallate compound. Also the composition for stripping a resist comprises 5-30 wt% of an alkanolamine compound; 50-90 wt% of a glycol ether compound; 0.1-10 wt% of a corrosion inhibitor selected from gallic acid and a gallate compound; and water in an amount less than 10 wt%. Preferably the gallate compound is at least one selected from the group consisting of methyl gallate, ethyl gallate, n-propyl gallate, isopropyl gallate and n-butyl gallate.
摘要翻译：提供用于剥离抗蚀剂的组合物和通过使用该组合物剥离抗蚀剂的方法，以提高除去功率或固化的抗蚀剂，以及基板上的干和湿蚀刻残留物以及铝或铝合金布线的耐腐蚀性基质。用于剥离抗蚀剂的组合物包含5-30重量％的烷醇胺化合物; 50-90重量％的二醇醚化合物; 和0.1-10重量％的选自没食子酸和没食子酸酯化合物的腐蚀抑制剂。用于剥离抗蚀剂的组合物还包含5-30重量％的链烷醇胺化合物; 50-90重量％的二醇醚化合物; 0.1-10wt％的选自没食子酸和没食子酸酯化合物的腐蚀抑制剂; 和小于10重量％的水。优选地，没食子酸酯化合物是选自没食子酸甲酯，没食子酸乙酯，没食子酸正丙酯，没食子酸异丙酯和没食子酸正丁酯中的至少一种。

5. 发明公开

KR1020080025697A 구리를 부동태화하는 ＣＭＰ후 세정 조성물 및 이용 방법 无效
标题翻译：铜剥离后化学机械抛光清洗组合物及其使用方法
公开(公告)号：KR1020080025697A
公开(公告)日：2008-03-21
申请号：KR1020077030418
申请日：2006-05-25
申请人： 어드밴스드 테크놀러지 머티리얼즈, 인코포레이티드
发明人： 바네스제프리 , 월커엘리자베스 , 페터스대릴더블유. , 바르토쉬킬 , 올다크에바 , 얀더스케빈피.
IPC分类号： C11D3/43
CPC分类号： H01L21/02074 , C11D1/62 , C11D3/26 , C11D3/30 , C11D7/32 , C11D7/3209 , C11D7/3218 , C11D11/0047
摘要： Alkaline aqueous cleaning compositions and processes for cleaning post-chemical mechanical polishing (CMP) residue, post-etch residue and/or contaminants from a microelectronic device having said residue and contaminants thereon. The alkaline aqueous cleaning compositions include amine, passivating agent, and water. The composition achieves highly efficacious cleaning of the residue and contaminant material from the microelectronic device while simultaneously passivating the metal interconnect material. ® KIPO & WIPO 2008
摘要翻译：碱性水性清洁组合物和用于从具有所述残留物和污染物的微电子装置清洁化学后机械抛光（CMP）残留物，蚀刻后残留物和/或污染物的方法。碱性水性清洗组合物包括胺，钝化剂和水。该组合物可实现对微电子器件的残留物和污染物质的高效清洁，同时钝化金属互连材料。 ®KIPO＆WIPO 2008

6. 发明授权

KR101851979B1 중금속 및 포름알데히드 제거능을 가지는 세제 조성물 有权
公开(公告)号：KR101851979B1
公开(公告)日：2018-06-07
申请号：KR20170037032
申请日：2017-03-23
IPC分类号： C11D3/28 , C11D3/26 , C11D11/00
CPC分类号： C11D3/28 , C11D3/26 , C11D11/0017 , C11D11/0023
摘要： 본발명은하기화학식 1로표시되는트리엔틴또는트리엔틴유도체, 하기화학식 2로표시되는사이클렌또는사이클렌유도체, 하기화학식 3으로표시되는사이클람또는사이클람유도체중에서선택된 1종이상을유효성분으로하는, 세제조성물을제공한다. [화학식 1][화학식 2][화학식 3](상기식들에서, R, R, R, R, R및 R은각각독립적으로수소, -R-COOH 또는이들의염이고, R은 C~C의지방족, 치환되거나치환되지않은방향족고리, 또는복소환 6원자또는 5원자고리이다.)

