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1. 发明公开

KR1020160030125A 회전체 미러를 사용한 X선 집광시스템의 광학설계방법 및 X선 집광시스템 审中-实审
标题翻译：使用旋转镜的X射线聚焦系统的光学设计方法和X射线聚焦系统
公开(公告)号：KR1020160030125A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：KR1020157036920
申请日：2014-02-03
申请人： 고쿠리츠다이가쿠호우진 도쿄다이가쿠
发明人： 모토야마히로토 , 미무라히데카즈
IPC分类号： G21K1/06 , G02B5/10 , G02B19/00
CPC分类号： G21K1/067 , G02B5/10 , G02B19/0023 , G21K2201/064
摘要： 발산각이매우작은 X선을회전체미러의전체면에조사하면서, 전체플럭스를집광하는것이가능한새로운 X선집광시스템의광학설계방법을제공한다. X선집광시스템의집광점이되는초점(F)을하류측에구비하고, 상류측의초점(F1)을광축(OA)으로부터벗어난위치에설정한타원또는타원과쌍곡선을조합시킨일부로이루어지는 1차원프로필을, 광축(OA)을중심으로하여 1회전시켜서형성되는반사면을구비한회전체미러(3)의형상을결정하는스텝과, 상류측의초점(F1)의궤적이만드는집광링(R)을통과하고, 집광점으로부터 X선원(O)으로역광선추적을하여광로길이가일정한구속조건하에서, X선원(O)으로부터조사된 X선빔(5)을반사하여넓혀서집광링(R)에집광하는기능을갖춘링집광미러(4)의반사면의형상을, 역광선추적의광선의굴곡점의좌표(P)의집합으로서결정하는스텝으로이루어진다.

2. 发明授权

KR101551342B1 ＥＵＶ-방사선에 대한 격자, 격자를 제조하는 방법, 및 파면 측정 시스템 有权
标题翻译： - 用于制造光栅和波形测量系统的EUV辐射方法的光刻
公开(公告)号：KR101551342B1
公开(公告)日：2015-09-08
申请号：KR1020107016421
申请日：2008-12-19
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 크루이진가,보거트 , 베렌스,마르틴게라르드도미니크 , 니케르크,미치엘다비드 , 펜스트라,코르넬리스프리츠
IPC分类号： G02B5/18 , G03F7/20
CPC分类号： G02B5/1838 , G02B5/1857 , G02B5/1861 , G03F7/70316 , G03F7/706 , G21K1/06 , G21K1/067
摘要： EUV-방사선에대한격자는복수의반사라인들을포함한다. 각각의반사라인은서로교번하여배치된복수의제 1 반사도트들및 복수의제 2 반사도트들을포함한다. 제 1 반사도트들및 제 2 반사도트들은 180±10 도 mod 360 도의상호위상차로 EUV-방사선을반사시키도록구성된다.

3. 发明公开

KR20120015568A A neutron polarizing cavity using double a polarizing neutron mirror 有权
标题翻译：使用双极偏振中子镜的中性偏振光
公开(公告)号：KR20120015568A
公开(公告)日：2012-02-22
申请号：KR20100077754
申请日：2010-08-12
申请人： KOREA ATOMIC ENERGY RES
发明人： CHO SANG JIN , SEONG BAEK SEOK
IPC分类号： G21K1/06 , H05H3/06
CPC分类号： G21K1/067 , G21K1/006 , H05H3/06
摘要： PURPOSE: A NEUTRON POLARIZING CAVITY USING DOUBLE A POLARIZING NEUTRON MIRROR is provided to obtain high polarizability through a polarized neutron mirror without increasing the length of a polar machine according to the arrangement of a polarized neutron mirror. CONSTITUTION: A body(10) forms a vacuum space therein where a neutron is transferred. The neutron mirror is comprised of a double layers structure of a titanium thin film and a nickel thin film which have various thicknesses. A plurality of polarizing members(20) are formed within the body. A plurality of polarizing members is arranged along the neutron wavelength by a regular interval. The folding angle of the polarizing members is formed with corresponding to the wavelength of the neutron beam entering the body.
摘要翻译：目的：使用双极偏振中子镜的中性偏振腔被提供以通过偏振中子镜获得高极化率，而不会根据偏振中子镜的布置增加极性机器的长度。构成：身体（10）在其中传送中子的真空空间。中子镜由具有各种厚度的钛薄膜和镍薄膜的双层结构构成。多个偏振构件（20）形成在主体内。多个偏振构件沿着中子波长以规则的间隔布置。偏振构件的折叠角度与进入身体的中子束的波长相对应地形成。

