专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明公开

KR1020040071141A 노즐 장치 및 이것을 구비한 기판 처리 장치 无效
标题翻译：喷嘴装置和具有该喷嘴装置的基板处理装置
公开(公告)号：KR1020040071141A
公开(公告)日：2004-08-11
申请号：KR1020047007724
申请日：2001-12-17
申请人： 스미토모 세이미츠 고교 가부시키가이샤
发明人： 아카사카다케시 , 미즈카와시게루 , 무라타다카시 , 나카타가츠토시 , 마츠모토순지
IPC分类号： B05B1/14 , B05B13/04 , B08B3/02 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/6715 , B05C5/0208 , B05C5/027 , B08B3/041 , B41J3/407 , G03F7/16 , G03F7/162 , G03F7/30 , G03F7/422
摘要： A nozzle device forms a treatment film with a uniform thickness on a substrate with a small amount of treatment liquid and a substrate treatment device. A nozzle device 10 includes a plurality of discharge ports 18 formed on the bottom, a liquid retaining chamber 22 for retaining supplied treatment liquid, and a liquid discharge paths 23 and 17 that communicate with each discharge port 18 on one end and communicate with the retaining chamber 22 on the other end. The paths allow the treatment liquid retained in the liquid retaining chamber 22 to flow to the discharge ports 18 where the liquid is discharged. The discharge ports 18 are arranged in double rows along a longitudinal direction of the nozzle device 10. The discharge ports of one row is staggered with respect to the discharge ports of the other row so that the discharge ports 18 form a staggered pattern in the arranged direction.

2. 发明公开

KR1020080099818A 처리액 재생 방법 및 처리액에 포함되는 금속의 회수 방법 无效
标题翻译：用于再生处理组合物的方法和从处理组合物中回收金属的方法
公开(公告)号：KR1020080099818A
公开(公告)日：2008-11-13
申请号：KR1020080043374
申请日：2008-05-09
申请人： 스미토모 세이미츠 고교 가부시키가이샤
发明人： 나카타가츠토시 , 다나카유키오 , 가시와이도시히코
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： Y02P10/234 , H01L21/304
摘要： A method for regenerating the processing liquid is provided to achieve the low cost and efficiently removes the metallic component included in the processing liquid. The metallic component of the processing liquid is absorbed in the adsorbent within the capacity container. The used capacity container is returned in the adsorbent regeneration area to regenerate the adsorbent. The capacity container after the regeneration was sent back in the processing area to reuse. The processing liquid in the capacity container is passed and the metallic component of the processing liquid is attached to the adsorbent. The processing liquid can be reproduced.
摘要翻译：提供了一种再生处理液的方法，以实现低成本并有效地除去包含在处理液中的金属成分。处理液的金属成分被吸收在容量容器内的吸附剂中。使用容量容器返回到吸附剂再生区域中以再生吸附剂。再生后的容量容器在处理区域被送回再利用。容纳容器中的处理液通过，处理液的金属成分附着在吸附剂上。可以再生处理液。

3. 发明公开

KR1020080103439A 기판 처리 장치 无效
标题翻译：基板加工设备
公开(公告)号：KR1020080103439A
公开(公告)日：2008-11-27
申请号：KR1020080047619
申请日：2008-05-22
申请人： 스미토모 세이미츠 고교 가부시키가이샤
发明人： 나카타가츠토시 , 무라타다카시 , 다나카유키오 , 가시와이도시히코
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： H01L21/6704 , H01L21/67242
摘要： A substrate processing apparatus is provided to prevent the concentration of the surfactant included in the processing liquid from being lowered. A substrate processing apparatus(1) includes the adsorption container(32,33) in which with the adsorbent absorbing the metallic ion is positioned; the second processing liquid circulating unit for circulating the processing liquid between the depot and the adsorption container; the feeding unit for supplying surfactant to the processing liquid. The second processing liquid circulating unit collects the processing liquid circulated from the adsorption container in depot.
摘要翻译：提供了一种衬底处理装置，以防止包含在处理液中的表面活性剂的浓度降低。基板处理装置（1）包括吸附容器（32,33），吸附金属离子的吸附剂位于其中; 所述第二处理液循环单元，用于使所述处理液在所述贮存库和所述吸附容器之间循环; 用于向处理液体供给表面活性剂的供给单元。第二处理液循环单元收集从贮存库中的吸附容器循环的处理液。

