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71. 发明公开

KR1020150077533A 플라즈마 발생 장치 및 그를 포함하는 기판 처리 장치 审中-实审
标题翻译：等离子体生成装置和用于处理包含该基板的基板的装置
公开(公告)号：KR1020150077533A
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：KR1020130165436
申请日：2013-12-27
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 박승진 , 구일교 , 임두호 , 김영빈 , 성효성 , 이수진 , 해리멜리키안 , 엠마다니엘얀
IPC分类号： H05H1/46
CPC分类号： H01J37/321 , H01J37/32183 , H05H1/46 , H05H2001/4652 , H05H2001/4682
摘要： 본발명은플라즈마발생장치및 그를포함하는기판처리장치에관한것이다. 본발명의일 실시예에따른플라즈마발생장치는, RF 신호를생성하는 RF 전원; 상기 RF 신호를인가받아전자장을유도하여플라즈마를발생시키는다수의코일; 및상기 RF 전원으로부터공급되는전력을각각의코일로분배하는전력분배기를포함하되, 상기전력분배기는: 상기다수의코일중 제 1 코일에직렬로연결되는공진기; 및상기제 1 코일에병렬로연결되는가변리액턴스소자;를포함할수 있다.
摘要翻译：等离子体发生装置及其制造方法技术领域本发明涉及一种等离子体发生装置及其制造方法。根据本发明的实施例，等离子体产生装置包括：产生RF信号的RF电源; 多个线圈，接收RF信号，感应电场，产生等离子体; 以及从RF电源向每个线圈提供的电源的功率分配器。功率分配器包括：与线圈中的第一线圈串联连接的谐振器; 以及与第一线圈成一行地连接的可变电抗元件。

72. 发明公开

KR1020150077486A 플라즈마처리장치 및 플라즈마처리방법 审中-实审
标题翻译：等离子体加工设备和等离子体处理方法
公开(公告)号：KR1020150077486A
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：KR1020130164775
申请日：2013-12-27
申请人： 주식회사 원익아이피에스
发明人： 김신평 , 홍보한
IPC分类号： H05H1/46
CPC分类号： H01J37/32082 , H01J37/32174 , H01J37/3244 , H01J37/32715 , H05H1/46 , H05H2001/4645 , H05H2001/4682
摘要： 본발명은플라즈마처리장치에관한것으로서, 플라즈마를이용하여기판처리를수행하는플라즈마처리장치및 플라즈마처리방법에관한것이다. 본발명은, 밀폐된처리공간을형성하는공정챔버와; 상기공정챔버에설치되어기판을지지하는기판지지대와; 상기처리공간내에기판처리를위한가스공급부와; 상기가스공급부에의하여처리공간으로공급된가스를플라즈마화하도록 RF전원을발진하는발진부와, 상기발진부에의하여발진된 RF전원을펄스변조하는펄스변조부를포함하여서로다른주파수를가지는 RF전원을펄스형태로인가하는복수의전원인가부들과; 상기공정챔버내에서아크발생을감지하는하나이상의아크감지부와; 상기아크감지부에의한아크감지신호에따라서상기복수의전원인가부들의발진부를모두오프시키는출력정지부와; 상기복수의전원인가부들을제어하는제어부를포함하는것을특징으로하는플라즈마처리장치를개시한다.
摘要翻译：等离子体处理装置技术领域本发明涉及等离子体处理装置，更具体地，涉及能够使用等离子体处理基板的等离子体处理装置和等离子体处理方法。在本发明中，公开了等离子体处理装置，其包括形成密封处理空间的处理室，安装在处理室中并支撑基板的基板支撑架，用于在处理中处理基板的气体供给单元空间，振荡单元，其振荡通过气体供应单元供应到处理空间的气体的等离子体气化的RF功率;多个功率施加单元，包括执行由所述空气供给单元振荡的RF功率的脉冲调制的脉冲调制单元振荡单元，并以脉冲类型，一个或多个在感应室中检测电弧的电弧感测单元施加具有不同频率的RF功率;输出停止单元，其根据电弧感测信号关闭功率施加单元的振荡单元通过电弧感测单元和控制单元的控制单元。