4. 发明公开

KR1020100124789A 광학 요소, 이러한 광학 요소를 포함하는 리소그래피 장치, 디바이스 제조방법, 및 이에 의하여 제조되는 디바이스 有权
标题翻译：光学元件，包括这种光学元件的光刻设备，器件制造方法及其制造的器件
公开(公告)号：KR1020100124789A
公开(公告)日：2010-11-29
申请号：KR1020107021537
申请日：2009-02-24
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 소어,보우터안톤 , 바니네,바딤예프겐예비치 , 무어스,요한네스후베르투스요제피나 , 반헤르펜,마르텐마리누스요한네스빌헬무스 , 야쿠린,안드레이미카일로비치
IPC分类号： G02B5/20 , G03F7/20 , G02B5/22 , G21K1/06
CPC分类号： G02B5/208 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G02B5/22 , G02B5/26 , G03F7/70191 , G03F7/702 , G03F7/70575 , G03F7/70958 , G21K1/067 , G21K2201/061 , G21K2201/064 , G21K2201/065 , G21K2201/067
摘要： 광학 요소는, 제 1 재료를 포함하며 제 1 파장의 방사선에 대해 실질적으로 반사적이고, 제 2 파장의 방사선에 대해 실질적으로 투과적으로 구성되는 제 1 층(4)을 포함한다. 광학 요소는, 제 2 재료를 포함하며 상기 제 2 파장의 방사선에 대해 실질적으로 흡수적 또는 투과적으로 구성되는 제 2 층(2)을 포함한다. 광학 요소는, 상기 제 1 층과 상기 제 2 층 사이의 제 3 재료를 포함하며 상기 제 2 파장의 방사선에 대해 실질적으로 투과적이고 상기 제 1 층과 대향되는 상기 제 2 층의 최상부 표면으로부터 상기 제 2 파장의 방사선의 반사를 저감시키도록 구성되는 제 3 층(3)을 포함한다. 상기 제 1 층은 상기 제 2 층에 대한 입사 방사선의 광학 경로에서 상류에 배치되어 상기 제 1 파장의 방사선의 스펙트럼 순도를 향상시킨다.

5. 发明公开

KR1020040004384A 마이크로리소그래피를 위한 조명 시스템 无效
公开(公告)号：KR1020040004384A
公开(公告)日：2004-01-13
申请号：KR1020037004516
申请日：2001-09-28
申请人： 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하
发明人： 안토니,마틴 , 싱어,볼프강 , 방글러,요하네스
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G21K1/06 , B82Y10/00 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70091 , G03F7/70108 , G03F7/70166 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70358 , G03F7/708 , G03F7/70891 , G21K1/067 , G21K2201/06 , G21K2201/064
摘要： 본 발명은 주요 광원; 제 1 광학부; 제 2 광학부; 이미지면과 출사 동공으로 구성되고, 상기 제 1 광학부가 주요 광원을 상기 출사 동공 내 상기 제 2 광학부에 의해 상형성된 다수의 제 2 광원으로 변형시킨다는 점, 상기 제 1 광학부가 상기 이미지면 내의 필드 상에 적어도 부분적으로 겹쳐진 다수의 상을 형성하는 상기 이미지면 내로 상이 형성되는 다수의 제 1 래스터 요소를 가진 제 1 광학적 요소를 포함한다는 점, 상기 다수의 제 1 래스터 요소가 사각형이라는 점, 상기 제 2 광학부는 상기 환형 구획에 상기 필드를 형성하는 음의 광학적 힘을 가진 제 1 필드 거울과 양의 광학적 힘을 가진 제 2 필드 거울을 포함한다는 점, 다수의 광선 각각이 70°이상의 입사각을 가진 상기 제 1 필드 거울을 가로지른다는 점, 다수의 광선 각각이 25°이상의 입사각을 가진 상기 제 2 필드 거울을 가로지른다는 점을 특� �으로 하는 특히 파장 193 nm 이하의 마이크로리소그래피를 위한 조명 시스템에 관한 것이다.

