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51. 发明公开

KR1020160055228A 콜렉터 审中-实审
标题翻译：集电极
公开(公告)号：KR1020160055228A
公开(公告)日：2016-05-17
申请号：KR1020167009502
申请日：2014-08-25
申请人： 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하
发明人： 데귄테르,마르쿠스
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/09 , G02B19/00 , G21K1/06
CPC分类号： G02B19/0023 , G02B5/09 , G02B19/0095 , G03F7/70075 , G03F7/70175 , G03F7/702 , G21K1/06 , G21K2201/064
摘要： 콜렉터(15)는방사선원영역으로부터조명옵틱스로 EUV 조명광을전달하는역할을한다. 콜렉터의이미징옵틱스(26)는다운스트림초점영역의방사선원영역(3)을이미징한다. 상기이미징옵틱스(26)는방사선원(3)이적어도하나의제 1 이미징스케일로 EUV 조명광 (14)에의해이미징되고, 상기 EUV 조명광(14)은상기방사선원영역(3)과상기다운스트림초점영역사이에서 20°미만의빔 각도로방출되는방식으로그리고상기방사선원(3)은 70°보다큰 빔각도로방출되는상기조명광(14)에의해적어도하나의제 2 이미징스케일로이미징되는방식으로구현된다. 한편으로, 20°미만의그리고다른한편으로 70°보다큰 빔각도에대한 2개의이미징스케일은 2.5 미만의인수로상이하다. 상응하는콜렉터에더하여, 조명시스템은필드패싯전달옵틱스를포함한다. 한편으로제 1 콜렉터이미징스케일과제 1 패싯이미징스케일의곱은다른한편으로제 2 콜렉터이미징스케일과제 2 패싯이미징스케일의곱은, 상기빔 각도와개별적으로관련되며 2.5 인수이하로상이하다. 이러한결과는조명또는오브젝트필드내로의상기 EUV 조명광의효율적인전달이보장되는콜렉터이다.

52. 发明公开

KR1020160054579A 조명 광학 유닛 및 EUV 투영 리소그래피용 조명 시스템 审中-实审
标题翻译：用于EUV投影光刻的照明光学和照明系统
公开(公告)号：KR1020160054579A
公开(公告)日：2016-05-16
申请号：KR1020167009359
申请日：2014-08-25
申请人： 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하
发明人： 파트라,미카엘
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/09 , G02B19/00
CPC分类号： G03F7/702 , G02B5/09 , G02B19/0095 , G03F7/70075 , G03F7/70116
摘要： 하류의이미징광학유닛(6)의오브젝트필드(3)가배치되는조명필드를조명하는역할을하는, EUV 투영리소그래피용조명광학유닛이제공된다. 오브젝트변위방향(y)으로변위가능한오브젝트(5)가결국오브젝트필드(3)에배치가능하다. 조명광학유닛의패싯미러(14)는서로나란히배치된복수의패싯들(13)을갖고, EUV 조명광(9)의빔의부분빔들(9i)을상기오브젝트필드(3)로반사및 중첩안내하는역할을한다. 패싯미러(14)는, 패싯미러(14)의각각의패싯(13)의위치와패싯미러(14)의각각의패싯(13)상의부분조명광빔(9i)의충돌영역이오브젝트필드(3)의필드포인트들에대한조명방향을미리정의하도록배치된다. 각각의패싯(13)상의부분조명광빔(9i)의충돌영역의가장자리윤곽이오브젝트필드(3)의필드형상을미리정의한다. 각각의패싯(13)은연속정적반사면(15)을갖는다. 이러한조명광학유닛에따르면, 종래기술과비교하여, 감소된제조경비로정반사성반사기를실현할수 있다.