73. 发明授权

KR101523484B1 고주파 전력 공급 장치, 및 반사파 전력 제어방법 有权
标题翻译：高频电源装置和反射波功率控制方法
公开(公告)号：KR101523484B1
公开(公告)日：2015-05-27
申请号：KR1020147034773
申请日：2013-06-03
申请人： 가부시끼가이샤교산세이사꾸쇼
发明人： 유즈리하라이쓰오 , 아이카와사토시 , 구니타마히로시
IPC分类号： H05H1/46 , H05H1/00
CPC分类号： H01J37/32174 , H01J37/32082 , H01J37/32146 , H01J37/32183 , H01J37/32944 , H01J37/3299 , H02M1/08 , H02M7/539 , H05H1/46 , H05H2001/4682
摘要： 플라즈마부하에고주파전력을공급하는고주파전력공급에있어서, 고주파전원의반사파전력을검출하고, 검출된반사파전력을이용하여고주파전원을제어하는반사파전력제어이며, 반사파전력의단시간변동에대하여반사파전력검출치의피크치변동에기초하여제어하고, 반사파전력의장시간변동에대하여반사파전력의검출치를평활하여얻어지는평활치의변동에기초하여제어한다. 반사파전력제어루프계로서, 반사파전력의피크변동에기초하여제어를행하는반사파전력피크량수하루프계및 아크차단계와, 반사파전력의전력평활량에기초하여제어를행하는반사파전력량수하루프계를구비한다. 고주파전원은플라즈마가착화할때까지의미착화상태에서, 진행파전력이모두반사파전력으로서전원측으로되돌아가는전반사파전력에대하여견딜수 있는전반사파대응화를행한다.

74. 发明公开

KR1020150054767A 플라즈마 처리 장치 및 필터 유닛 审中-实审
标题翻译：等离子体处理装置和过滤器单元
公开(公告)号：KR1020150054767A
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：KR1020157003670
申请日：2013-09-09
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 이토게이키 , 니시카와마사키 , 오쿠니시나오히코 , 시마다준이치 , 고야나기겐
IPC分类号： H01J37/32 , H05H1/46 , H01L21/67 , H03H7/38
CPC分类号： H05H1/46 , H01J37/32091 , H01J37/32165 , H01J37/32174 , H01J37/32577 , H01L21/67103 , H03H7/38 , H05H2001/4682
摘要： 처리용기내의고주파전극, 그밖의전기적부재로부터급전라인이나신호선등의선로상에들어오는유해한복수주파수의고주파노이즈에대하여, 효율적이면서안정확실하게충분히높은임피던스를부여하여, 플라즈마프로세스의재현성·신뢰성을향상시킨다. 필터유닛(54)(IN)은, 접지된원통형의도전성케이싱(104) 속에, 공심코일(AL, BL), 제1 콘덴서(AC, BC), 토로이달코일(AL, BL) 및제2 콘덴서(AC, BC)를위에서아래로이 순서로배치하고있다. 여기서, 공심코일(AL)(BL), 제1 콘덴서(AC)(BC), 토로이달코일(AL)(BL) 및제2 콘덴서(AC)(BC)는히터전원의한쪽(다른쪽)의출력단자와내측발열선의한쪽(다른쪽)의단자를전기적으로연결하는제1(제2) 급전라인상에있고, 내측발열선측에서봤을때 공심코일(AL)(BL)이첫 단에설치된다.

75. 发明公开

KR1020150039683A 플라즈마 처리 장치 有权
标题翻译：等离子体加工设备
公开(公告)号：KR1020150039683A
公开(公告)日：2015-04-13
申请号：KR1020140129974
申请日：2014-09-29
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 도조도시히로 , 사사키가즈오 , 미나미마사토
IPC分类号： H05H1/46 , H01L21/205 , H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32798 , H01J37/32183 , H01J37/32477 , H01J37/32651 , H05H1/46 , H05H2001/4682
摘要： 플라즈마처리장치에있어서, 처리용기의관통개구부에서의국소적플라즈마의발생을방지한다. 처리용기의관통개구부의개구바닥면에는, 임피던스조정부재로서의절연부재(45)가설치되어있다. 절연부재(45)는비유전율이 10 이하, 바람직하게는 4 이하인재료에의해서구성되어있고, 절연부재(45)에의해서플라즈마로부터본 관통개구부의전기임피던스를, 본체용기(2A)의라이너(60)보다크게해서, 게이트개구부(41)에있어서의국소적플라즈마의발생을방지할수 있다. 절연부재(45) 위에는커버부재(47)를마련하고, 절연부재(45)의표면을덮음으로써, 절연부재(45)를플라즈마에의한손상으로부터보호할수 있다.
摘要翻译：等离子体处理装置防止在处理容器的穿透开口中形成局部等离子体。作为阻抗调节构件的绝缘构件（45）安装在处理容器的贯通口的开口底面上。绝缘构件（45）由具有小于或等于10的材料制成，期望为4的电感率。通过绝缘构件（45）的大小比体容器（2A）的衬套（60）大的等离子体的穿透开口的电阻抗，能够在门开口41中防止局部等离子体的形成。盖构件（47）布置在绝缘构件（45）上。通过覆盖绝缘构件（45）的表面，绝缘构件（45）可以被等离子体保护。