6. 发明公开

KR1020170113654A EUV 투영 리소그라피를 위한 조명 광학기기 审中-实审
标题翻译：用于EUV投影光刻的照明光学器件
公开(公告)号：KR1020170113654A
公开(公告)日：2017-10-12
申请号：KR1020177025110
申请日：2016-02-02
申请人： 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하
发明人： 빈클러,알렉산더 , 렌쯔,다니엘 , 피셔,토마스
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70166 , G02B19/0023 , G02B26/0833 , G03F7/70075 , G03F7/70108 , G03F7/70116 , G03F7/70141 , G03F7/70191 , G03F7/702 , G21K1/067
摘要： EUV 투영리소그라피용조명광학유닛은필드패싯미러와동공패싯미러를포함한다. 각각의하나의조명채널을통해, 각각의사용된조명광 부분빔빔(16)이정확히하나의필드패싯과정확히하나의동공패싯(29)을통해광원과오브젝트필드사이에서안내된다. 정정동공패싯으로서사용할수 있는적어도일부동공패싯(29)이, 광원의이미지가조명채널(16)을따라동공패싯(29)으로부터거리를두고놓인이미지위치에서발생하도록동공패싯에충돌하는조명광 부분빔(16)의빔 경로에배치된다. 변위액추에이터(31)에신호연결되며, 정정필드패싯으로서사용할수 있는적어도일부필드패싯의제어된변위를위한정정제어디바이스(32)는, 정정필드패싯에대한정정변위경로가커서, 조명광 부분빔(16)이그 전체가정정동공패싯(29)으로부터오브젝트필드로전달되지않도록각각의정정조명채널(16)이정정동공패싯(29)에의해마진에서트리밍되게구현된다. 조명광학유닛을사용하여, 조명광학유닛(4)의오브젝트필드의횡방향필드좌표(x)에대한조명광(16)의최소조명세기를규정하는방법을수행할수 있다.
摘要翻译：用于EUV投影光刻的照明光学单元包括场分面镜和光瞳分面镜。通过每一个照明通道，每个使用的照明部分光束16在光源和物场之间的恰好一个场面和精确的一个光瞳面29之间被引导。照明部波束中，至少一些光瞳琢面可以被用作校正光瞳面29，其中所述光源的图像被放置在从光瞳的距离在图像中发生在光瞳分碰撞根据一个照明通道16刻面29 16设置uibim路径。位移信号连接到致动器31，用于至少小面的受控位移校正场校正控制装置（32），一些可以被用作小面的字段是正确的场校正位移路径刻面大，照明部的梁（这样实施图16，使得每个校正照明通道16被校正球面29在边缘修整，使得整个图像不从校正光瞳面29传递到对象场。可以使用照明光学单元来执行定义照明光16相对于照明光学单元4的物场的横向场坐标x的最小照明强度的方法。

7. 发明授权

KR101670518B1 광학 소자의 온도 제어 장치 有权
标题翻译：用于控制光学元件温度的装置
公开(公告)号：KR101670518B1
公开(公告)日：2016-10-28
申请号：KR1020107010022
申请日：2008-10-07
申请人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
发明人： 하우프마르쿠스
IPC分类号： G05D23/19
CPC分类号： G03F7/70891 , G02B5/08 , G02B5/0891 , G02B7/008 , G02B7/1815 , G03B27/26 , G03F7/70008 , G03F7/70825 , G05D23/1919 , G21K1/067 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： 진공분위기에제공되는광학소자의온도를제어하기위한장치가제공된다. 상기온도제어장치는복사열전달에의해광학소자를냉각시키기위해광학소자로부터이격배치되는복사냉각부를갖는냉각장치를갖는다. 제어기는복사냉각부의온도를제어하는작용을한다. 상기온도제어장치는광학소자를가열하기위한가열부를추가로포함한다. 상기가열부는가열부의온도를제어하기위한제어기에연결된다. 결과적인온도제어장치는특히 EUV 마이크로리소그래피도구내의광학소자와함께사용되어그 광학계의안정적인성능을도출할수 있다.