53. 发明公开

KR1020160003479A 플라즈마 광원, 그 광원을 구비한 검사 장치 및 플라즈마 광 생성 방법 审中-实审
标题翻译：等离子体光源，包含相同光源的检测装置和产生等离子体光的方法
公开(公告)号：KR1020160003479A
公开(公告)日：2016-01-11
申请号：KR1020140081983
申请日：2014-07-01
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박영규 , 김욱래 , 김광수 , 김태중 , 전병환
IPC分类号： H05G2/00 , H01L21/027 , G21K5/00
CPC分类号： G02B27/141 , G02B17/0856 , G02B19/0028 , G02B19/0047 , G02B19/0095 , H01J65/04
摘要： 본발명의기술적사상은플라즈마점화가용이하고, 플라즈마세기를극대화할수 있으며, 발생한플라즈마광을효과적으로집광하여출력함으로써, 고휘도의광원을구현할수 있는플라즈마광원, 그광원을구비한검사장치및 플라즈마광 생성방법을제공한다. 그플라즈마광원은플라즈마점화(ignition)용매체물질을수용하고, 점화원(ignition source)에의해플라즈마가점화되며, 레이저(laser)가입사되어상기플라즈마가유지되는챔버; 및내부면과외부면의코팅이다른제1 복합곡면거울(hybrid curved mirror)과내부면과외부면의코팅이다른복합거울이서로마주보는구조로배치되어, 상기레이저및 상기챔버로부터의방출된플라즈마광을반사시키는이중복합거울;를포함한다.
摘要翻译：在本发明中，提供了一种容易等离子体点火的等离子体光源，其能够通过有效地集中所产生的等离子体光并输出浓缩光，使等离子体的强度最大化并实现高亮度的光源，等离子体光源，以及用于产生等离子体光的方法。等离子体光源包括：用于容纳用于点火的介质材料的腔室，通过点火源点燃等离子体，并且通过激光的照射来维持等离子体; 以及双重混合镜，用于通过具有彼此面对的第一混合曲面镜和另一混合曲面镜来反射从腔室发射的激光和等离子体光。其中，第一个和另一个混合曲面镜在内部和外部都有不同的涂层。

54. 发明公开

KR1020150122655A 광학 모듈 审中-实审
标题翻译：光学模块
公开(公告)号：KR1020150122655A
公开(公告)日：2015-11-02
申请号：KR1020157022507
申请日：2014-02-25
申请人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
发明人： 호른얀 , 크나우프베네딕트
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/182 , G02B26/08 , G02B5/09
CPC分类号： G02B7/1827 , G02B5/0891 , G02B5/09 , G02B7/1822 , G02B19/0095 , G02B26/0833 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70141 , G03F7/702 , G03F7/70825 , G21K1/067
摘要： 본발명은광학요소(109)와광학요소(109)를지지하기위한지지구조(108)를포함하는광학모듈, 특히, 패싯거울에관한것으로, 지지구조(108)는적어도하나의자유도로광학요소(109)의위치및/또는배향을능동적으로설정하기위한위치설정장치(111)를포함한다. 지지구조(108)는제1 접촉섹션(113.2)을갖는적어도하나의접촉유닛(113.1)을갖는선택적으로작동가능한접촉장치(113)를포함하고, 제1 접촉섹션(113.2)은접촉장치(113)의작동된상태에서, 광학요소(109; 209) 상에접촉력을작용하기위해광학요소(109)의제2 접촉섹션(109.4)과접촉하고, 제1 접촉섹션(113.2)은접촉장치(113)의비작동상태에서제2 접촉섹션(109.4)으로부터제거된다.
摘要翻译：本发明涉及一种光学模块，特别是面镜，包括光学元件和用于支撑光学元件的支撑结构，其中支撑结构包括用于主动地设置光学元件的位置和/或取向的定位装置至少一个自由度。支撑结构包括具有至少一个具有第一接触部分的接触单元的可选择性激活的接触装置，其中在接触装置的激活状态下的第一接触部分接触光学元件的第二接触部分，以便施加接触装置的停用状态下的第一接触部分从第二接触部分移除。

55. 发明公开

KR1020140123556A 반사 결상 광학계, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법 审中-实审
标题翻译：反射成像光学系统，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR1020140123556A
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：KR1020147024449
申请日：2013-01-30
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 가와베요시오
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G02B17/0657 , G02B19/0023 , G02B19/0095 , G03F7/70233 , H01L21/0274
摘要： 예컨대 EUV 광을 이용하는 노광 장치에 적용되었을 때에, 장치의 풋 프린트를 작게 억제할 수 있는 반사 결상 광학계. 조명 광학계로부터의 광으로 조명된 제1 면에 배치되는 패턴의 이미지를 제2 면에 결상하는 반사 결상 광학계는, 제1 면에서 반사된 광을, 제1번째로 반사하는 제1 반사경과, 제2번째로 반사하는 제2 반사경을 포함하는 복수의 반사경을 구비하고 있다. 조명 광학계로부터의 광이 제1 면에 조사하는 영역을 피조사 영역으로 하고, 제1 면 상에 있어서 피조사 영역이 위치하는 부분을, 복수의 반사경의 광축보다 정해진 방향측이라고 할 때, 제1 반사경의 반사 영역 및 제2 반사경의 반사 영역은, 복수의 반사경의 광축보다 정해진 방향측에 위치하며, 조명 광학계로부터의 광의 광로를 사이에 끼우도록, 제1 반사경 및 제2 반사경이 배치된다.