76. 发明公开

KR1020150032602A 직류전원장치, 직류전원장치의 제어방법 有权
公开(公告)号：KR1020150032602A
公开(公告)日：2015-03-26
申请号：KR1020157006022
申请日：2012-09-05
申请人： 가부시끼가이샤교산세이사꾸쇼
发明人： 유즈리하라이쯔오 , 아다치도시유키 , 고다마신이치
IPC分类号： H02J1/00 , H02M3/315
CPC分类号： H02M3/33507 , H01J37/32027 , H01J37/32045 , H01T1/02 , H01T15/00 , H02J1/00 , H02M1/36 , H02M3/156 , H02M7/5387 , H02M2001/007 , H02M2001/325 , H05H1/46 , H05H1/48 , H05H2001/4682 , H02M3/315
摘要： 재기동시에 있어서의 펄스제어신호의 위상과 정지시에 있어서의 펄스제어신호의 위상을 일치시킴으로써, 재기동시에 있어서의 인버터 각 상의 출력전압 변동 및 부하에의 공급전압 변동을 억제한다. 직류전력을 플라즈마 발생장치에 공급할 때, 플라즈마 발생장치에 아크방전이 발생했을 때에, 직류전력의 공급을 정지하여 전극이나 기판의 손상을 저감하고, 또한 아크방전이 소호했을 때에, 직류전력의 공급을 재개한다. 직류출력의 정지·재개에 있어서, 정지시에 있어서 초퍼부에 흐르는 전류를 순환전류로서 유지하고, 인버터부의 재기동시에 있어서 이 순환전류를 부하에 공급함으로써, 직류출력의 재개시에 있어서의, 부하에의 직류전력의 공급지연을 저감한다.

77. 发明公开

KR1020140137965A 유도 결합 플라즈마 처리 장치 및 그 제어방법 审中-实审
标题翻译：电感耦合等离子体处理装置及其控制方法
公开(公告)号：KR1020140137965A
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：KR1020130059296
申请日：2013-05-24
申请人： 인베니아 주식회사
发明人： 임정환
IPC分类号： H05H1/46 , H01L21/3065 , H01L21/205
CPC分类号： H01J37/32183 , H01J37/3211 , H05H1/46 , H05H2001/4667 , H05H2001/4682
摘要： 본 발명에 따른 유도 결합 플라즈마 처리 장치는 챔버, 상기 챔버 외부의 유전체 창 외측에 구비되는 소스 코일, 상기 소스 코일에 연결되어 상기 소스 코일에서의 전류값을 감지하는 변류기, 상기 변류기에서 감지하는 전류값을 수신하여 처리하는 신호 처리부, 상기 신호 처리부로부터 전달받은 데이터를 이용하여 상기 챔버 내부의 공정 이상을 판단하는 제어부를 구비하는 것으로, 이러한 본 발명에 따른 유도 결합 플라즈마 처리 장치 및 그 제어방법은 공정 진행 중 소스 코일에서의 전류값 변화를 모니터링 하여 공정 이상을 감지하도록 함으로써 이후 장비의 메인티너스를 보다 효율적이고 안정적으로 진행할 수 있도록 하고, 메인티넌스 수행시에는 이상 발생시 획득한 데이터를 참조하여 특정 위치의 하드웨어에 대한 중점적인 유지 보수 작업이 가능하도록 하는 효과가 있다.
摘要翻译：根据本发明的电感耦合等离子体处理装置包括：腔室; 源极线圈，布置在室外的介电窗口的外部; 连接到源极线圈的电流互感器，用于感测源极线圈中的电流值; 信号处理单元，其接收并处理在所述电流互感器处感测的电流值; 以及控制器，其使用从所述信号处理单元传送的数据来确定所述室内的处理异常。通过使用根据本发明的电感耦合等离子体处理装置及其控制方法，监视源极线圈中的电流值变化，以在工艺期间感测过程异常，使得可以有效且稳定地保持设备。在维护过程中，通过参照发生异常时获得的数据，可以在特定位置的硬件上强制执行维护处理。

