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81. 发明公开

KR1020120048032A 마이크로리소그래피용 조명 광학 유닛 有权
标题翻译：照明光学单元
公开(公告)号：KR1020120048032A
公开(公告)日：2012-05-14
申请号：KR1020127008097
申请日：2010-09-27
申请人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
发明人： 피올카다미안 , 슈튀츨레랄프
IPC分类号： G02B27/18 , G02B5/30 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B27/0905 , G02B27/0977 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70175 , G03F7/702 , G03F7/70566 , G21K1/06 , G21K1/16 , G21K2201/06 , G21K2201/064 , G21K2201/067
摘要： 조명 광학 유닛은 조명 광학 유닛의 작동 중에 제1 파셋 광학 요소에 적용되는 편광 분포를 생성시키는 집광 거울을 포함하고, 상이한 편광을 구비하는 방사선이 적용되는 적어도 2개의 제1 파셋 요소가 있으며, 또한 제1 파셋 광학 요소는 적어도 하나의 제1 상태를 구비하며, 여기서 제1 파셋 요소의 반사 표면의 수직 벡터는 미리결정된 제1 편광 분포가 조명 광학 유닛의 작동 중에 물체 영역의 위치로 되도록 선택된다.

82. 发明公开

KR1020120031050A 리소그래피 장치 및 방법 无效
公开(公告)号：KR1020120031050A
公开(公告)日：2012-03-29
申请号：KR1020127000134
申请日：2010-06-07
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 반슈트,얀 , 데브리스,고쎄
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G03F7/70075 , G03F7/70116
摘要： 복수의 반사 요소들을 갖는 조명 시스템이 설명되며, 상기 반사 요소들은 퓨필 평면의 상이한 위치들을 향해 방사선을 지향하는 상이한 방위들 사이에서 이동가능하고, 이로 인해 상이한 조명 모드들을 형성한다. 각각의 반사 요소는 내측 조명 위치 그룹의 위치로 방사선을 지향하는 제 1 방위, 중간 조명 위치 그룹의 위치로 방사선을 지향하는 제 2 방위, 및 외측 조명 위치 그룹의 위치로 방사선을 지향하는 제 3 방위로 이동가능하다. 반사 요소들은 내측, 중간 및 외측 조명 위치 그룹들을 향해 동일한 양의 방사선을 지향할 수 있게 방위되도록 구성되며, 외측 조명 위치 그룹으로는 실질적으로 방사선을 지향하지 않고, 내측 및 중간 조명 위치 그룹들을 향해 실질적으로 동일한 양의 방사선을 지향할 수 있게 방위되도록 구성된다.

83. 发明公开

KR1020110039446A 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 조명 시스템 有权
标题翻译：微光刻投射曝光装置的照明系统
公开(公告)号：KR1020110039446A
公开(公告)日：2011-04-18
申请号：KR1020117001652
申请日：2009-06-25
申请人： 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하
发明人： 데귄테르,마르쿠스
IPC分类号： G03F7/20 , G02B19/00
CPC分类号： G03F7/70141 , G02B26/02 , G02B26/0833 , G02B26/101 , G03F7/70066 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70158 , G03F7/702
摘要： 마이크로리소그래피 투영 노광 장치(10)의 조명 시스템은 시스템 동공면(70)에 위치하는 복수의 이차광원들(95)을 생성하기 위해 구성된 광학 래스터 소자(72)를 포함한다. 광학 래스터 소자(72)는 각각이 하나의 이차 광원들(95)과 관련된 복수의 빛 입사 패싯들(92)을 가진다. 빔 편향 장치는 빔 편향 소자(M
ij )에 의해 생성된 편향각을 변화함으로써 가변하는 위치에, 각각이 빛 입사 패싯들(92) 중의 하나 상의 스팟(90)을 조사하도록 구성된 반사성 또는 투과성 빔 편향 소자들(M
ij )의 빔 편향 어레이(46)를 포함한다. 제어 유닛(50)은 빔 편향 소자들(M
ij )을 조정하기 위해 구성되어 스팟들(80)로부터 모여진 가변하는 빛 패턴들(LP)이 적어도 복수의 빛 입사 패싯들(92) 중의 하나에 형성될 수 있도록 한다.
摘要翻译：微光刻投射曝光设备10的照明系统包括光栅元件72，其配置为产生位于系统光瞳面70中的多个二次光源95。光栅元件72具有多个光入射面92，每个光入射面与一个次级光源95相关联。光束偏转装置包括光束偏转装置M.