56. 发明公开

KR1020140045399A EUV 리소그래피용 반사 광학 소자 및 광학계 审中-实审
标题翻译：反射光学元件和光学系统的EUV LITHOGRAPHY
公开(公告)号：KR1020140045399A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：KR1020137033157
申请日：2012-05-15
申请人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
发明人： 에엠하인리히디어크 , 후버페터 , 뮐렌더슈테판 , 블랑켄하겐기젤라본
IPC分类号： G02B1/10 , G02B5/08 , G02B27/00 , G02B19/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/2008 , B82Y10/00 , G02B1/105 , G02B1/14 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B19/0095 , G02B27/0006 , G03F7/2004 , G03F7/70316 , G03F7/70916 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/067 , Y10T428/265
摘要： 특히 EUV 리소그래피 장치 내부에서 반사 광학 소자의 수명에 대한 반응성 수소의 부정적 영향을 감소시키기 위해, 다층 시스템(51)을 갖는 반사면을 갖는 반사 광학 소자(50)가 극자외선 및 소프트 X선 파장 영역에 제공되고, 이 경우에 반사면(60)은 탄화규소 또는 루테늄으로 구성된 최상층(56)을 갖는 보호층 시스템(59)을 가지며, 상기 보호층 시스템(59)은 5nm 내지 25nm의 두께를 갖는다.

57. 发明公开

KR1020140045346A 레이저빔의 확장 장치 및 방법 审中-实审
标题翻译：用于增强激光束的装置和方法
公开(公告)号：KR1020140045346A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：KR1020137026820
申请日：2012-03-15
申请人： 트룸프 레이저 게엠베하
发明人： 발메로트클라우스 , 틸코른크리스토프 , 짜비샤이보
IPC分类号： G02B27/09 , G02B17/08
CPC分类号： G02B19/0028 , G02B17/0812 , G02B19/0095 , G02B27/09 , G02B27/0927 , G02B27/0977
摘要： 본 발명은 레이저빔, 특히 UV 레이저빔(4)의 확장 장치에 관한 것으로서, 이 레이저빔 확장 장치는 평행 입사 레이저빔(4)을 확장하기 위한 2개의 구형 폴딩 미러(7, 8)를 가지는 텔레스코픽 장치(6) 및 확산 빔 경로에서 이 텔레스코픽 장치(7, 8)의 하류에 배치되어 있으며 확장된 레이저 빔(5)의 콜리메이션을 위한 구형 렌즈면(3a)을 가지는 렌즈(3)를 포함하며, 빔 경로 내 제1 폴딩 미러는 볼록하게 만곡된 구형 폴딩 미러(7)이고, 빔 경로 내 제2 폴딩 미러는 오목하게 만곡된 구형 폴딩 미러(8)이다. 또한, 본 발명은 레이저 빔을 확장하기 위한 관련 방법에 관한 것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于扩大激光束，特别是UV激光束的装置，包括：望远镜装置，其具有两个用于扩大入射的准直激光束的球面折叠镜，以及布置在发散光束路径下游的透镜望远镜布置，并且具有球面透镜面，用于准直扩大的激光束，光束路径中的第一折叠镜是凸曲面的球形折叠镜，而光束路径中的第二折叠镜是凹曲面的球形折叠镜。本发明还涉及一种用于扩大激光束的相关方法。

58. 发明公开

KR1020110104904A 투영 리소그라피용 조명 광학 시스템 审中-实审
标题翻译：用于投影光刻的照明光学系统
公开(公告)号：KR1020110104904A
公开(公告)日：2011-09-23
申请号：KR1020110023376
申请日：2011-03-16
申请人： 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하
发明人： 만,한스-위르겐
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70075 , G02B19/0023 , G02B19/0047 , G02B19/0095 , G02B27/0905 , G02B27/0977 , G03F7/70091 , G03F7/702 , G03F7/70233
摘要： 이후에 놓이는 이미징 광학 시스템의 오브젝트 필드를 배치할 수 있는 조명 필드의 조명을 위한 투영 리소그라피용 조명 광학 시스템은 패싯 미러(facet mirror)를 갖는다. 패싯 미러는, 조명광 선속의 부분 선속(24)의 반사 안내를 위해 다수의 패싯(7)을 갖는다. 패싯(7)의 반사면(25)은 각 경우에 틸트될 수 있다. 제1 조명 틸트 위치에서, 틸트될 수 있는 패싯(7)은, 이들에 충돌하고 있는 부분 선속(24)을 제 1 오브젝트 필드 조명 채널(26
1 )을 따라 조명 필드로 안내한다. 추가적인 조명 틸트 위치에서, 틸트될 수 있는 패싯(7)은, 이들에 충돌하고 있는 부분 선속(24)을 추가적인 오브젝트 필드 조명 채널(26
2 )을 따라 조명 필드로 안내한다. 틸트될 수 있는 패싯(7)의 반사면(25)은, 적어도 두 개의 조명 틸트 위치에서의 부분 선속(24)이 +/-10%의 허용 범위 내에서 일치하는 반사도(R)로 반사되도록 구성된다. 그 결과로, 조명 광학 시스템의 조명 광 처리량에 대한 틸트될 수 있는 패싯의 조명 틸트 위치의 원치 않는 영향을 회피하는 조명 광학 시스템을 얻게 된다.