78. 发明公开

KR1020140132050A 유도 결합 플라즈마 발생용 안테나 구조체 有权
标题翻译：电感耦合等离子体天线结构
公开(公告)号：KR1020140132050A
公开(公告)日：2014-11-17
申请号：KR1020130051027
申请日：2013-05-07
申请人： 한국표준과학연구원
发明人： 유신재 , 김정형 , 신용현 , 성대진 , 김대웅
IPC分类号： H05H1/46
CPC分类号： H01J37/3211 , H01J37/32183 , H01Q1/366 , H05H1/46 , H05H2001/4667 , H05H2001/4682
摘要： 본 발명은 유도 결합 플라즈마 발생용 안테나 구조체를 제공한다. 이 안테나 구조체는 접지 전극판, 접지 전극판의 측면에 연결되고 접지 전극판의 주위에 배치된 유도 결합 안테나, 및 유도 결합 안테나에 전력을 분배하는 전력 분배부를 포함한다. 유도 결합 안테나는 접지 전극판에 각각 연결되고 접지 전극판의 중심을 기준으로 제1 사분면 내지 제4 사분면에 각각 배치된 제1 내지 제4 보조 안테나들을 포함한다. 제2 보조 안테나는 제1 보조 안테나가 시계방향으로 90도 회전한 형상으로 배치된다. 보조 안테나는 홀수 개의 안테나 브랜치들 및 안테나 브랜치들을 서로 연결하는 안테나 연결부들을 포함한다. 이웃한 안테나 브랜치들의 전류는 서로 반대 방향으로 흐른다.
摘要翻译：本发明提供一种用于产生电感耦合等离子体的天线结构。天线结构包括：接地电极板，与接地电极板侧连接并且设置在接地电极板周围的电感耦合天线;以及将电力分配给电感耦合天线的配电单元。电感耦合天线包括连接到接地电极板的第一至第四辅助天线，并且基于接地电极板的中心布置在第一至第四象限上。第二辅助天线布置成使得第一辅助天线顺时针旋转90度的形状。辅助天线包括连接天线分支的奇数天线分支和天线连接部分。相邻天线分支的电流沿相反的方向流动。

79. 发明公开

KR1020140106487A 반전 비반전 전원 공급 구조를 갖는 용량 결합 플라즈마 챔버 有权
标题翻译：具有反转和非反向电源的电容耦合等离子体室
公开(公告)号：KR1020140106487A
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：KR1020140100074
申请日：2014-08-04
申请人： 최대규
发明人： 최대규
IPC分类号： H05H1/34 , H05H1/46 , H01L21/3065 , H01L21/205
CPC分类号： H01J37/32091 , H01J37/32183 , H01J37/32541 , H05H1/46 , H05H2001/4675 , H05H2001/4682
摘要： The present invention relates to a capacitively coupled plasma chamber having a reversed and non-reversed power supply structure. The capacitively coupled plasma chamber having reversed and non-reversed power supply structure according to one embodiment of the present invention includes a plasma chamber; an upper electrode having multiple separation electrodes; a main power supply source for supplying plasma generation power; a phase control output device which supplies the plasma generation power to a lower electrode; a sub power supply source which supplies the plasma generation power to the lower electrode.
摘要翻译：本发明涉及具有反向和非反相电源结构的电容耦合等离子体室。根据本发明的一个实施例的具有反向和非反向电源结构的电容耦合等离子体室包括等离子体室; 具有多个分离电极的上电极; 用于提供等离子体发生电力的主电源; 相位控制输出装置，其将等离子体发生功率提供给下电极; 副电源，其将等离子体产生电力提供给下电极。

80. 发明授权

KR101427732B1 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치 有权
标题翻译：等离子体生成装置和基板处理装置
公开(公告)号：KR101427732B1
公开(公告)日：2014-08-07
申请号：KR1020120006458
申请日：2012-01-20
申请人： 한국과학기술원
发明人： 장홍영 , 서상훈 , 박기정
IPC分类号： H05H1/46 , H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32541 , H01J37/32082 , H01J37/32091 , H01J37/32165 , H05H1/46 , H05H2001/4675 , H05H2001/4682
摘要： 본 발명은 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 플라즈마를 형성하도록 제1 주파수의 제1 RF 전력을 공급받는 원판형의 제1 전극, 제1 전극의 둘레에 배치되고 제2 주파수의 제2 RF 전력을 공급받는 와셔 형태의 제2 전극, 제1 전극과 제2 전극 사이에 배치된 절연 스페이서, 제1 전극에 전력을 공급하는 제1 RF 전원, 및 제2 전극에 전력을 공급하는 제2 RF 전원을 포함한다.

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