84. 发明公开

KR1020100127848A ＥＵＶ 마이크로리소그래피용 투사 조명 시스템 无效
标题翻译：用于EUV微观计算的投影照明系统
公开(公告)号：KR1020100127848A
公开(公告)日：2010-12-06
申请号：KR1020107023780
申请日：2008-12-16
申请人： 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하
发明人： 딩거,우도 , 하우프,마르크스
IPC分类号： G03F7/20 , H05G2/00
CPC分类号： G03F7/702 , G03F7/70008 , G03F7/70058 , G03F7/70108 , G03F7/20 , G03F7/70033 , H05G2/00
摘要： 본 발명은 유용한 EUV 광(3)을 생성하기 위한 EUV 싱크로트론 광원(2)을 갖는 EUV 마이크로리소그래피용 투사 조명 시스템(1)에 관한 것이다. 조명 광학기기(5)는 유용한 광(3)으로 오브젝트 필드(14)를 조명하는 역할을 한다. 투사 광학기기(16)는 이미지 필드(17) 내에 오브젝트 필드를 디스플레이하는 역할을 한다. 스캐닝 장치(6)는 투사 조명 지속기간과 동기하여 유용한 광(3)을 편향시킴으로써 오브젝트 필드(14)를 조명하는 역할을 한다. 투사 조명 시스템은 EUV 싱크로트론 광원의 출력 파워가 EUV 투사 조명에 가능한 효율적으로 적용될 수 있는 결과를 초래한다.

85. 发明授权

KR100991049B1 프로젝션 노광 장치 失效
标题翻译：投影曝光装置
公开(公告)号：KR100991049B1
公开(公告)日：2010-10-29
申请号：KR1020097020999
申请日：2003-01-20
申请人： 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하
发明人： 싱게르,볼프강 , 만,한스-유르겐 , 반글레르,요하네스 , 율리히,빌헬름
IPC分类号： G03F7/20 , G02B17/06
CPC分类号： B82Y10/00 , G02B17/0657 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70108 , G03F7/70166 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70358 , G03F7/708 , G21K1/06 , G21K1/062
摘要： 본 발명은 193㎚ 이하의 파장을 사용하는 프로젝션 노광 장치에 관한 것이다. 프로젝션 노광 장치는 광원 및 상기 광원으로부터 필드가 조명되는 평면까지의 광 경로 상에 위치하고 동공 래스터 부재를 갖는 광학 부재를 포함한다. 상기 동공 래스터 부재 및 상기 평면 사이의 광 경로에는 광학 부품이 더 배치되지 않거나, 어떠한 영상화 광학 부품도 배치되지 않는다. 이에 따라, 프로젝션 노광 장치의 사이즈가 축소되고, 종래의 프로젝션 노광 장치에 비하여 광학 부재의 수가 감소된다.

86. 发明公开

KR1020100106429A 조명 광학 장치, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：照明光学装置，曝光装置及装置制造方法
公开(公告)号：KR1020100106429A
公开(公告)日：2010-10-01
申请号：KR1020107014153
申请日：2008-11-27
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 니시카와진
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70916 , G03F7/70075 , G03F7/702 , G03F7/70841 , G03F7/70908 , G03F7/20 , H01L21/0274
摘要： 노광 광(EL)으로 피조사면을 조명하는 조명 광학 장치는, 곡면 미러(24) 및 오목면 미러(25)를 갖고 미러(24, 25) 사이에 실질적으로 피조사면과 공역인 위치를 형성하는 조명 광학계(ILS)와, 곡면 미러(24)가 배치되는 공간(B)과 오목면 미러(25)가 배치되는 공간(C)을 서로 다른 진공 환경 또는 감압 환경으로 분리하고 노광 광(EL)이 통과하는 개구(5a)가 형성된 제 2 개구판(5)을 포함하고, 개구(5a)는 노광 광(EL)의 단면적이 가장 작은 위치 또는 그 근방에 배치된다. 후속의 광학계에 대한 부스러기(debris) 등의 미립자의 통과량을 감소시키는 것이 가능하다.
摘要翻译：用于照射曝光用光EL的照射面的照明光学装置具有曲面镜24和凹面镜25，设置在这些镜24,25之间，光学系统ILS将配置有曲面镜24的空间B与配置有凹面镜25的空间C分离为不同的真空环境或减压环境，曝光用光EL通过而且，光圈5a配置在曝光用光EL的截面积最小的位置或其附近。可以减少诸如碎片的细颗粒通过后续光学系统的量。

87. 发明公开

KR1020100050439A 조명 광학 장치, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：照明光学设备，光刻设备和设备制造方法
公开(公告)号：KR1020100050439A
公开(公告)日：2010-05-13
申请号：KR1020097026361
申请日：2008-07-07
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 고마츠다히데키
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70066 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/701 , G03F7/70558
摘要： A lighting optical apparatus can be configured to cope with both the suppression of bad influence of image formation due to a field stop and the improvement of an uniform distribution of an exposure amount in the case where the lighting optical apparatus is applied to photolithography equipment that uses a reflection type original sheet, for instance. A lighting optical apparatus is set to light a second surface that is optically conjugate with a first surface through the reflection type original sheet (M) that can be arranged at the first surface. The lighting optical apparatus is provided with a first partial field stop (21) arranged to define a first outer edge of a lighting region to be formed on the second surface in order to limit a light flux incident on the first surface, and a second partial field stop (22) arranged to define a second outer edge of a lighting region in order to limit a light flux reflecting from the reflection type original sheet that can be arranged on the first surface. A first distance (D1) between the first partial field stop and the first surface is set to be larger than a second distance (D2) between the second partial field stop and the first surface.
摘要翻译：照明光学装置可以被配置为能够应对由于场停止引起的图像形成的不良影响的抑制以及在将照明光学装置应用于使用的光刻设备的情况下曝光量的均匀分布的改善例如反射型原稿。照明光学装置被设置为通过能够布置在第一表面处的反射型原稿（M）来照射与第一表面光学共轭的第二表面。照明光学装置设置有第一部分场停止器（21），其被布置为限定要形成在第二表面上的点亮区域的第一外边缘，以便限制入射在第一表面上的光通量，以及第二部分场场阻挡件（22），其布置成限定照明区域的第二外边缘，以便限制从可布置在第一表面上的反射型原稿片反射的光束。将第一局部场停止与第一表面之间的第一距离（D1）设定为大于第二局部场停止与第一表面之间的第二距离（D2）。