4. 发明公开

KR1020020093837A 승강식 기판 처리 장치 및 이것을 구비한 기판 처리시스템 无效
标题翻译：高架式基板加工装置及其基板加工系统
公开(公告)号：KR1020020093837A
公开(公告)日：2002-12-16
申请号：KR1020027011885
申请日：2002-02-21
申请人： 스미토모 세이미츠 고교 가부시키가이샤
发明人： 미즈카와시게루 , 나카타가츠토시 , 마츠모토순지
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： H01L21/67706 , B65G49/061 , H01L21/6776
摘要： 본발명은, 처리라인의한쪽으로부터다른쪽으로기판을반송하는기능을갖고, 또한반송중에기판을처리할수 있는승강식기판처리장치및 이것을구비한기판처리시스템에관한것으로, 승강식기판처리장치는상하로나란히설치된기판투입구(11a) 및기판배출구(11b)를구비한바구니형상커버체(11)와, 커버체(11) 내에내장된처리기구(20)에있어서, 기판투입구(11a)로부터반입된기판을수용하여지지하는한편, 기판배출구(11b)로부터기판을배출하는반송·지지수단, 반송·지지수단을지지하는지지걸침대(21), 반송·지지수단의위쪽에배치되고, 기판상에처리유체를토출하는처리유체토출수단을구비한처리기구(20)와, 처리기구(20)를지지하여상하방향으로승강시키고, 처리기구(20)를기판투입구(11a) 및기판배출구(11b)에경유시키는승강기구(40)로구성된다.
摘要翻译：具有将基板从处理线的一侧向另一侧转移并且能够在转印期间处理基板的功能的升降式基板处理装置以及具有升降型基板处理装置的基板处理系统; 该升降式基板处理装置包括具有基板入口（11a）的壳体式盖体（11）和在其上沿垂直方向彼此平行地设置的基板出口（11b），形成处理机构的转印支承装置 20）安装在所述盖主体（11）中，从所述基板入口（11a）承载的基板被支撑，并从所述基板出口（11b）排出所述基板;支撑框架（21），用于支撑所述转移/支撑装置，处理机构（20），其设置在所述转移/支撑装置上方并具有用于将处理流体排放到所述基板上的处理流体排出装置，以及用于在垂直方向上将所述处理机构（20）将处理机构（20）移动到基板入口（11a）和基板出口（11b）。

5. 发明公开

KR1020040016784A 승강식 기판 처리 장치 및 이것을 구비한 기판 처리 시스템 无效
标题翻译：提升式基材处理装置及其相应的基板处理系统
公开(公告)号：KR1020040016784A
公开(公告)日：2004-02-25
申请号：KR1020030056409
申请日：2003-08-14
申请人： 스미토모 세이미츠 고교 가부시키가이샤
发明人： 미즈카와시게루 , 나카타가츠토시
IPC分类号： H01L21/68
摘要： PURPOSE: A substrate treatment apparatus is provided to obtain a function of conveying a substrate from one to the other of a treatment line and to efficiently perform treatment to the substrate during conveying. CONSTITUTION: A substrate treatment apparatus(10) includes a housing shape cover(11) having a substrate input port(11a) and a substrate discharge port(11b) provided in parallel in a vertical direction, and a treatment mechanism(20) mounted in the cover(11). The treatment mechanism(20) further includes a conveying/supporting unit for receiving and supporting the substrate conveyed from the input port(11a) and discharging the substrate from the port(11b), a support substrate(21) for supporting the conveying/supporting means, a substrate inclining unit for inclining the substrate supported by the conveying/supporting means, and a treatment fluid discharge unit arranged above the substrate/supporting means to discharge a treatment fluid on the substrate inclined by the substrate inclining unit, and a lifting unit(40) for supporting the treatment mechanism, lifting the treatment mechanism in a vertical direction and making the treatment mechanism pass via the port(11a) and the port(11b).
摘要翻译：目的：提供一种基板处理装置，用于获得从处理线中的一个输送到另一个基板的功能，并在输送过程中有效地对基板进行处理。构成：基板处理装置（10）具有：具有基板输入口（11a）的壳体形状的盖（11）和沿垂直方向平行设置的基板排出口（11b）;以及处理机构（20），其安装在盖（11）。处理机构（20）还包括输送/支撑单元，用于接收和支撑从输入端口（11a）输送并从端口（11b）排出基板的基板，支撑基板（21），用于支撑输送/支撑装置，用于倾斜由输送/支撑装置支撑的基板的基板倾斜单元和布置在基板/支撑装置上方的处理流体排出单元，以将由基板倾斜单元倾斜的基板上的处理流体排出;以及提升单元（40），用于支撑处理机构，沿垂直方向提升处理机构，并使处理机构经由端口（11a）和端口（11b）通过。