7. 发明授权

KR101723384B1 활성화된 알켄을 갖는 악취 제어 조성물 및 그의 방법 有权
标题翻译：具有活化烯烃的气味控制组合物及其方法
公开(公告)号：KR101723384B1
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：KR1020147034159
申请日：2013-06-14
申请人： 더 프록터 앤드 갬블 캄파니
发明人： 호렌지악스티븐앤서니 , 에이렘카히트 , 맬란야온마이클-빈센트나리오
IPC分类号： A61L9/01 , C11B9/00 , C11D3/20 , C11D3/26 , C11D7/26
CPC分类号： A61L9/01 , C11D3/0068 , C11D3/2072 , C11D3/2093 , C11D3/26 , C11D3/3723 , C11D7/264 , D06M13/005 , D06M13/13 , D06M13/203 , D06M13/224 , D06M13/348 , D06M13/41 , D06M15/61 , D06M23/06
摘要： 활성화된알켄을갖는악취제어조성물및 그의방법이제공된다. 일부실시형태에서, 본조성물내에촉매가제공된다. 본조성물은천 및공기청향제품에서의사용을비롯하여다양한응용에적합하다.
摘要翻译：提供了一种具有活化烯烃的恶臭控制组合物及其方法。在一些实施方案中，在组合物中提供催化剂。该组合物，包括使用eseoui银川和空气cheonghyang产品适用于许多应用。

8. 发明公开

KR1020130091752A 반도체 세정 방법 无效
标题翻译：半导体清洁方法
公开(公告)号：KR1020130091752A
公开(公告)日：2013-08-19
申请号：KR1020137004655
申请日：2006-02-13
申请人： 스몰 로버트 제이
发明人： 스몰로버트제이
IPC分类号： H01L21/306 , C11D11/00
CPC分类号： C11D11/0047 , C11D1/385 , C11D1/62 , C11D3/26 , C11D3/36 , C11D7/32 , C11D7/36
摘要： 본 발명은 이온성 액체를 포함하는 조성물과 반도체 기판의 표면을 접촉시킴을 포함하는, 기판 세정 방법에 관한 것이다. 다른 기판 세정 방법은 초강산(superacid)을 포함하는 조성물과 반도체 기판의 표면을 접촉시킴을 포함한다. 반도체 기판은 웨이퍼일 수 있다.

9. 发明公开

KR1020080079300A 안정화 조성물 有权
标题翻译：稳定组合物
公开(公告)号：KR1020080079300A
公开(公告)日：2008-08-29
申请号：KR1020087016623
申请日：2006-11-27
申请人： 디에스엠 아이피 어셋츠 비.브이.
发明人： 제르만롤란드 , 플로톤캐롤라인 , 베스텐펠더호스트
IPC分类号： A61K8/37 , A61K8/67 , A61Q17/04
CPC分类号： C09K15/24 , A61K8/35 , A61K8/37 , A61K8/40 , A61K2800/434 , A61K2800/52 , A61K2800/522 , A61Q1/02 , A61Q1/04 , A61Q3/02 , A61Q5/006 , A61Q5/008 , A61Q5/02 , A61Q5/06 , A61Q5/12 , A61Q17/04 , A61Q19/00 , A61Q19/002 , A61Q19/10 , C08K5/07 , C08K5/315 , C09D7/48 , C09D11/03 , C09D11/38 , C11D3/2072 , C11D3/2093 , C11D3/26 , D06M16/00
摘要： The present invention relates to compositions of UV absorbers and optionally additional antioxidants. The compositions are useful for the protection and stabilization of photosensitive ingredients such as colorants, dyes, scents, fragrances and active ingredients in body care products, household products or inks against the deleterious effects of ultraviolet radiation and oxygen.
摘要翻译：本发明涉及UV吸收剂和任选的其它抗氧化剂的组合物。该组合物可用于保护和稳定感光成分，例如身体护理产品，家用产品或墨水中的着色剂，染料，香料，香料和活性成分，以抵抗紫外线辐射和氧气的有害影响。

10. 发明授权

KR100671249B1 세정용 조성물 有权
标题翻译：组合物清洗
公开(公告)号：KR100671249B1
公开(公告)日：2007-01-19
申请号：KR1020047006091
申请日：2002-10-23
申请人： 다이킨 고교 가부시키가이샤
发明人： 이타노미츠시 , 게즈카다케히코
IPC分类号： C11D7/10
CPC分类号： C11D7/32 , C11D3/26 , C11D3/30 , C11D3/43 , C11D7/3209 , C11D7/3218 , C11D7/5013 , C11D7/5018 , C11D7/5022 , C11D11/0047 , G03F7/423 , G03F7/425
摘要： A cleaning composition comprising (1) at least one fluoride and/or hydrogendifluoride salt formed from at least one member selected from the group consisting of hydroxylamines, aliphatic amines, aromatic amines, aliphatic quaternary ammonium salts and aromatic quaternary ammonium salts with hydrofluoric acid; (2) at least one organic solvent that includes one or more heteroatoms; and (3) water.

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