88. 发明公开

KR1020100009543A 프로젝션 노광 장치 失效
标题翻译：投影曝光装置
公开(公告)号：KR1020100009543A
公开(公告)日：2010-01-27
申请号：KR1020097020999
申请日：2003-01-20
申请人： 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하
发明人： 싱게르,볼프강 , 만,한스-유르겐 , 반글레르,요하네스 , 율리히,빌헬름
IPC分类号： G03F7/20 , G02B17/06
CPC分类号： B82Y10/00 , G02B17/0657 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70108 , G03F7/70166 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70358 , G03F7/708 , G21K1/06 , G21K1/062
摘要： The invention concerns a projection objective for a projection exposure apparatus, said projection exposure apparatus having a primary light source for emitting electromagnetic radiation with a wavelength
摘要翻译：本发明涉及投影曝光装置的投影物镜，所述投影曝光装置具有用于发射波长<= 193nm的电磁辐射的初级光源。投影物镜包括物平面（2），第一镜（51），第二镜（52），第三镜（53），第四镜（54）和像平面（4）。物体平面，第一反射镜，第二反射镜，第三反射镜，第四反射镜和像平面以围绕公共光轴（PA）的中心布置布置。第一，第二，第三和第四反射镜位于物平面和图像平面之间。入射到位于物平面中的物体上的所述电磁辐射的主射线在从主光源朝向图像平面中的图像的方向上远离光轴倾斜。

89. 发明授权

KR100931335B1 격자 엘리먼트를 구비한 조명 시스템 有权
标题翻译： 유자엘리먼트를구비한조명시스템
公开(公告)号：KR100931335B1
公开(公告)日：2009-12-11
申请号：KR1020010059059
申请日：2001-09-24
申请人： 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하
发明人： 바이스,마르쿠스 , 싱거,볼프강 , 클리만,베른트 , 베도우스키,마르코
IPC分类号： G02B27/00
CPC分类号： G21K5/04 , B82Y10/00 , G02B5/09 , G02B19/0023 , G02B19/0047 , G02B19/0095 , G03F7/70083 , G03F7/70158 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70575 , G21K1/06
摘要： The system has at least one grid element (1), at least one physical stop (7.3) in a stop plane arranged after the grid element in the beam path from the object plane to the field plane and a collector unit for producing a convergent light beam that is incident on the grid element. The grid element produces light pencils of different orders of diffraction with individual focal points. Independent claims are also included for the following: a method of manufacturing microelectronic components and a projection illumination system for manufacturing microelectronic components.
摘要翻译：该系统具有至少一个网格元件（1），在从物平面到场平面的光路中布置在网格元件之后的停止平面中的至少一个物理光阑（7.3），以及用于产生会聚光的收集器单元入射在栅格元素上的光束。网格单元产生具有不同焦点的不同衍射级的光铅笔。独立权利要求还包括以下内容：制造微电子元件的方法和制造微电子元件的投影照明系统。

90. 发明公开

KR1020090018149A 광학 장치 无效
标题翻译：光学装置
公开(公告)号：KR1020090018149A
公开(公告)日：2009-02-19
申请号：KR1020087031005
申请日：2007-06-11
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 믹칸,우베 , 반디예셀동크,안토니우스요한네스요제푸스
IPC分类号： G02B27/18 , G02B27/14 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G03F7/70175 , G03F7/70583 , G02B27/18 , G02B17/002 , G02B17/0605 , G03F7/2037
摘要： An optical apparatus is disclosed that has a convex mirror and a concave mirror with an aperture, wherein, in use, radiation from a radiation emitter passes through the aperture and is incident upon the convex mirror before being incident upon the concave mirror, the optical apparatus arranged to form the radiation into a radiation beam, wherein the concave mirror is translatable towards and away from the convex mirror or the convex mirror is translatable towards and away from the concave mirror, to adjust divergence of the radiation beam.
摘要翻译：公开了一种光学装置，其具有凸面镜和具有孔径的凹面镜，其中在使用中，来自辐射发射器的辐射通过孔径，并且在入射到凹面镜之前入射在凸面镜上，光学装置布置成将辐射形成为辐射束，其中所述凹面镜可朝向和远离所述凸面反射镜平移，或者所述凸面镜可朝向和远离所述凹面镜面平移，以调节所述辐射束的发散度。

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