8. 发明授权

KR101561999B1 광학 요소, 이러한 광학 요소를 포함하는 리소그래피 장치, 디바이스 제조방법, 및 이에 의하여 제조되는 디바이스 有权
标题翻译：光学元件光刻设备，包括这样的光学元件制造方法和制造的器件
公开(公告)号：KR101561999B1
公开(公告)日：2015-10-20
申请号：KR1020107021537
申请日：2009-02-24
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 소어,보우터안톤 , 바니네,바딤예프겐예비치 , 무어스,요한네스후베르투스요제피나 , 반헤르펜,마르텐마리누스요한네스빌헬무스 , 야쿠린,안드레이미카일로비치
IPC分类号： G02B5/20 , G03F7/20 , G02B5/22 , G21K1/06
CPC分类号： G02B5/208 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G02B5/22 , G02B5/26 , G03F7/70191 , G03F7/702 , G03F7/70575 , G03F7/70958 , G21K1/067 , G21K2201/061 , G21K2201/064 , G21K2201/065 , G21K2201/067
摘要： 광학요소는, 제 1 재료를포함하며제 1 파장의방사선에대해실질적으로반사적이고, 제 2 파장의방사선에대해실질적으로투과적으로구성되는제 1 층(4)을포함한다. 광학요소는, 제 2 재료를포함하며상기제 2 파장의방사선에대해실질적으로흡수적또는투과적으로구성되는제 2 층(2)을포함한다. 광학요소는, 상기제 1 층과상기제 2 층사이의제 3 재료를포함하며상기제 2 파장의방사선에대해실질적으로투과적이고상기제 1 층과대향되는상기제 2 층의최상부표면으로부터상기제 2 파장의방사선의반사를저감시키도록구성되는제 3 층(3)을포함한다. 상기제 1 층은상기제 2 층에대한입사방사선의광학경로에서상류에배치되어상기제 1 파장의방사선의스펙트럼순도를향상시킨다.

9. 发明授权

KR101281445B1 조리개 변경 장치 有权
标题翻译：膜片改变装置
公开(公告)号：KR101281445B1
公开(公告)日：2013-07-02
申请号：KR1020127019652
申请日：2003-12-18
申请人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
发明人： 비크헤르만 , 빌마르쿠스 , 비숍토마스 , 콴임-분패트릭 , 뉴옌우이-리엠 , 크살터슈테판 , 뮐바이어미카엘
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B5/005 , G02B13/143 , G02B17/02 , G03F7/7025 , G03F7/70825 , G21K1/04 , G21K1/067
摘要： 본 발명은 광학 이미지 형성 장치, 특히 반도체 구성소자를 제조하기 위한 EUVL 영역에서의 마이크로리토그래피용 대물렌즈(1)에 관한 것이며, 상기 장치는 하나의 빔 경로(2), 복수의 광학 소자(3), 및 조절 가능한 조리개 개구 형태를 갖는 조리개 장치(7)를 구비한다. 조리개 장치는 각각의 경우 고정된 형태를 갖는 복수의 상이한 조리개 개구(6)를 구비한 조리개 저장기(7a, 7b)를 가지며, 조리개 장치 빔 경로(2) 내로 도입될 수 있다.

10. 发明公开

KR20120092745A MANUFACTURING METHOD OF X-RAY/GAMMA-RAYgamma-RAY) FOCUSING OPTICS USING ATOMIC LAYER DEPOSITION 有权
标题翻译： X射线/伽玛伽玛射线的制造方法）使用原子层沉积的聚焦光学
公开(公告)号：KR20120092745A
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：KR20100138051
申请日：2010-12-29
申请人： POSTECH ACAD IND FOUND
发明人： JUNG JI WON , JE JUNG HO
IPC分类号： G21K7/00 , C23C16/30 , C23C16/44
CPC分类号： G02B3/08 , B82Y10/00 , C23C16/45555 , G21K1/062 , G21K1/067 , G21K2201/061 , G21K2201/067
摘要： PURPOSE: A manufacturing method of a X-ray/gamma-ray(γ-ray) focusing optical system using atomic layer deposition is provided to have high definition and high aspect ratio by adjusting the thickness of the outermost layer of a multilayer thin film structure as an atomic unit. CONSTITUTION: A capillary tube substrate is provided(ST51). An X-ray/gamma-ray opaque material is successively deposited by atomic layer deposition on the inner surface of the capillary tube(ST52). An X-ray/gamma-ray transparent material is successively deposited by atomic layer deposition on the inner surface of the capillary tube(ST53). A multilayer thin film structure is formed in the capillary tube by alternatively depositing the X-ray/gamma-ray opaque material and the X-ray/gamma-ray transparent material(ST54).
摘要翻译：目的：通过调整多层薄膜结构的最外层的厚度，提供使用原子层沉积的X射线/γ射线（γ射线）聚焦光学系统的制造方法以具有高清晰度和高纵横比作为原子单位。规定：提供毛细管基板（ST51）。通过原子层沉积在毛细管的内表面上连续沉积X射线/γ射线不透明材料（ST52）。通过原子层沉积在毛细管的内表面上连续沉积X射线/γ射线透明材料（ST53）。通过交替沉积X射线/γ射线不透明材料和X射线/γ射线透明材料，在毛细管中形成多层薄膜结构（ST54）。

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