59. 发明授权

KR101028304B1 발광 장치 有权
标题翻译：发光装置
公开(公告)号：KR101028304B1
公开(公告)日：2011-04-11
申请号：KR1020100011445
申请日：2010-02-08
申请人： 엘지이노텍 주식회사
发明人： 민봉걸
IPC分类号： H01L33/58
CPC分类号： F21V5/04 , F21V7/0066 , F21Y2115/10 , G02B19/0028 , G02B19/0061 , G02B19/0071 , G02B19/0095 , H01L25/0753 , H01L33/54 , H01L33/58 , H01L33/60 , H01L2224/48091 , H01L2224/48247 , H01L2224/8592 , H01L2924/181 , H01L2924/00014 , H01L2924/00 , H01L2924/00012
摘要： PURPOSE: A light emitting device is provided to protect a light emitting device and improve light extraction efficiency by forming an encapsulating layer to surround a light emitting device package. CONSTITUTION: A first electrode(26) and a second electrode are formed on a package body(21). A light emitting device(22) is electrically connected to the first electrode and the second electrode. A reflection layer(37) is formed on the part of a lens(30). The lens includes a concave part(32). The concave part includes a first concave part formed on the upper side of the lens and a second concave part which is separated from the first concave part.
摘要翻译：目的：提供发光器件以保护发光器件，并通过形成封装层来包围发光器件封装来提高光提取效率。构成：第一电极（26）和第二电极形成在封装主体（21）上。发光器件（22）电连接到第一电极和第二电极。在透镜（30）的一部分上形成反射层（37）。透镜包括凹部（32）。凹部包括形成在透镜的上侧的第一凹部和与第一凹部分离的第二凹部。

60. 发明公开

KR1020090015962A 고출력 펄스 레이저 어플리케이션을 위한 빔 형상 및 대칭도를 안정화시키는 디바이스 및 방법 有权
标题翻译：用于稳定高能激光激光应用的光束形状和对称性的装置和方法
公开(公告)号：KR1020090015962A
公开(公告)日：2009-02-12
申请号：KR1020087030013
申请日：2007-05-22
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 호프만토마스
IPC分类号： H01S3/08 , H01S3/05
CPC分类号： G02B19/0095 , G02B19/0028 , G02B19/0052 , G02B19/0061 , G02B27/0977 , H01S3/005 , H01S3/225
摘要： A beam mixer for increasing intensity symmetry along a selected axis of a beam (wherein the beam extends from a first edge to a second edge along the axis) is disclosed and may include a plurality of mirrors establishing a spatially inverting path. For the beam mixer, the inverting path may have a beginning and an end and may be characterized in that a part of the beam near the first beam edge at the beginning of the path translates to the second beam edge at the end of the path. For this aspect, the beam mixer may further include an optic dividing the beam into first and second beam portions, the optic placing the first portion onto the inverting path and recombining the first and second portions onto a common path after the first portion has traveled along the inverting path thereby mixing the beam.
摘要翻译：公开了一种用于沿着选定的光束轴（其中光束沿着轴从第一边缘延伸到第二边缘）增加强度对称性的束混合器，并且可以包括建立空间反转路径的多个反射镜。对于光束混合器，反转路径可以具有开始和结束，并且其特征在于，在路径开始处靠近第一波束边缘的波束的一部分平移到路径末端处的第二波束边缘。对于该方面，光束混合器还可以包括将光束分成第一和第二光束部分的光学部件，光学元件将第一部分放置在反转路径上，并且在第一部分沿着沿着第一部分行进之后将第一部分和第二部分复合到公共路径上反转路径由此混合光束。

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