6. 发明公开

KR1020030023614A 용기 내 기체의 누출 차단 방법 및 내부 기체의 누출 차단구조를 구비한 용기 无效
标题翻译：一种防止容器内气体泄漏的方法和一种具有内部气体泄漏防止结构的容器
公开(公告)号：KR1020030023614A
公开(公告)日：2003-03-19
申请号：KR1020027011887
申请日：2002-03-08
申请人： 스미토모 세이미츠 고교 가부시키가이샤
发明人： 미즈카와시게루 , 나카타가츠토시 , 마츠모토순지
IPC分类号： G02F1/13
CPC分类号： H01L21/67126 , H01L21/67057
摘要： 본 발명은 내부 기체의 누출을 확실히 방지할 수 있는 누출 차단 구조를 구비한 용기 등에 관한 것이다. 이 용기는, 상부가 개구하고, 일정 내용적을 갖는 용기 본체(3)와, 용기 본체(3) 상에 재치되고, 개구부(11)를 폐색하는 뚜껑체(21)로 구성된다. 용기 본체(3)의 상단부(10) 외주에, 상부가 개구된 고리형상의 오목홈부(12)를 형성하고, 상기 오목홈부(12) 내에 액체를 저류시킨다. 또, 뚜껑체(21)의 둘레가장자리에, 상기 둘레가장자리부로부터 하방으로 늘어지는 수하부를 형성하고, 상기 수하부를, 그 하단부가 오목홈(12) 내의 액체중에 침전된 상태로 용기 본체(3)의 상단부(10)에 외측 끼움한다.

7. 发明公开

KR1020030015208A 기판 세정방법 및 세정장치 无效
标题翻译：基材清洁方法和清洁装置
公开(公告)号：KR1020030015208A
公开(公告)日：2003-02-20
申请号：KR1020027011888
申请日：2002-04-08
申请人： 스미토모 세이미츠 고교 가부시키가이샤
发明人： 미즈카와시게루 , 나카타가츠토시 , 마츠모토순지
IPC分类号： B08B3/12
CPC分类号： B08B3/123
摘要： 본 발명은 액정 표시기, 포토마스크 등의 유리 기판, 프린트 배선기판이나 반도체 웨이퍼 등의 각종 기판을 초음파 세정하는 기판 세정방법 및 세정장치에 관한 것이다. 내부에 세정수를 저류한 저수조(3)와, 수평 이동 가능하고, 또한 이면이 저수조(3)내의 세정수와 접촉하도록 기판(W)을 지지하는 지지 수단(6)과, 기판(W)의 표면에, 초음파 진동을 부여한 세정수를 공급하는 세정수 공급수단(1)과, 저수조(3)와 세정수 공급수단(1)과의 사이에 기판(W)을 반송하는 반송 수단(R, r)을 형성한다. 기판(W)의 표면에 공급되는 세정수에 부여된 초음파 진동이, 기판(W)을 통해 그 이면에 접촉하는 세정수에 전파되어, 이면에 접촉하는 세정수에 초음파 진동이 부여된다. 기판(W)의 표리 양면 모두 초음파 진동이 부여된 세정수에 의해 효과적으로 정화된다.

8. 发明公开

KR1020030003235A 기판처리장치 无效
公开(公告)号：KR1020030003235A
公开(公告)日：2003-01-09
申请号：KR1020027011886
申请日：2002-03-08
申请人： 스미토모 세이미츠 고교 가부시키가이샤
发明人： 미즈카와시게루 , 나카타가츠토시 , 마츠모토순지
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67057 , B08B3/022 , B08B5/023 , F26B5/14 , F26B15/12 , H01L21/67034
摘要： 본 발명은 반송 수단에 의해 기판을 반송하면서 기판에 습식 및 건식의 처리를 순차 행하는 기판처리장치에 관한 것이다. 이 기판처리장치는, 기판(W)을 반송하는 반송 기구(1)와, 반송되는 기판(W)에 대해 습식의 처리를 행하는 습식 처리부(WET)와, 습식 처리부(WET)로부터 반송 방향 하류측에 설치되어, 처리액을 막 형상으로 형성하여 기판(W) 상에 공급하는 막액 공급 기구(4)와, 슬릿 형상의 개구부를 구비하여, 이 개구부가 기판(W)의 전체 폭에 걸쳐 대치하도록 막액 공급 기구(4)의 반송 방향 하류측에 설치되어, 개구부로부터 기체를 분출시켜 판 형상의 기체를 발생시키는 기체 분출 기구(6)로 구성된다.

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式